[發(fā)明專利]阻尼器固定機構

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710196774.6
• 申請日: 2007-12-06
• 公開（公告）號: CN101196202A
• 公開（公告）日: 2008-06-11
• 發(fā)明（設計）人: 德本潮人
• 申請（專利權）人: SMC株式會社
• 主分類號: F15B15/14
• 分類號: F15B15/14;F15B15/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 張兆東

1.一種設置在流體壓力缸(10)中用于固定阻尼器(72a，72b，102a，102b)的阻尼器固定機構，所述阻尼器(72a，72b，102a，102b)減緩當活塞(18)鄰靠在安裝于缸體(12)一端上的覆蓋元件(14，16)上時產生的沖擊，所述活塞(18)安裝在所述缸體(12)的內部且通過加壓流體在所述流體壓力缸(10)內移動，所述阻尼器固定機構包括：

阻尼器溝槽(70a，70b，104a，104b，132a，132b)，其形成在面向所述覆蓋元件(14，16)的所述活塞(18)的端面上，且基本垂直于所述活塞(18)的軸線延伸，所述阻尼器溝槽(70a，70b，104a，104b，132a，132b)包括：

第一溝槽(74，110，128)，其在所述端面的一側敞開；以及

第二溝槽(76，106)，其鄰近于所述第一溝槽(74，110)且相對于所述第一溝槽在寬度上擴展；

所述阻尼器(72a，72b，102a，102b)包括：

基部元件(80，98，122)，其插入所述第一溝槽(74，128)中；以及

導向元件(82，94)，其插入所述第二溝槽(76，106)中且相對于所述基部元件(80，98，122)在寬度上擴展。

2.如權利要求1所述的阻尼器固定機構，其特征在于，所述導向元件(82，94)包括一對設置于所述基部元件(80，98，122)兩側上的導向元件。

3.如權利要求2所述的阻尼器固定機構，其特征在于，所述導向元件(94)包括朝向所述基部元件(98)的側面突出的一突出部(96)，所述突出部(96)插入凹槽(108)中，該凹槽形成在所述活塞(18a)端面?zhèn)壬系乃龅诙喜?106)內。

4.如權利要求3所述的阻尼器固定機構，其特征在于，所述基部元件(98)包括在遠離所述導向元件(94)的方向上寬度漸窄的錐形部(100)，所述基部元件(98)插入其中的所述第一溝槽(110)形成與所述錐形部(100)相應的、朝向所述端面?zhèn)仍趯挾壬蠞u窄的錐形形狀。

5.如權利要求1所述的阻尼器固定機構，其特征在于，所述阻尼器(72a，72b)設置在所述流體壓力缸(10)中，所述流體壓力缸(10)包括橫截面形成為基本橢圓形的所述活塞(18)；具有橫截面基本成橢圓形的缸內腔(20)的所述缸體(12)，所述活塞(18)插入到該缸內腔中；以及橫截面基本成橢圓形且封閉所述缸內腔(20)兩端的所述覆蓋元件(14，16)。

6.如權利要求1所述的阻尼器固定機構，其特征在于，所述基部元件(122)包括一對凹進所述基部元件(122)側面中的V形槽(124)，所述V形槽(124)分別與一對形成在所述第一溝槽(128)內的突起(130)接合。

7.一種設置在流體壓力缸(10)中用于固定阻尼器的阻尼器固定機構，所述阻尼器減緩當活塞(18)鄰靠在安裝于缸體(12)一端上的覆蓋元件(14，16)時產生的沖擊，所述活塞(18)安裝在所述缸體(12)的內部且通過加壓流體在所述流體壓力缸(10)內移動，所述阻尼器固定機構包括：

阻尼器溝槽，其形成在面向所述活塞(18)的所述覆蓋元件(14，16)的端面上，且基本垂直于所述覆蓋元件(14，16)的軸線延伸，所述阻尼器溝槽包括：

第一溝槽，其在所述端面的一側敞開；以及

第二溝槽，其鄰近于所述第一溝槽且相對于所述第一溝槽在寬度上擴展；

所述阻尼器包括：

基部元件，其插入所述第一溝槽中；以及

導向元件，其插入所述第二溝槽中且相對于所述基部元件在寬度上擴展。