[發明專利]鐵電存儲器用柱狀摻釹鈦酸鉍鐵電薄膜的制備方法無效
| 申請號: | 200710168369.3 | 申請日: | 2007-11-16 |
| 公開(公告)號: | CN101168488A | 公開(公告)日: | 2008-04-30 |
| 發明(設計)人: | 于軍;楊斌;鄭朝丹;李佳;王耘波;高俊雄;周文利 | 申請(專利權)人: | 華中科技大學 |
| 主分類號: | C04B41/50 | 分類號: | C04B41/50;C04B35/462;G11B9/02 |
| 代理公司: | 華中科技大學專利中心 | 代理人: | 曹葆青 |
| 地址: | 430074湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 存儲 器用 柱狀 摻釹鈦酸鉍鐵電 薄膜 制備 方法 | ||
技術領域
本發明屬于屬于微電子新材料與器件技術,具體涉及一種鐵電存儲器用柱狀摻釹鈦酸鉍鐵電薄膜的制備方法。
背景技術
鐵電隨機存儲器(FeRAM)與傳統的半導體存儲器相比有許多突出的優點,具有廣闊的應用前景和巨大的經濟效益。稀土元素釹Nd摻雜的鈦酸鉍是一種新型的用于FeRAM的鐵電材料,它具有較高的剩余極化強度和較好的抗疲勞特性。已有文獻報道了使用溶膠凝膠法對該材料的制備,其中,Lu?C.J.等人使用較高摩爾濃度的前軀體溶液,在傳統的退火方式(多層涂覆一次性退火,退火時升溫速度較慢)下,制得的薄膜晶粒數量多,晶粒尺寸小,同時還有需要氧氣氣氛、制備溫度較高的問題(約為750℃)。這一方面不利于薄膜電容器抗疲勞特性的提高,另一方面也不利于與現有CMOS工藝兼容。[Lu?C.J.,Liu?X.L.,Chen?X.Q.,Nie?C.J.,Rhun?G.,Senz?S.,HesseD.,Anisotropic?ferro-and?piezoelectric?properties?of?sol-gel-grownBi3.15Nd0.85Ti3O12?films?with?two?different?orientations?on?Pt/Ti/SiO2/Si,Applied?Physics?Letters,89,062905]
發明內容
本發明的目的在于克服上述現有技術的不足之處,提供一種鐵電存儲器用柱狀摻釹鈦酸鉍鐵電薄膜的制備方法,利用該方法制備的鐵電薄膜晶粒呈柱狀,且尺寸較大,疲勞特性好,結晶溫度較低,無需氧氣氣氛,與現有CMOS工藝兼容。
為實現本發明的目的,本發明提供的鐵電存儲器用柱狀摻釹鈦酸鉍鐵電薄膜的制備方法,包括以下步驟:
(1)制備摩爾濃度為0.04~0.05摩爾/升的Bi3.15Nd0.85Ti3O12的前軀體溶液;
(2)采用具有Pt為底電極的p型(100)Si作為襯底,在襯底上旋轉涂覆一層前軀體溶液,勻膠速度為3500~4000轉/分,勻膠時間為30~35秒;
(3)烘烤涂覆有前軀體溶液的襯底,烘烤溫度為150~200℃,烘烤時間為5~10分鐘;
(4)進行熱解,熱解溫度為350~400℃,熱解時間為5~10分鐘,熱解后把薄膜樣品從管式爐中直接拿出,置于室溫、空氣環境中;
(5)待薄膜樣品冷卻至室溫后,將其直接放入已升溫至645~655℃的管式爐中,在空氣氣氛下進行退火,退火時間為5~10分鐘;
(6)重復步驟(2)-步驟(5)直至獲得所需厚度的薄膜;
(7)將薄膜樣品放入管式爐中,在空氣氣氛下,隨爐從室溫升溫退火,升溫速度為2~10℃/分鐘,退火溫度為645~655℃,退火時間為20~30分鐘,得到柱狀摻釹鈦酸鉍鐵電薄膜。
所述步驟(1)包括下列各步:
(1.1)將鈦酸四正丁酯溶解于乙二醇獨甲醚、乙酰丙酮、冰醋酸的混合溶液中,在室溫下攪拌至溶液澄清;
(1.2)將五水硝酸鉍Bi(NO3)3·5H2O、六水硝酸釹Nd(NO3)3·6H2O按摩爾比3.25∶0.85溶解于乙二醇獨甲醚中,在室溫下攪拌至溶液澄清;
(1.3)將步驟(1.2)所得溶液加入到步驟(1.1)所得溶液中,在室溫下攪拌,得到混合溶液;
(1.4)過濾混合溶液,并加入適量乙二醇獨甲醚,得到摩爾濃度為0.04~0.05摩爾/升的前軀體溶液。
所述步驟(1.1)包括下列各步:
(1.1.1)分別量取與所需鈦酸四正丁酯等摩爾量的乙酰丙酮和冰醋酸,并加入體積為乙酰丙酮體積8~10倍的乙二醇獨甲醚,在室溫條件下攪拌至溶液澄清;
(1.1.2)稱取所需鈦酸四正丁酯,并溶解于步驟(1.1.1)所得溶劑中,在室溫條件下攪拌至溶液澄清;
所述步驟(1.2)中所需乙二醇獨甲醚的體積為步驟(1.1.1)中所述乙二醇獨甲醚的2~2.1倍。
本發明的有益效果是:
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