[發明專利]用于電子材料的清洗液和清洗方法

無效

• 申請號: 200710196601.4
• 申請日: 2007-11-29
• 公開（公告）號: CN101226874A
• 公開（公告）日: 2008-07-23
• 發明（設計）人: 榛原照男;森良弘;毛利敬史
• 申請（專利權）人: 硅電子股份公司
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;H01L21/302;H01L21/306;B08B3/10;B08B3/12
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司
• 代理人: 程大軍

1.一種用于電子材料的清洗液，其特征在于，其為含有由氫氣產生的微泡并給予超聲振動的含水液體。

2.根據權利要求1的電子材料的清洗液，其中所述含水液體是超純水。

3.根據權利要求1的電子材料的清洗液，其中所述含水液體是加氫水。

4.一種電子材料的清洗方法，其特征在于，其在存在有氫微泡的含水液體中和在超聲輻射下進行。

5.根據權利要求4的電子材料的清洗方法，其中所述含水液體是超純水。

6.根據權利要求4的電子材料的清洗方法，其中所述含水液體是加氫水。

7.權利要求4-6任一項中所述的電子材料的清洗方法，其中還向所述含水液體中加入堿。

8.權利要求4-6任一項中所述的電子材料的清洗方法，其中還向所述含水液體中加入堿和過氧化氫。

9.權利要求4-8任一項中所述的電子材料的清洗方法，其中向所述含水液體中加入表面活性劑。

10.根據權利要求7或8的電子材料的清洗方法，其中所述加入的堿含有氫氧化鈉、氫氧化鉀、氨水、氫氧化四甲銨(TMAH)和膽堿中的至少一種。

11.根據權利要求4-10任一項的電子材料的清洗方法，其中所述電子材料是硅晶片。