[發明專利]具有接地構件完整性指示器的等離子體處理室及其使用方法有效
| 申請號: | 200710165337.8 | 申請日: | 2007-10-26 |
| 公開(公告)號: | CN101187013A | 公開(公告)日: | 2008-05-28 |
| 發明(設計)人: | 約翰·M·懷特;卡爾·索倫森 | 申請(專利權)人: | 應用材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/50 | 分類號: | C23C16/50;C23C16/52;H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 | 代理人: | 徐金國;梁揮 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 接地 構件 完整性 指示器 等離子體 處理 及其 使用方法 | ||
1.一種處理室,包括:
室體;
設置在室體中的基板支架;
連接在基板支架和室體之間的接地通路構件;
定位以感應表示流過接地通路構件的電流的測度的傳感器。
2.根據權利要求1所述的處理室,其特征在于,接地通路構件還包括柔性條帶。
3.根據權利要求1所述的處理室,其特征在于,接地通路構件還包括:
可在從基板支架分離的第一位置和與基板支架接觸的第二位置之間移動的桿。
4.根據權利要求1所述的處理室,其特征在于,傳感器還包括:
電流傳感器。
5.根據權利要求1所述的處理室,其特征在于,傳感器設置在室體中。
6.根據權利要求1所述的處理室,其特征在于,傳感器設置在室體外部。
7.根據權利要求1所述的處理室,其特征在于,傳感器還包括:
用于感應表示接地構件電阻的測度的電阻傳感器。
8.一種處理室,包括:
室體;
設置在室體中的基板支架;
連接在基板支架和室體之間的多個接地條帶;
多個傳感器,每個傳感器定位以感應表示各自一個接地條帶的條帶完整性的測度。
9.根據權利要求8所述的處理室,其特征在于,多個傳感器設置在處理室中。
10.根據權利要求9所述的處理室,其特征在于,還包括:
穿過室體形成的真空饋送通路,以及
連接到傳感器并穿過饋送通路的多個導線。
11.根據權利要求8所述的處理室,其特征在于,還包括:
連接到至少一個傳感器的傳感電路,該傳感電路包括放大器。
12.根據權利要求8所述的處理室,其特征在于,至少一個傳感器還包括:
用于感應表示相關條帶的電阻的測度的電阻傳感器。
13.根據權利要求8所述的處理室,其特征在于,至少一個傳感器還包括:
用于感應表示流過相關條帶的電流的測度的電流傳感器。
14.一種用于監控在等離子體處理室中將基板支架連接到室體的接地構件的完整性的方法,包括:
監控表示在處理期間流過該接地構件的電流的測度;
當測度的變化超過預定閥值時設定標識。
15.根據權利要求14的方法,其特征在于,設定標識還包括:
確定預定數量的接地通路是否處于開路狀態。
16.根據權利要求14的方法,其特征在于,設定標識還包括:
確定預定組合的接地通路是否處于開路狀態。
17.根據權利要求14的方法,其特征在于,設定標識還包括:
警告操作員。
18.根據權利要求14的方法,其特征在于,設定標識還包括:
響應標識使等離子體處理室停止運行。
19.一種用于處理基板的方法,包括:
對設置在真空處理室內的基板支架上的基板進行等離子體處理;
在處理期間監控將基板支架連接到接地的接地構件的連續性。
20.根據權利要求19的方法,其特征在于,監控接地構件的連續性還包括感應流過接地構件的電流或監控接地構件的電阻中的至少一種。
21.根據權利要求19的方法,其特征在于,還包括:
當檢測到接地構件連續性中的變化時設定標識。
22.根據權利要求19的方法,其特征在于,還包括:
響應接地構件連續性中的變化改變處理設置。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





