[發(fā)明專利]制造微陣列的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710307759.4 | 申請日: | 2007-07-16 |
| 公開(公告)號: | CN101221121A | 公開(公告)日: | 2008-07-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 夏政煥;池圣敏;金京善;金媛善 | 申請(專利權(quán))人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | G01N21/00 | 分類號: | G01N21/00;G01N33/48;C12Q1/68 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 戎志敏 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制造 陣列 方法 | ||
1.一種制造微陣列的方法,該方法包括:
提供基板,該基板具有采用酸不穩(wěn)定保護基團保護的官能團固定且能夠與低聚物探針偶聯(lián)的表面;
將光酸產(chǎn)生劑提供到基板上;
在基板上設(shè)置包括凸起區(qū)和圍繞凸起區(qū)的多個凹面區(qū)的印記模板,以使得該凸起區(qū)接觸或鄰接基板的上表面以由基板的上表面和印記模板的凸起區(qū)和凹面區(qū)限定多個反應(yīng)區(qū);
將一個或多個反應(yīng)區(qū)暴露到光以使得在一個或多個暴露的反應(yīng)區(qū)中由光酸產(chǎn)生劑產(chǎn)生酸并且由酸除去對所述一個或多個暴露的反應(yīng)區(qū)中的官能團的保護;以及
將低聚物探針提供到基板上以使得低聚物探針與已除去保護的官能團偶聯(lián)。
2.如權(quán)利要求1的方法,其中印記模板包括透光區(qū)和遮光區(qū),并且利用印記模板作為光掩模進行一個或多個反應(yīng)區(qū)的曝光。
3.如權(quán)利要求1的方法,其中多個探針單元活性體形成在基板上并被探針單元隔離區(qū)域隔開,所述官能團固定在探針單元活性體上,所述印記模板設(shè)置在基板上以使得凸起區(qū)接觸或鄰接探針單元隔離區(qū)域中的基板的上表面,限定反應(yīng)區(qū)的基板的上表面是探針單元活性體的上表面,并且與探針單元活性體一一對應(yīng)地限定反應(yīng)區(qū)。
4.如權(quán)利要求3的方法,其中基板包括與探針單元活性體上的官能團鍵合的連接體,并且該官能團經(jīng)由連接體固定在探針單元活性體上。
5.如權(quán)利要求3的方法,其中在探針單元隔離區(qū)域中直接暴露出基板的表面。
6.如權(quán)利要求3的方法,其中在探針單元隔離區(qū)域中的基板表面包括形成在基板上表面上的低聚物探針偶聯(lián)阻擋膜的表面、填充在探針單元活性體之間限定的區(qū)域中并且具有防止低聚物探針偶聯(lián)的特性的填料的表面、或形成在填充探針單元活性體之間限定的區(qū)域中的填料上的低聚物探針偶聯(lián)阻擋膜的表面之一。
7.如權(quán)利要求1的方法,其中在基板的整個表面上形成探針單元活性膜,將探針單元活性膜分成多個活化探針單元區(qū)域和圍繞活化探針單元區(qū)域的未活化區(qū)域,所述官能團固定在探針單元活性膜的活化探針單元區(qū)域和未活化區(qū)域上,在基板上設(shè)置所述印記模板以使得凸起區(qū)域接觸或鄰接探針單元活性膜的未活化區(qū)域的上表面,限定反應(yīng)區(qū)的基板上表面是探針單元活性體的上表面,并且與活化探針單元區(qū)域一一對應(yīng)地限定反應(yīng)區(qū)。
8.如權(quán)利要求7的方法,其中基板包括與探針單元活性體上的官能團鍵合的連接體,并且官能團經(jīng)由該連接體固定在探針單元活性體上。
9.一種制造微陣列的方法,該方法包括:
提供基板,該基板具有采用酸不穩(wěn)定保護基團保護的官能團固定且能夠與核苷酸亞磷酰胺單體偶聯(lián)的表面;
將光酸產(chǎn)生劑提供到基板上;
在基板上設(shè)置包括凸起區(qū)和圍繞凸起區(qū)的多個凹面區(qū)的印記模板,以使得該凸起區(qū)接觸或鄰接基板的上表面以由基板的上表面和印記模板的凸起區(qū)和凹面區(qū)限定多個反應(yīng)區(qū);
將一個或多個反應(yīng)區(qū)暴露到光以使得在一個或多個暴露的反應(yīng)區(qū)中由光酸產(chǎn)生劑產(chǎn)生酸并且由酸除去對所述一個或多個暴露的反應(yīng)區(qū)中的官能團的保護;以及
將核苷酸亞磷酰胺單體提供到基板上以使得核苷酸亞磷酰胺單體與已除去保護的官能團偶聯(lián)。
10.如權(quán)利要求9的方法,其中印記模板包括透光區(qū)和遮光區(qū),并且利用印記模板作為光掩模進行所述一個或多個反應(yīng)區(qū)的曝光。
11.如權(quán)利要求9的方法,其中多個探針單元活性體形成在基板上并被探針單元隔離區(qū)域隔開,所述官能團固定在探針單元活性體上,所述印記模板設(shè)置在基板上以使得凸起區(qū)接觸或鄰接探針單元隔離區(qū)域中的基板的上表面,限定反應(yīng)區(qū)的基板的上表面是探針單元活性體的上表面,并且與探針單元活性體一一對應(yīng)地限定反應(yīng)區(qū)。
12.如權(quán)利要求11的方法,其中該基板包括與探針單元活性體上的官能團鍵合的連接體,并且該官能團經(jīng)由連接體固定在探針單元活性體上。
13.如權(quán)利要求12的方法,其中在探針單元隔離區(qū)域中直接暴露出基板的表面。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
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G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
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