[發明專利]等離子處理裝置

無效

• 申請號: 200710168160.7
• 申請日: 2005-11-15
• 公開（公告）號: CN101203087A
• 公開（公告）日: 2008-06-18
• 發明（設計）人: 申寅澈;張圣基;金兌昱;柳炅昊;鄭修然
• 申請（專利權）人: K.C.科技股份有限公司
• 主分類號: H05H1/24
• 分類號: H05H1/24;H01L21/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 李香蘭

1.一種等離子處理裝置，其特征在于，

包括流入工序氣體的氣體流入部、和將流入的工序氣體利用一對電極板進行放電而對基板進行等離子處理的等離子源，

所述一對電極板是組裝了多個單位電極單元的一對單元型電極板。

2.如權利要求1所述的等離子處理裝置，其特征在于，

組裝所述單位電極單元的長度等于或者大于所述基板的寬度。

3.如權利要求1所述的等離子處理裝置，其特征在于，

所述單位電極單元由單位電極板、在所述單位電極板上形成的電極、以及在所述單位電極板的一側面形成的間隙槽。

4.如權利要求1所述的等離子處理裝置，其特征在于，

所述單元型電極板由在一側的多個單位電極單元相互連續連接而形成的多個第1槽、和在另一側的多個單位電極單元相互連續連接而形成的多個第2槽構成，

互相錯開配置所述多個第1槽和第2槽，使通過所述多個第1槽流入的氣體不直接噴射在第2槽。

5.如權利要求4所述的等離子處理裝置，其特征在于，

所述多個第2槽以相對所述基板的前進方向斜線傾斜的間隙形態配置。

6.如權利要求1所述的等離子處理裝置，其特征在于，

還設置有向所述等離子源供給電源的電源供給裝置。

7.如權利要求6所述的等離子處理裝置，其特征在于，

所述電源供給裝置還具備生成高電壓的功率變換器。

8.如權利要求7所述的等離子處理裝置，其特征在于，

所述功率變換器與所述等離子源形成為一體。

9.如權利要求8所述的等離子處理裝置，其特征在于，

形成為一體的所述功率變換器和所述等離子源通過電子波屏蔽物質與外部隔離。

10.如權利要求8所述的等離子處理裝置，其特征在于，

連接形成為一體的所述功率變換器和所述等離子源的線是高壓線，而控制所述功率變換器和所述等離子源的控制板則通過電源線連接。

11.如權利要求10所述的等離子處理裝置，其特征在于，

所述電源線被電子波屏蔽物質纏繞而與外部隔離

12.如權利要求1所述的等離子處理裝置，其特征在于，還包括：

調節所述基板和等離子源的間隔的高度調節部；

驅動所述高度調節部的驅動部；和

控制所述驅動部的主控制部。

13.如權利要求12所述的等離子處理裝置，其特征在于，

所述高度調節部包括：

通過所述驅動部的打開/關閉而被驅動的兩側的一對氣缸、

將通過所述一對氣缸傳達的水平方向能量轉換為垂直方向能量的位于兩側的一對楔塊、

通過利用通過所述一對楔塊轉換的能量而將被安置的所述等離子源上升到規定的高度的位于兩側的一對裝載部、和

保持所述一對氣缸對所述一對楔塊施加的力相同的連接部。