[發明專利]防護薄膜組件收納容器有效
| 申請號： | 200710168014.4 | 申請日： | 2007-10-31 |
| 公開（公告）號： | CN101174083A | 公開（公告）日： | 2008-05-07 |
| 發明（設計）人： | 關原一敏 | 申請（專利權）人： | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號： | G03F1/00 | 分類號： | G03F1/00;G03F7/20;H01L21/673;B65D81/18 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人： | 陶鳳波 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 防護 薄膜 組件 收納 容器 | ||
【權利要求書】：
1.一種防護薄膜組件收納容器，包含：
容器本體，用以載置防護薄膜組件；
蓋體，其覆蓋防護薄膜組件，且與該容器本體在周緣部互相嵌合卡止，
其特征為：
該蓋體是以樹脂片材成形，且在該蓋體上表面上設置有至少1個肋部，其與蓋體外形中的某一邊所成角度在10°以內，且與其他肋部不相交叉。
2.如權利要求1所述的防護薄膜組件收納容器，其中，
該肋部與蓋體外形的短邊所成角度在10°以內。
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G03 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
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G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
