[發(fā)明專利]用于附著基板的設(shè)備無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710182037.0 | 申請(qǐng)日: | 2007-10-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101191937A | 公開(公告)日: | 2008-06-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃載錫;金東建 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 愛德牌工程有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1333 | 分類號(hào): | G02F1/1333;H01L21/677;B65G49/06 |
| 代理公司: | 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 章社杲;吳貴明 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 附著 設(shè)備 | ||
1.一種用于附著基板的設(shè)備,所述設(shè)備包括:
主框架;
上腔室,安裝于所述主框架上,所述上腔室保持上基板;
下腔室,安裝于所述主框架上,所述下腔室保持下基板,其中,所述上腔室和所述下腔室中的至少一個(gè)腔室可以移動(dòng),從而所述上腔室和所述下腔室可以合在一起以形成密封附著空間;以及
緩沖件,設(shè)置于所述上腔室與所述下腔室之間,其中,所述緩沖件提供彈性力,所述彈性力易于使所述上腔室和所述下腔室保持分開。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,當(dāng)所述上腔室和所述下腔室被連接在一起并且所述密封附著空間被抽真空時(shí),所述緩沖件克服由所述設(shè)備外部的大氣與所述密封附著空間內(nèi)的真空之間的壓力差所產(chǎn)生的力。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述緩沖件設(shè)置在所述上腔室和所述下腔室的周邊處。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述緩沖件包括:
上框架;
下框架;以及
彈性體,安裝于所述上框架與所述下框架之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備,其中,所述上框架和所述下框架中的至少一個(gè)框架固定于所述上腔室和所述下腔室中的至少一個(gè)腔室。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備,其中,所述上腔室和所述下腔室中的至少一個(gè)腔室設(shè)置有用于在其中安裝所述緩沖件的凹槽。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述緩沖件是壓縮螺旋彈簧、板簧和空氣彈簧中的一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,圍繞所述上腔室和所述下腔室中的至少一個(gè)腔室的周邊安裝有多個(gè)緩沖件。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,進(jìn)一步包括至少一個(gè)固定裝置,所述至少一個(gè)固定裝置選擇性地將所述上腔室和所述下腔室中的至少一個(gè)腔室連接于所述主框架。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備,其中,所述至少一個(gè)固定裝置包括磁性部件,所述磁性部件可以通過磁力選擇性地連接于所述主框架。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備,其中,所述磁性部件包括電磁體。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備,其中,所述至少一個(gè)固定裝置進(jìn)一步包括供電部件,所述供電部件選擇性地向所述電磁體施加電力。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備,其中,所述至少一個(gè)固定裝置進(jìn)一步包括移動(dòng)部件,所述移動(dòng)部件選擇性地移動(dòng)所述磁性部件使之與所述主框架相接合或分開。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的設(shè)備,其中,所述移動(dòng)部件包括彈簧,所述彈簧提供易于拉動(dòng)所述磁性部件使之與所述主框架分開的彈性力。
15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備,進(jìn)一步包括移動(dòng)裝置,所述移動(dòng)裝置在所述主框架中上下移動(dòng)所述下腔室,其中,所述至少一個(gè)固定裝置連接于所述移動(dòng)裝置的移動(dòng)部件。
16.一種用于附著基板的設(shè)備,所述設(shè)備包括:
主框架;
上腔室,安裝于所述主框架上,所述上腔室保持上基板;
下腔室,安裝于所述主框架上,所述下腔室保持下基板;
移動(dòng)裝置,移動(dòng)所述上腔室和所述下腔室中的至少一個(gè)腔室,從而所述上腔室和所述下腔室可以合在一起以在所述上腔室與所述下腔室之間形成密封附著空間;以及
至少一個(gè)固定裝置,附著于所述移動(dòng)裝置的移動(dòng)部分,其中,所述至少一個(gè)固定裝置選擇性地將所述移動(dòng)裝置的所述移動(dòng)部分連接于所述主框架。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的設(shè)備,其中,所述至少一個(gè)固定裝置包括磁性部件,所述磁性部件可以通過磁力選擇性地連接于所述主框架。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的設(shè)備,其中,所述磁性部件包括電磁體。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的設(shè)備,其中,所述至少一個(gè)固定裝置進(jìn)一步包括供電部件,所述供電部件選擇性地向所述電磁體施加電力。
20.根據(jù)權(quán)利要求17所述的設(shè)備,其中,所述至少一個(gè)固定裝置進(jìn)一步包括移動(dòng)部件,所述移動(dòng)部件選擇性地移動(dòng)所述磁性部件使之與所述主框架相接合或分開。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的設(shè)備,其中,所述移動(dòng)部件包括彈簧,所述彈簧提供易于拉動(dòng)所述磁性部件使之與所述主框架分開的彈性力。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于愛德牌工程有限公司,未經(jīng)愛德牌工程有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200710182037.0/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:彩色圖像處理方法
- 下一篇:半導(dǎo)體集成電路裝置
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





