[發(fā)明專利]由介質(zhì)錐支撐副面的雙反射面天線無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710176349.0 | 申請日： | 2007-10-25 |
| 公開（公告）號： | CN101378152A | 公開（公告）日： | 2009-03-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 楊建慧;徐欽友;翟文軍;顏娟;朱蓓鑫 | 申請（專利權(quán)）人： | 北京天瑞星際技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | H01Q19/10 | 分類號： | H01Q19/10;H01Q19/12;H01Q13/02 |
| 代理公司： | 北京凱特來知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 趙鎮(zhèn)勇 |
| 地址： | 10001*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 介質(zhì) 支撐 反射 天線 | ||
1、一種由介質(zhì)錐支撐副面的雙反射面天線，包括主面、副面，所述主面上設(shè)有的饋電喇叭，其特征在于，所述的饋電喇叭與所述副面之間通過介質(zhì)材料連接，所述饋電喇叭從副面漏失掉的電磁波在所述介質(zhì)材料與空氣所形成的界面處形成全反射。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的由介質(zhì)錐支撐副面的雙反射面天線，其特征在于，所述介質(zhì)材料做成圓錐形的介質(zhì)錐，所述介質(zhì)錐錐角部位與所述饋電喇叭連接；所述介質(zhì)錐的錐底部位與所述副面連接。
3、根據(jù)權(quán)利要求2所述的由介質(zhì)錐支撐副面的雙反射面天線，其特征在于，所述介質(zhì)錐的錐角α由以下原則確定：
α≥2(θic+β)—180°
式中：θic為所述介質(zhì)錐的臨界入射角；
β為由所述饋電喇叭從所述副面漏失掉的電磁波的最大漏失角。
4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的由介質(zhì)錐支撐副面的雙反射面天線，其特征在于，所述介質(zhì)錐的臨界入射角為：
式中εr為所述介質(zhì)錐的介電常數(shù)。
5、根據(jù)權(quán)利要求2、3或4所述的由介質(zhì)錐支撐副面的雙反射面天線，其特征在于，所述介質(zhì)錐的介電常數(shù)εr＝1.06～2.6。
6、根據(jù)權(quán)利要求5所述的由介質(zhì)錐支撐副面的雙反射面天線，其特征在于，所述介質(zhì)錐所用的材料為聚四氟乙烯塑料。
7、根據(jù)權(quán)利要求3所述的由介質(zhì)錐支撐副面的雙反射面天線，其特征在于，所述的最大的漏失角β小于90°。
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