[發明專利]一種納米壓印光刻機有效
| 申請號: | 200710178789.X | 申請日: | 2007-12-05 |
| 公開(公告)號: | CN101452207A | 公開(公告)日: | 2009-06-10 |
| 發明(設計)人: | 姜驥;謝常青;岑專專;商立偉;劉興華;劉明 | 申請(專利權)人: | 中國科學院微電子研究所 |
| 主分類號: | G03F7/00 | 分類號: | G03F7/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 周國城 |
| 地址: | 100029*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 納米 壓印 光刻 | ||
技術領域
本發明涉及微細加工技術領域,尤其涉及一種用于納米壓印的納 米壓印光刻機。
背景技術
納米壓印技術是軟刻印術的發展,它采用繪有納米圖案的剛性壓 模將基片上的聚合物薄膜壓出納米級圖形,再對壓印件進行常規的刻 蝕、剝離等加工,最終制成納米結構和器件。
納米壓印技術可以大批量重復性地在大面積上制備納米圖形結 構,并且所制出的高分辨率圖案具有相當好的均勻性和重復性。該技 術還有高分辨率、高效率、低制作成本、簡單易行等優點。它沒有光 學曝光中的衍射現象和電子束曝光中散射現象,也不需要光學曝光裝 置和電子束曝光裝置那樣復雜的光學系統和電測聚焦系統。
因此,納米壓印技術與極端紫外線光刻、X射線光刻、電子束光刻 等新興刻印工藝相比,納米壓印術具有不遜的競爭力和廣闊的應用前 景。目前,這項技術最先進的程度已達到5nm以下的水平。
納米壓印光刻技術是納米尺寸范圍內廣泛應用的一種日漸重要的 方法,廣泛應用如生物醫學、納米流體學、納米光學應用、數據存儲 等領域。用于制作電子器件、CD存儲器和磁存儲器、光電器件和光學 器件、微波集成電路、納米電機系統、生物芯片和微流體器等。
發明內容
(一)要解決的技術問題
有鑒于此,本發明的主要目的在于提供一種結構簡單、制作成本 低、操作方便和使用可靠的納米壓印光刻機。
(二)技術方案
為達到上述一個目的,本發明提供了一種納米壓印光刻機,包括 底座11、加熱板12、墊片13、內六角螺釘14、支架15、傳動導向壓 桿16、十字槽沉頭螺釘17、螺桿18和扭力計19;
所述加熱板12放置在底座11上,墊片13放置在加熱板12上, 支架15放置在墊片13上,且所述支架15、墊片13和加熱板12通過 內六角螺釘14固定在底座11上;
所述支架15的上梁中心處設有螺孔,下梁中心處設有通孔;螺桿 18套接在上梁螺孔內,傳動導向壓桿16套接在下梁通孔內,螺桿18 和傳動導向壓桿16相連并套接在支架15的梁上;
所述十字槽沉頭螺釘17從支架15下梁前面中心處螺孔旋進,并 頂住傳動導向壓桿16中間圓柱外表面的條形凹槽;
所述傳動導向壓桿16中部的柱面與所述支架15下梁中心處設置 的螺孔相適配;
所述螺桿18上端與扭力計19相連,螺桿(18)下端為一球面, 螺桿(18)中部的螺紋與所述上梁螺孔中的螺孔相適配。
上述方案中,所述支架15有上下兩個梁,支架15底部設有與底 座11相固定的兩個底板,在下梁前面中心處設置有一個小的螺孔。
上述方案中,所述傳動導向壓桿16上端為凹球面形的套筒結構, 中部柱面正中開有一條形凹槽,底部為一圓柱形壓塊。
上述方案中,所述傳動導向壓桿16上的凹槽,其槽寬與所述支架 15下梁前面中心處的小孔孔徑相適配。
上述方案中,所述傳動導向壓桿16頂端的凹球面形的套筒結構與 所述螺桿18底部的圓珠相適配,使傳動導向壓桿16與螺桿18組成一 聯動結構。
上述方案中,所述傳動導向壓桿16底部圓柱形壓塊和底座11上 表面使用珠光體材料制作而成。
上述方案中,所述扭力計19用于精確的測量施加在螺桿18上的 扭力。
上述方案中,所述加熱板12的溫度控制在150℃至180℃。
(三)有益效果
從上述技術方案可以看出,本發明具有以下有益效果:
1、本發明提供的這種納米壓印光刻機,設計具有上下梁和兩個底 板的支架結構,上梁與螺桿配合提供壓力,下梁與壓力導向壓桿配合 傳遞壓力,兩平面底板通過4個內六角螺釘固定在底座上,具有一體性 和穩定性特點。
2、本發明提供的這種納米壓印光刻機,螺桿和壓力導向壓桿設計 成聯動結構,螺桿底部的圓珠和傳動導向壓桿頂端的凹球面形的套筒 相配合,使螺桿和傳動導向壓桿組成一聯動結構。當壓印開始時,順 時針旋動螺桿使之在外部扭力的作用下沿支架上梁螺孔向下運動,壓 力通過螺桿傳遞到傳動導向壓桿底端的圓柱形壓塊上,并使之向下運 動壓住模具。當壓印完成需要移去壓力時,逆時針旋動螺桿,螺桿沿 支架上梁螺孔向上運動,同時帶動傳動導向壓桿離開模具。
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