[實用新型]壓電傳感器的基片

有效

• 申請號: 200720031970.3
• 申請日: 2007-06-07
• 公開（公告）號: CN201045581Y
• 公開（公告）日: 2008-04-09
• 發明（設計）人: 朱軍
• 申請（專利權）人: 朱軍
• 主分類號: G01D5/12
• 分類號: G01D5/12
• 代理公司: 西安智邦專利商標代理有限公司
• 代理人: 徐平

技術領域

本實用新型涉及一種壓電傳感器的部件，具體涉及一種構成壓電傳感器壓電片的基片。

背景技術

壓電傳感器是一種物性傳感器，其靈敏度取決于壓電片的彈性柔順系數。壓電片一般由基片和粘合于基片兩面的壓電晶片構成，壓電片的彈性柔順系數主要取決于基片的材質、幾何尺寸以及幾何形狀等。目前，提高壓電片基片彈性柔順系數的措施主要有以下幾種：

1.通過減薄基片厚度提高壓電片彈性柔順系數。由于基片減薄，剛性變差，而且基片自身的假頻以及抗橫向干擾的能力變低，因此，傳感器采集有效縱波信號的質量隨之降低。

2.非金屬材質的“井字型”網孔基片，雖然可以提高壓電片的彈性柔順系數，但由于隨著變形量的增大，其彈性滯后和蠕變會隨之增大，使漂移度增大，導致傳感器信號的質量變差。

3.銅絲編織的網狀基片，其壓電片的彈性柔順系數較高，但銅絲網結構的基片不僅彈性滯后較大，而且難以均勻固定，故迄今未實施應用。

發明內容

本實用新型的目的在于提供一種壓電傳感器的基片，其解決了背景技術中剛性差、抗橫向干擾能力差，或彈性滯后大，而導致傳感器信號質量差的技術問題。

本實用新型的技術解決方案是：

一種壓電傳感器的基片，包括基片1，其特殊之處在于：所述的基片1為金屬基片，該基片1與壓電晶片相粘合的部位上均布有照相腐蝕孔2，所述照相腐蝕孔2的加工精度≥0.1mm，所述照相腐蝕孔2的面積S≤10(mm)²。

上述照相腐蝕孔2的面積S可≤1(mm)²。

上述照相腐蝕孔2的孔徑D根據設計需要還可≤0.1mm。

上述照相腐蝕孔2的形狀可為圓形、三至多邊形、梅花形等。

上述基片1的厚度h可≤0.1mm。

上述基片1的厚度h根據設計需要還可≤0.01mm。

上述照相腐蝕孔2的加工精度可≥0.01mm。

上述照相腐蝕孔2的加工精度根據設計需要還可≥0.001mm。

上述基片1以采用為高彈金屬基片為佳。

上述基片1可采用恒性合金、鈹青銅，以鈦合金為佳。

本實用新型具有以下優點：

1.照相腐蝕孔整體分布的均勻性好，加工精度高，形成孔的毛刺微小。基片自身的假頻高，抗橫向干擾能力強，彈性柔順系數高。

2.基片的平整度好，基片與壓電晶片相粘合的施膠厚度可為0.01mm，且施膠易于均勻。

3.照相腐蝕孔可以設置成密度非常大的孔，基片在加工至非常薄時仍可確保良好的剛性。

4.基片的彈性以及柔韌性好，抗疲勞性好。彈性滯后和蠕變小，漂移度小，傳感器信號的品質優良。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

具體實施方式

壓電片一般由基片1和粘合于基片1兩面的壓電晶片構成，壓電片的彈性柔順系數主要取決于基片1的材質、幾何尺寸以及幾何形狀等。壓電片做彈性振動時，基片1上的網孔可消除內應力。

參見圖1，本實用新型的基片1為金屬基片，基片1以采用為高彈金屬基片為宜。基片1的彈性以及柔韌性好，抗疲勞性好，彈性滯后和蠕變小，漂移度小，傳感器信號的品質優良。基片1具體可采用鈦合金、恒性合金或鈹青銅等，以鈦合金為佳。基片1與壓電晶片相粘合的部位上均布有照相腐蝕孔2。照相腐蝕孔2的形狀可為圓形、三至多邊形、梅花形等。

本實用新型照相腐蝕孔2整體分布的均勻性好，加工精度高，形成孔的毛刺微小，基片1自身的假頻高，抗橫向干擾能力強，彈性柔順系數高。照相腐蝕孔2的加工精度根據設計需要一般可≥0.1mm，或≥0.01mm。本實用新型的照相腐蝕孔2的加工精度可達到≥0.001mm。照相腐蝕孔2可以設置成密度非常大的孔，且基片1在加工至非常薄時仍可確保良好的剛性。基片1的平整度好，基片1與壓電晶片相粘合的施膠厚度可為0.01mm。照相腐蝕孔2的面積S根據設計需要一般≤10(mm)²，較多的≤1(mm)²，本實用新型照相腐蝕孔2的孔徑D根據設計需要可≤0.1mm。本實用新型基片1的厚度h可≤0.1mm，根據設計需要還可≤0.01mm。