[發明專利]由介質錐支撐副面的雙反射面天線無效
| 申請號: | 200710176349.0 | 申請日: | 2007-10-25 |
| 公開(公告)號: | CN101378152A | 公開(公告)日: | 2009-03-04 |
| 發明(設計)人: | 楊建慧;徐欽友;翟文軍;顏娟;朱蓓鑫 | 申請(專利權)人: | 北京天瑞星際技術有限公司 |
| 主分類號: | H01Q19/10 | 分類號: | H01Q19/10;H01Q19/12;H01Q13/02 |
| 代理公司: | 北京凱特來知識產權代理有限公司 | 代理人: | 趙鎮勇 |
| 地址: | 10001*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 介質 支撐 反射 天線 | ||
技術領域
本發明涉及一種天線,尤其涉及一種由介質錐支撐副面的雙反射面天線。
背景技術
雙鏡天線(反射面天線)是由主面、副面和饋電喇叭所構成,副面既可用支桿支撐在主面上,又可用支桿支撐在饋電喇叭上,用金屬制成的支桿雖然在結構上起到支撐副面的作用,但在電氣上它卻起到遮擋電磁波的負作用。
現有技術中,一般使用在電上是透明的介質材料做副面的支撐物,則這樣的支撐結構又能支撐副面,對電磁波而言它又是透明的,從而減小了對電磁波的遮擋。
上述現有技術至少存在以下缺點:
饋電喇叭所輻射的電磁波有一部分會從副面漏失到副面的漏失區域中去,從而造成天線效率的下降和天線在副面漏失區域中的遠旁瓣電平偏高。
發明內容
本發明的目的是提供一種天線效率高、遠旁瓣電平低的由介質錐支撐副面的雙反射面天線。
本發明的目的是通過以下技術方案實現的:
本發明的由介質錐支撐副面的雙反射面天線,包括主面、副面,所述主面上設有的饋電喇叭,所述的饋電喇叭與所述副面之間通過介質材料連接,所述饋電喇叭從副面漏失掉的電磁波在所述介質材料與空氣所形成的界面處形成全反射。
由上述本發明提供的技術方案可以看出,本發明所述的由介質錐支撐副面的雙反射面天線,由于饋電喇叭從副面漏失掉的電磁波在所述介質錐與空氣的界面處形成全反射。可以減小電磁波從副面的漏失,使天線效率高、遠旁瓣電平低。
附圖說明
圖1為本發明由介質錐支撐副面的雙反射面天線的結構示意圖;
圖2為光的全反射形成原理圖;
圖3為本發明中電磁波在介質錐中傳播時全反射的原理圖。
具體實施方式
本發明的由介質錐支撐副面的雙反射面天線,其較佳的具體實施方式如圖1所示,包括主面1、副面2,主面1上設有饋電喇叭3,饋電喇叭3與副面2之間通過介質材料連接,饋電喇叭3從副面2漏失掉的電磁波在介質材料與空氣所形成的界面處形成全反射。
介質材料可以做成圓錐形的介質錐4,介質錐4的錐角部位與饋電喇叭3連接,介質錐4的錐底部位與副面2連接。
如圖2所示,當光線或電磁波從光密媒質(例如介質)到光疏媒質(例如空氣)傳播時,在介質和空氣的分界面上會發生反射和折射(透射)。反射和折射遵循Smell(斯涅爾)定律,即:
1、入射線、反射線和折射線都在被稱稱之為入射面(由入射線和分界面的法線所構成的平面)的同一平面內。
2、入射角θi與反射角θr相等。
3、入射角θi與折射角θt之間的關系滿足下式:
從公式(1)可知,當折射角θt=90°時,全反射發生,此時的在介質中的電磁波的入射角θic(臨界入射角)為:
因此,要使電磁波在介質材料中的傳播時形成全反射,就必須使電磁波在介質材料中的入射角θi大于等于臨界入射角θic。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京天瑞星際技術有限公司,未經北京天瑞星際技術有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200710176349.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種服裝花邊
- 下一篇:城市軌道交通信號系統中對列車位置實現動態跟蹤的方法





