[發明專利]聚合物膜的制造方法以及其制造裝置無效
| 申請號: | 200710305129.3 | 申請日: | 2007-09-06 |
| 公開(公告)號: | CN101224613A | 公開(公告)日: | 2008-07-23 |
| 發明(設計)人: | 嘉藤彰史;山崎英數;池田仁 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | B29C41/34 | 分類號: | B29C41/34;B29C41/24;B29C41/26;B29L7/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 張成新 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 聚合物 制造 方法 及其 裝置 | ||
1.一種聚合物膜的制造方法,包括以下步驟:
將包含聚合物和溶劑的涂料從流延模具排出到持續移動的載體上,并且使形成在所述流延模具和所述載體之間的流道流延到所述載體上以形成流延膜;
將從所述載體剝離的所述流延膜干燥為膜;以及
在所述流延膜形成之前,通過設置在所述載體表面附近的電壓施加裝置給所述載體的表面充電。
2.如權利要求1所述的聚合物膜的制造方法,其中所述電壓施加裝置是用于通過朝向所述載體放電來向所述載體施加電荷的電極主體,且設置在所述載體移動方向上的所述流道的上游一側。
3.如權利要求2所述的聚合物膜的制造方法,其中電絕緣層設置在所述載體的表面上。
4.如權利要求3所述的聚合物膜的制造方法,其中所述載體的表面電勢V設置為0.1kV≤|V|≤3kV。
5.如權利要求4所述的聚合物膜的制造方法,其中在氧氣濃度小于10重量%的條件下執行所述流延。
6.如權利要求5所述的聚合物膜的制造方法,其中設置在所述流道上游側的吸入室對所述流道的上游側的部分進行減壓。
7.如權利要求6所述的聚合物膜的制造方法,其中所述電絕緣層具有多層結構。
8.一種聚合物膜的制造裝置,包括
持續移動的載體;
流延模具,用于將包含聚合物和溶劑的涂料排出到所述載體上以形成流延膜;
電壓施加裝置,用于向將被流延的所述載體的表面充電,所述電壓施加裝置設置在所述載體的表面附近;以及
干燥裝置,用于干燥從所述載體剝離的所述流延膜以形成聚合物膜。
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