[發明專利]一種集成電路裝置及存儲矩陣有效
| 申請號: | 200710166453.1 | 申請日: | 2007-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN101345250A | 公開(公告)日: | 2009-01-14 |
| 發明(設計)人: | 李自強;梁春升;黃俊仁;楊富量 | 申請(專利權)人: | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/24 | 分類號: | H01L27/24;H01L23/522 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 | 代理人: | 陳紅 |
| 地址: | 臺灣省新竹市新*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 集成電路 裝置 存儲 矩陣 | ||
1.一種集成電路裝置,其特征在于,包含:
一個晶體管,具有一第一接點、第二接點和第三接點;
一接觸栓塞,連接該第一接點;
一金屬線,連接且覆蓋在該接觸栓塞之上;
一第一電阻式存儲單元,具有一第一底電極、一第一電阻組件以及一第一頂電極,該第一電阻組件位于該第一底電極與該第一頂電極之間,其中該第一底電極連接并覆蓋在該金屬線之上,且該第一底電極的截面積小于該第一電阻組件的截面積,且該第一頂電極的電阻率大于或等于該第一底電極的電阻率;以及
一第二電阻式存儲單元,具有一第二底電極、一第二電阻組件以及一第二頂電極,該第二電阻組件位于該第二底電極與該第二頂電極之間,其中該第二底電極連接并覆蓋在該金屬線之上,且該第二底電極的截面積小于該第二電阻組件的截面積,且該第二頂電極的電阻率大于或等于該第二底電極的電阻率。
2.根據權利要求1所述的集成電路裝置,其特征在于,該第一和該第二底電極的電阻率高于該金屬線。
3.根據權利要求1所述的集成電路裝置,其特征在于,該晶體管選自一組至少具有多個雙極結型晶體管、多個金屬氧化物半導體裝置和多個鰭式場效應晶體管的群組。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





