[發明專利]具有接地構件完整性指示器的等離子體處理室及其使用方法有效
| 申請號: | 200710165337.8 | 申請日: | 2007-10-26 |
| 公開(公告)號: | CN101187013A | 公開(公告)日: | 2008-05-28 |
| 發明(設計)人: | 約翰·M·懷特;卡爾·索倫森 | 申請(專利權)人: | 應用材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/50 | 分類號: | C23C16/50;C23C16/52;H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 | 代理人: | 徐金國;梁揮 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 接地 構件 完整性 指示器 等離子體 處理 及其 使用方法 | ||
技術領域
本發明的實施例一般涉及用于等離子體加工基板的方法和裝置,更加特定地,涉及具有接地構件完整性指示器的等離子體處理室及其使用方法。
背景技術
液晶顯示器或平板通常用于諸如計算機和電視監視器的有源矩陣顯示器。一般,平板包括具有夾在其中的一層液晶材料的兩個平板。至少一個平板包括設置在其上并且與功率源連接的至少一個導電薄膜。從功率源施加到導電薄膜的功率改變液晶材料的取向,產生圖案顯示。
為了制備這些顯示器,諸如玻璃或聚合物工件的基板通常經歷多個連續工序以在基板上產生器件、導體和絕緣體。這些工序的每一個通常在用于執行生成工序的單一步驟的處理室中執行。為了有效完成處理步驟的整個序列,通常將多個處理室連接到中央傳送室,中央傳送室容納了利于在處理室之間傳送基板的機械手。具有這種配置的處理平臺一般稱為多腔集成設備(cluster?tool),其示例是由加利加利佛尼亞州圣克拉拉市的AKT?America公司提供的AKT等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)處理平臺系列。
由于平板需求增加,大尺寸基板的需求也增加了。例如,最近幾年用于平板制備的大面積基板的面積從550mm×650mm增加到超過2平方米,而且預計不久將來尺寸將持續增加。大面積基板尺寸的這種增長使處理和制備面臨新的挑戰。例如,基板的更大表面積需要增加基板支架的接地能力。在傳統系統上,多個柔性導電條帶提供基板支架和室體之間的接地通路。由于從處理室的外部不易于觀察到接地條帶(ground?strap),即使一個或多個條帶破裂,操作員也經常不能察覺。如果足夠多的條帶破裂,處理結果可能不符合規格,導致缺陷。雖然一個條帶的破裂不是災難性的,但是條帶破裂會影響處理均勻性。由此,發明人認識到為了保持穩健處理需要監控基板支架接地的有效性。
因此,需要具有接地構件完整性指示器的改進的等離子體處理室及其使用方法。
發明內容
本發明提供了用于監控在等離子體處理室中接地構件的完整性的方法和裝置,該接地構件用于將基板支架連接到諸如接地的室體的地上。在一個實施例中,提供了包括連接在基板支架和室體之間的接地通路構件的處理室。傳感器定位以感應表示通過接地構件的電流的測度。
在另一實施例中,處理室包括連接在基板支架和室體之間的多個接地條帶。提供了多個傳感器。傳感器定位以感應表示相應一個接地條帶的條帶完整性的測度。
在另一實施例中,用于監控在等離子體處理室中將基板支架連接到室體的接地構件的完整性的方法包括在處理期間監控表示通過接地構件的電流的完整性的測度、響應超過預定閥值的測度而設定標識。
在另一實施例中,用于處理基板的方法包括在真空處理室中對布置在基板支架上的基板進行等離子體處理、在處理期間監控將基板支架連接到接地的接地構件的完整性。
附圖說明
出于獲得并詳細理解本發明的上述特征的方式,參考在附圖中描述的實施例可獲得上面概述的本發明的更加具體的描述。
圖1是具有釋放電路(dechuking?circuit)的等離子體增強化學氣相沉積系統的一個實施例的橫截面視圖;
圖2是用于釋放基板的方法的一個實施例的流程圖;
圖3是具有釋放電路的等離子體增強化學氣相沉積系統的另一實施例的橫截面視圖;
圖4是具有釋放電路的等離子體增強化學氣相沉積系統的另一實施例的橫截面視圖;以及
圖5是具有釋放電路的等離子體增強化學氣相沉積系統的另一實施例的橫截面視圖。
為了便于理解,盡可能地使用相同附圖標記表示附圖中共有的相同元件。然而,需要指出的是,附圖僅描述本發明的典型實施例,由于本發明可以容納其它等效實施例,不能認為附圖限制了本發明的范圍。
具體實施方式
本發明一般涉及等離子體處理室和用于在等離子體處理系統中監控將基板支架連接到室體的接地構件的完整性的方法。雖然在大面積基板處理系統中示范描述、示出和實現本發明,本發明也可以在其它等離子體處理室中具有效用,該其它等離子體處理室需要保證一個或多個接地通路在便于室內達到可接受的處理水平上保持功能。
圖1是具有接地通路完整性傳感器160的一個實施例的等離子體增強化學氣相沉積系統100的一個實施例的橫截面視圖。接地通路完整性傳感器160便于監控連接在基板支架組件138和室體102之間的接地通路的有效性。預計接地通路完整性傳感器160及其使用方法的實施例,以及其派生物,可以用于其它處理系統,包括來自其它生產商的那些系統。
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C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





