[發明專利]用于控制盤驅動器中磁頭運動的方法和裝置無效
| 申請號: | 200710170232.1 | 申請日: | 2007-11-15 |
| 公開(公告)號: | CN101197136A | 公開(公告)日: | 2008-06-11 |
| 發明(設計)人: | 朝倉誠 | 申請(專利權)人: | 株式會社東芝 |
| 主分類號: | G11B5/55 | 分類號: | G11B5/55;G11B27/36 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 | 代理人: | 楊曉光;李崢 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 控制 驅動器 磁頭 運動 方法 裝置 | ||
1.一種盤驅動器,其特征在于,包括:
磁頭移動機構,其將磁頭移動到旋轉盤介質上的期望位置;
磁頭運動控制單元,其在每個采樣時間內限定從當前磁頭位置延伸至所述期望位置的磁頭運動軌跡,從而控制所述磁頭移動機構;
存儲單元,其存儲表示所述盤介質上存在的缺陷部分的位置的缺陷位置信息;
確定單元,當所述磁頭移動機構向所述期望位置移動所述磁頭時,所述確定單元在每個采樣時間中從所述缺陷位置信息確定接近所述缺陷部分的所述磁頭的位置;以及
回避單元,所述回避單元基于所述確定單元確定的位置改變所述磁頭的運動軌道,從而使得所述磁頭回避所述缺陷部分。
2.根據權利要求1所述的盤驅動器,其特征在于,所述磁頭運動控制單元由模型跟隨控制系統構成;以及所述回避單元被配置為使得虛擬模型位置回避所述缺陷部分。
3.根據權利要求1所述的盤驅動器,其特征在于,所述磁頭運動控制單元被配置為通過模型跟隨控制方法來執行尋道控制;所述確定單元基于所述虛擬模型位置、所述磁頭當前所在的所述伺服扇區以及所述缺陷位置信息,計算沿徑向從伺服扇區到缺陷扇區的距離以及、沿周向的作為缺陷扇區間相角的距離;以及,所述回避單元被配置為,基于由所述確定單元計算出的距離校正作為虛擬模型輸入值的模型驅動命令值,從而使得所述虛擬模型位置回避所述缺陷部分。
4.根據權利要求1所述的盤驅動器,其特征在于,所述回避單元被配置為,基于源自所述缺陷部分的虛擬反作用產生校正軌道生成模型,從而改變所述磁頭的運動軌道。
5.根據權利要求1所述的盤驅動器,其特征在于,所述磁頭運動控制單元被配置為,通過模型跟隨控制方法來執行尋道控制;所述確定單元被配置為,計算到缺陷部分的距離,所述缺陷部分沿磁頭移動以及進行尋道操作的方向鄰近所述磁頭當前所在的位置;以及,所述回避單元被配置為,基于通過所述確定單元計算的距離,產生缺陷回避速度,以及輸出所述缺陷回避速度作為用于尋道操作的速度的速度校正值。
6.根據權利要求1所述的盤驅動器,其特征在于,所述磁頭運動控制單元被配置為,通過模型跟隨控制方法來執行尋道控制;所述確定單元被配置為,計算到缺陷部分的距離,所述缺陷部分沿磁頭移動以及進行尋道操作的方向鄰近所述磁頭當前所在的位置;所述回避單元被配置為,基于通過所述確定單元計算出的距離,產生缺陷回避速度,以及輸出所述缺陷回避速度作為用于尋道操作的速度的速度校正值;以及,所述磁頭運動控制單元包括速度生成單元,所述速度生成單元將利用所述校正值校正的速度值轉換成虛擬模型輸入值,以及將所述虛擬模型輸入值輸出為虛擬模型命令。
7.根據權利要求1所述的盤驅動器,其特征在于,所述磁頭運動控制單元被配置為,通過模型跟隨控制方法來執行尋道控制;以及,所述回避單元被配置為,產生校正的位置信息,所述校正的位置信息使得虛擬模型位置回避所述缺陷部分。
8.根據權利要求1所述的盤驅動器,其特征在于,所述確定單元從所述缺陷位置信息檢測所述缺陷部分,并且確定所述磁頭已經接近所述缺陷部分的位置;以及,所述回避單元被配置為,基于源自所述缺陷部分的虛擬反作用改變所述磁頭的運動軌道,從而使得所述磁頭回避所述缺陷部分。
9.根據權利要求1所述的盤驅動器,其特征在于,所述磁頭運動控制單元由微處理器構成,所述微處理器被配置為,通過模型跟隨控制方法來執行尋道控制。
10.根據權利要求1所述的盤驅動器,其特征在于,所述確定單元和所述回避單元由微處理器構成。
11.一種控制磁頭運動的方法,包括磁頭移動機構和磁頭運動控制單元,所述磁頭移動機構將磁頭移動到旋轉盤介質上的期望位置,所述磁頭運動控制單元限定磁頭的從所述磁頭當前所在的位置延伸到期望位置的運動軌道,從而控制所述磁頭移動機構,所述方法的特征在于,包括:
從所述缺陷位置信息,確定所述磁頭接近所述缺陷部分的位置,同時通過所述磁頭移動機構將所述磁頭向期望位置移動;以及
基于確定的位置執行改變所述磁頭的運動軌道的缺陷回避過程,從而使得所述磁頭回避所述缺陷部分。
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