[發明專利]汽車輪轂表面真空鍍膜處理工藝有效
| 申請號: | 200710307219.6 | 申請日: | 2007-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN101240423A | 公開(公告)日: | 2008-08-13 |
| 發明(設計)人: | 范多旺;范多進;令曉明;王成龍;孔令剛;武福;鄧志杰;苗樹翻;姚小明 | 申請(專利權)人: | 蘭州大成自動化工程有限公司;蘭州交通大學 |
| 主分類號: | C23C28/00 | 分類號: | C23C28/00;C23G1/00;B05D1/12;B08B3/12;B08B7/00;C23C14/24;C23C14/35 |
| 代理公司: | 甘肅省知識產權事務中心 | 代理人: | 鮮林 |
| 地址: | 730070甘肅*** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 汽車 輪轂 表面 真空鍍膜 處理 工藝 | ||
技術領域
本發明涉及金屬及塑料制品表面真空鍍膜技術領域,特別是一種汽車輪轂表面真空鍍膜處理工藝。
背景技術
目前,我國已成為汽車生產大國,??2007年上半年,我國生產、銷售各類汽車總數分別為445.7萬輛和437.4萬輛,同比分別增長22.4%和23.3%,國家一年至少需要4.5億噸原油,其中汽車用油將占國家整個用油量的55%”。目前高中檔輪轂的表面處理多采用電鍍技術。輪轂電鍍不僅存在上述電鍍行業共有的弊端,如產生大量的污染物、物料利用率低、水資源和金屬資源需求量大且浪費嚴重而導致的價格昂貴,并且隨著污水處理成本和金屬市場價格的上漲而更加昂貴外,更主要的是由于汽車輪轂特殊的要求,需要在輪轂表面電鍍鉻,在輪轂電鍍過程中產生大量可致癌的六價鉻。國際上綠色貿易壁壘、環境保護要求不斷加強,歐盟關于廢棄電子電氣設備指令WEEE(Waste?Electrical?andElectronic?Equipment)和關于機電產品有毒物質的強制性標準法令RoHS(Restriction?of?Hazardous?Substances)的正式生效,限制或禁止使用含鉛、汞、鎘、六價鉻、多溴二苯醚(PBDE)、多溴聯苯(PBB)這6種有害物質的電氣電子產品在歐盟生產、銷售或進入歐盟。美國環境保護署(EPA)已經明確規定將于2010年全面禁止六價鉻的電鍍生產。我國的《電子信息產品污染控制管理辦法》已經于今年3月1日正式生效,控制六價鉻工藝的使用。
實用新型內容
本發明的目的是從產品工藝設計和生產工藝源頭減少污染,以跨越國際上綠色貿易壁壘,滿足全球市場對汽車輪轂產品的要求,提供一種工序簡單、成本低的汽車輪轂表面真空鍍膜處理工藝。
本發明的目的通過下述技術方案實現:
一種汽車輪轂表面真空鍍膜處理工藝,包括預處理、表面噴涂、清洗和鍍膜工藝,包括下述步驟:
A.預處理,在超聲清洗機中用清洗液和純凈水的混合液(1∶1000)對輪轂表面進行除油及脫模劑清洗;
B.表面噴涂,將經過預處理的汽車輪轂噴底粉;去桔皮;噴介質粉,介質粉的厚度為60~100μm,,固化溫度為220~230℃,時間為20min;哄干;
C.離子清洗,將經表面噴涂處理且烘干的輪轂在真空環境下經輝光等離子體清洗,改變噴涂表面微結構;
D.真空鍍膜,將經離子清洗的汽車輪轂在真空室體內進行真空鍍膜處理,在噴涂表面制備金屬或金屬化合物鍍層;
E.保護層制備,在同一真空室體內,在金屬或金屬化合物鍍層表面連續制備保護層。
所述的表面噴涂工藝方法為靜電噴涂。
所述的表面噴涂工藝中噴底粉所使用的涂料成分由聚脂粉50%和環氧樹脂50%混合而成。
所述的輝光等離子體通過高壓電場放電方式產生,在真空室體內的一對轟擊極板或高壓棒與室體間加500~2500V電壓,電流為0.5~3.5A,產生輝光等離子流。
所述輝光等離子清洗的具體過程為:預抽真空,當室體真空度為3×10-3Pa開始向真空室體通過質量流量計精確充入惰性氣體,將室內壓強維持在4~5Pa;在穩定的輝光放電的條件下清洗50~500s,將表面噴涂層刻蝕成表面凹凸不平的微結構面,關閉轟擊電源。
所述的真空鍍膜方法為多弧離子鍍膜,具體的步驟為:
預抽真空,當真空度到2×0-2Pa后,充入工作氣體,將氣壓維持在0.1~2Pa,開啟電弧離子鍍膜電源,電壓為20~50V,電流為30~80A,鍍膜時間為90S~480S,鍍膜過程中,在工件和室體間加負偏壓150~1000V,室體內的溫度為30~200℃。
所述的真空鍍膜方法為磁控濺射鍍膜,具體步驟為:
預抽真空,當真空度到2×10-2Pa后,充入工作氣體,如氬氣或氮氣,將氣壓維持在0.8~15Pa,開啟磁控濺射鍍膜電源,電壓為200~800V,電流為20~80A,鍍膜時間為90S~480S,鍍膜過程中,在工件和室體間加負偏壓150~1000V,室體內的溫度為30~200℃。
所述真空鍍膜步驟中靶與基片的距離為50~500mm,沉積厚度為0.5~5μm。
所述的金屬或金屬化合物鍍層和保護膜在同一室體內連續制備完成。
所述的保護層為透明保護層。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于蘭州大成自動化工程有限公司;蘭州交通大學,未經蘭州大成自動化工程有限公司;蘭州交通大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200710307219.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種獨立輔助手指的關節運動輔助裝置
- 下一篇:一種沖擊理療機
- 同類專利
- 專利分類





