[實用新型]一種可提高校驗周期的光譜分析儀

有效

• 申請號: 200720070766.2
• 申請日: 2007-06-08
• 公開（公告）號: CN201051073Y
• 公開（公告）日: 2008-04-23
• 發明（設計）人: 石春來
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司
• 主分類號: G01N21/27
• 分類號: G01N21/27
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 王潔

技術領域

本實用新型涉及光譜分析儀，特別涉及一種可提高校驗周期的光譜分析儀。

背景技術

光譜分析儀通過物質的特征光譜來研究物質的化學成分和存在狀態，其具有分析速度快、操作簡便和靈敏度高的諸多優點。光譜分析儀通常包括樣品采集模塊、裝有樣品采集模塊所采集樣品的待測樣品模塊、用于產生測試用光的光源模塊、用于處理透過待測樣品模塊后的光的光學處理模塊和用于對光學處理模塊處理后的光進行光譜分析的光譜分析模塊，所述光學處理模塊包括三個反射鏡，所述三個反射鏡設置在一暗室中，由于光譜分析儀通常設置在較潮濕的環境中，而暗室又無任何抽風裝置與外界進行空氣交換，設置在所述暗室中的反射鏡上易沉積水分，而水分會對光譜分析儀的測試精度造成影響，故需頻繁的對光譜分析儀進行校驗(檢驗周期為由正常的一年縮短為半年或三個月)，如此將會大大的增加成本。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種可提高校驗周期的光譜分析儀，通過所述光譜分析儀可提高其校驗周期。

本實用新型的目的是這樣實現的：一種可提高校驗周期的光譜分析儀，其包括樣品采集模塊、裝有樣品采集模塊所采集的樣品的待測樣品模塊、用于產生測試用光的光源模塊、用于對透過待測樣品模塊的光進行光學處理的光學處理模塊以及用于對光學處理模塊處理后的光進行光譜分析的光譜分析模塊，該光學處理模塊包括多個反射鏡，其中，該多個反射鏡設置在一暗室中，該暗室中設置一抽風模塊。

在上述的可提高校驗周期的光譜分析儀中，該抽風模塊包括用于產生負壓的負壓驅動單元和與其相連接的抽風管路。

在上述的可提高校驗周期的光譜分析儀中，該暗室具有一狹縫，該抽風管路通過該狹縫設置在該暗室中。

在上述的可提高校驗周期的光譜分析儀中，該反射鏡的數目為三個。

在上述的可提高校驗周期的光譜分析儀中，該光學處理模塊還包括一透鏡。

與現有技術中設置有反射鏡的暗室沒有抽風裝置易導致反射鏡上沉積水分而使光譜分析儀需頻繁校驗相比，本實用新型的可提高校驗周期的光譜分析儀在該暗室中設置了一抽風裝置，從而可延長光譜分析儀的校驗周期，大大節約了成本。

附圖說明

本實用新型的可提高校驗周期的光譜分析儀由以下的實施例及附圖給出。

圖1為本實用新型的可提高校驗周期的光譜分析儀的組成結構示意圖。

具體實施方式

以下將對本實用新型的可提高校驗周期的光譜分析儀作進一步的詳細描述。

本實用新型的可提高校驗周期的光譜分析儀1包括樣品采集模塊10、待測樣品模塊11、光源模塊12、光學處理模塊13、光譜分析模塊14、暗室15和抽風模塊16。以下對光譜分析儀1的上述構成要件進行詳細說明。

樣品采集模塊10用于對待測的化學品進行采樣。

待測樣品模塊11裝有樣品采集模塊10所采集的樣品，所述待測樣品模塊11可上下左右移動且可透光。

光源模塊12用于產生測試用光，所述光源模塊12包括一光源(未圖示)和用于將光源所產生的光處理為可直接進入待測樣品模塊11的測試用光的透鏡(未圖示)。

光學處理模塊13用于將透過待測樣品模塊11的光進行光學處理，其包括透鏡130和三反射鏡131a、131b、131c。

光譜分析模塊14用于將經光學處理模塊13處理后的光進行分析以得出待測樣品的化學成分等信息。

三反射鏡131a、131b、131c和光譜分析模塊14設置在暗室15中，所述暗室15還具有狹縫150。

抽風模塊16通過所述狹縫150進入所述暗室15中，用于將暗室15的空氣抽出從而使暗室15內空氣與外界流通，所述抽風模塊16包括用于產生負壓的負壓驅動單元160和與其相連接且通過狹縫150進入暗室15中的抽風管路161。

所述光譜分析儀1在對待測化學品進行分析時，首先先由樣品采集模塊10對待測的化學品進行采樣，然后將采集所得樣品放置在待測樣品模塊11中，接著光源模塊12所產生的測試用光透過待測樣品模塊11并經光學處理模塊13處理后進入光譜分析模塊14，所述光譜分析模塊14即可依據進入其內部的光分析出所述待測化學品的成分。

實驗證明，在暗箱15中設置抽風模塊16可將光譜測試儀的測試周期由沒設置抽風模塊時的半年或三個月延長至一年，如此將大大節約校驗成本。

綜上所述，本實用新型的可提高校驗周期的光譜分析儀在所述暗室中設置一可減少水分在反射鏡上沉積的抽風裝置，從而可延長光譜分析儀的校驗周期，大大節約了成本。