[實用新型]等離子體處理設備中送氣系統的改進結構有效
| 申請號： | 200720052896.3 | 申請日： | 2007-06-18 |
| 公開（公告）號： | CN201063957Y | 公開（公告）日： | 2008-05-21 |
| 發明（設計）人： | 柳靈;李志東;陳蓓 | 申請（專利權）人： | 廣州市興森電子有限公司深圳市睿寶科技有限公司 |
| 主分類號： | H05H1/42 | 分類號： | H05H1/42;H01J37/32 |
| 代理公司： | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 | 代理人： | 曾旻輝 |
| 地址： | 510730廣東省廣州市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子體 處理 設備 送氣 系統 改進 結構 | ||
【權利要求書】：
1.一種等離子體處理設備中送氣系統的改進結構，包括設置在腔體(1)內的送氣管(2)，其特征在于：所述送氣管(2)上設有朝向所述腔體(1)的內壁的噴口(4)。
2.根據權利要求1所述的等離子體處理設備中送氣系統的改進結構，其特征在于：所述送氣管(2)分布設置在所述腔體(1)的腔門(3)上，且所述噴口(4)朝向腔門(3)的內壁。
3.根據權利要求1或2所述的等離子體處理設備中送氣系統的改進結構，其特征在于：所述送氣管在所述腔體內的分布形狀呈四邊形。
4.根據權利要求1或2所述的等離子體處理設備中送氣系統的改進結構，其特征在于：所述送氣管在所述腔體內的分布形狀呈橢圓形。
5.根據權利要求1或2所述的等離子體處理設備中送氣系統的改進結構，其特征在于：所述送氣管在所述腔體內的分布形狀呈雙工字形。
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