[實用新型]一種可提高校驗周期的光譜分析儀

有效

• 申請號: 200720070766.2
• 申請日: 2007-06-08
• 公開（公告）號: CN201051073Y
• 公開（公告）日: 2008-04-23
• 發明（設計）人: 石春來
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司
• 主分類號: G01N21/27
• 分類號: G01N21/27
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 王潔

1.一種可提高校驗周期的光譜分析儀，其包括樣品采集模塊、裝有樣品采集模塊所采集的樣品的待測樣品模塊、用于產生測試用光的光源模塊、用于對透過待測樣品模塊的光進行光學處理的光學處理模塊以及用于對光學處理模塊處理后的光進行光譜分析的光譜分析模塊，該光學處理模塊包括多個反射鏡，其中，該多個反射鏡設置在一暗室中，其特征在于，該暗室中設置一抽風模塊。

2.如權利要求1所述的可提高校驗周期的光譜分析儀，其特征在于，該抽風模塊包括用于產生負壓的負壓驅動單元和與其相連接的抽風管路。

3.如權利要求2所述的可提高校驗周期的光譜分析儀，其特征在于，該暗室具有一狹縫，該抽風管路通過該狹縫設置在該暗室中。

4.如權利要求1所述的可提高校驗周期的光譜分析儀，其特征在于，該反射鏡的數目為三個。

5.如權利要求1所述的可提高校驗周期的光譜分析儀，其特征在于，該光學處理模塊還包括一透鏡。