[發明專利]一種制取LCD專用低氧大粒度特種鉬粉的方法

無效

• 申請號: 200710179666.8
• 申請日: 2007-12-17
• 公開（公告）號: CN101199998A
• 公開（公告）日: 2008-06-18
• 發明（設計）人: 張常樂
• 申請（專利權）人: 金堆城鉬業股份有限公司
• 主分類號: B22F9/04
• 分類號: B22F9/04
• 代理公司: 中國有色金屬工業專利中心
• 代理人: 李迎春

技術領域

一種制取LCD專用低氧大粒度特種鉬粉的方法，涉及一種采用氫還原燒結造粒的方法來制取使用在液晶電視及液晶顯示器上的低氧大粒度鉬粉的生產方法。

背景技術

隨著科學技術的進步及整個社會的發展，液晶電視及液晶顯示器正逐步進入普通百姓家中，并且在逐漸替代平板電視及純平顯示器，其市場消費潛力非常巨大。相應作為LCD顯示器專用的鉬濺射靶材也具有較大的發展。根據LCD生產企業預測，未來幾年是LCD發展的高峰期，年增長率達30％左右，2008年后逐漸步入高峰期。隨著LCD電視機的發展，LCD濺射靶材的消費量也快速增長，年增長率在20％以上。2004年～2010年LCD濺射靶材專用鉬粉需求量逐年增加，2007年該領域鉬粉的消費量達到2000噸，預測到2009年末，LCD濺射靶材專用鉬粉年需求量將接近3000噸，成為未來鉬粉消費最為重大的市場。用常規的鉬粉氫還原方法所制備的常規鉬粉，其性能指標不能滿足制備LCD濺射靶材的要求。

發明內容

本發明的目的就是為了提供一種能夠進行規模化生產的制備LCD濺射靶材專用低氧大粒度特種鉬粉的生產方法。

本發明的目的是通過以下技術方案實現的。

一種制取LCD專用低氧大粒度特種鉬粉的方法，其特征在于其制備過程是將鉬粉料氫還原氣氛下進行造粒燒結，再在保護氣氛下進行破碎、真空下球磨，對球磨好的鉬粉進行篩分分級后得到LCD濺射靶材專用低氧大粒度特種鉬粉。

本發明的一種制取LCD專用低氧大粒度特種鉬粉的方法，其特征在于所述的氫還原氣氛下進行造粒燒結過程是在1250℃--1350℃下，還原燒結1.5h--3.5h(寫個范圍)。

本發明的一種制取LCD專用低氧大粒度特種鉬粉的方法，其特征在于所述的在保護氣氛下進行破碎過程碎后料的的直徑為1mm-3mm。

本發明的一種制取LCD專用低氧大粒度特種鉬粉的方法，其特征在于所述的破碎過程破碎機的進料粒度為80mm-120mm，出料粒度為1～3mm，破碎機通入N₂氣保護。

本發明的一種制取LCD專用低氧大粒度特種鉬粉的方法，其特征在于所述的真空下球磨過程中，真空球磨機中的球料比為2∶1，球磨時間為1h-2h，真空球磨機中的真空度為0.05MPa-0.08MPa。

本發明的方法，對生產原料鉬粉要求低，原料鉬粉一般符合Q/JDC013-2002標準中MP-1要求的鉬粉。所使用的設備為鉬粉還原常用的設備，設備具有可通用性及兼容性；生產工藝易于控制，操作簡便、安全、可靠，可適于大規模批量化生產；采用還原燒結造粒及真空球磨篩分，工藝穩定，產品的一致性好；和普通的常規鉬粉相比，本發明所制備的LCD低氧大粒度特種鉬粉氧含量比常規鉬粉要低的多，粒度較大，且松裝密度及振實密度也都較大。

本發明的方法，利用氫還原燒結造粒及后續的真空球磨處理來制備能滿足LCD濺射靶材的要求的鉬粉，所用設備較為簡單，能進行連續化及規模化生產，制備工序較短，工藝好控制，對原料鉬粉的要求低，產品的性能能達到制備濺射靶材的要求。

附圖說明

圖1為本發明的方法的工藝流程圖。

具體實施方式

一種制取LCD專用低氧大粒度特種鉬粉的方法，其制備過程依次為：

(1)以鉬粉為原料，本發明采用符合Q/JDC013-2002標準中MP-1要求的鉬粉；，平均費氏粒度在2.0～4.0μm，松裝密度為1.0～1.4g/cm³也可以根據客戶的具體要求選擇鉬粉原料。

(2)將原料鉬粉在馬弗爐中于1250℃--1350℃溫度下進行還原燒結造粒；保溫時間為1.5h-3.5h。

(3)將還原燒結好的鉬粉在粉碎機中進行破碎，破碎后的直徑在1mm-3mm；

(3)得到鉬粉顆粒在真空球磨機中于進行球磨；

(4)球磨后的鉬粉進行快速篩分，篩分的網目為325mesh；

(5)用雙錐帶真空及水冷卻的混料機對篩分好的鉬粉進行合批混料；

(6)對合批好的鉬粉用真空包裝機進行真空包裝；

(7)真空包裝好的鉬粉用專用鐵桶包裝好；

上述破碎機的進料粒度為80mm--120mm左右，出料粒度可控制在1～3mm左右，破碎機可通入N2氣保護。

上述真空球磨機中的球料比為2∶1，球磨時間控制在1h左右，真空球磨機中的真空度保持在0.05MPa。

上述篩分機采用旋振篩，-325mesh，通入N2氣保護。