[實用新型]壓電傳感器的基片有效
| 申請號: | 200720031970.3 | 申請日: | 2007-06-07 |
| 公開(公告)號: | CN201045581Y | 公開(公告)日: | 2008-04-09 |
| 發明(設計)人: | 朱軍 | 申請(專利權)人: | 朱軍 |
| 主分類號: | G01D5/12 | 分類號: | G01D5/12 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標代理有限公司 | 代理人: | 徐平 |
| 地址: | 710082*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 壓電 傳感器 | ||
1.一種壓電傳感器的基片,包括基片(1),其特征在于:所述的基片(1)為金屬基片,該基片(1)與壓電晶片相粘合的部位上均布有照相腐蝕孔(2),所述照相腐蝕孔(2)的加工精度≥0.1mm,所述照相腐蝕孔(2)的面積S≤10(mm)2。
2.根據權利要求1所述的壓電傳感器的基片,其特征在于:所述照相腐蝕孔(2)的面積S≤1(mm)2。
3.根據權利要求1所述的壓電傳感器的基片,其特征在于:所述照相腐蝕孔(2)的孔徑D≤0.1mm。
4.根據權利要求1或2或3所述的壓電傳感器的基片,其特征在于:所述照相腐蝕孔(2)的形狀為圓形、三至多邊形、梅花形。
5.根據權利要求4所述的壓電傳感器的基片,其特征在于:所述基片(1)的厚度h≤0.1mm。
6.根據權利要求5所述的壓電傳感器的基片,其特征在于:所述基片(1)的厚度h≤0.01mm。
7.根據權利要求6所述的壓電傳感器的基片,其特征在于:所述照相腐蝕孔(2)的加工精度≥0.01mm。
8.根據權利要求7所述的壓電傳感器的基片,其特征在于:所述照相腐蝕孔(2)的加工精度≥0.001mm。
9.根據權利要求8所述的壓電傳感器的基片,其特征在于:所述的基片(1)為高彈金屬基片。
10.根據權利要求9所述的壓電傳感器的基片,其特征在于:所述的基片(1)為恒性合金、鈹青銅或鈦合金。
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