[發明專利]用于接觸檢測件的接觸裝置及接觸檢測件的方法

有效

• 申請號: 200710162079.8
• 申請日: 2007-11-26
• 公開（公告）號: CN101191800A
• 公開（公告）日: 2008-06-04
• 發明（設計）人: 賴納·施密德;烏爾里希·高斯
• 申請（專利權）人: 精煉金屬股份有限公司
• 主分類號: G01R1/02
• 分類號: G01R1/02
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 王潔

1.一種用于接觸待檢測的電子檢測件(25)，尤其是設有鍍錫觸點的檢測件(25)的接觸裝置(1)，具有至少兩個帶有缺口(16，17，18，19)的導向元件(2，3，4，5)，通過所述的缺口，接觸元件(20)本質上沿軸向延伸，所述接觸元件(20)在分配的導向元件(5)的移向所述檢測件(25)的面上從該面突出以接觸所述檢測件(25)，其特征在于，能夠校準所述導向元件(2，3，4，5)的軸向間距或者移向所述檢測件(25)的導向元件(5)的軸向位置以適應突出長度(H)。

2.如權利要求1所述的接觸裝置，其特征在于，所述導向元件(2，3，4，5)的軸向間距能夠利用至少一個校準裝置(28)來校準。

3.如前面任意一項權利要求所述的接觸裝置，其特征在于，所述校準裝置(28)能夠連續地校準和/或分等級地校準。

4.如前面任意一項權利要求所述的接觸裝置，其特征在于，所述校準裝置(28)為校準螺紋裝置(31)。

5.如前面任意一項權利要求所述的接觸裝置，其特征在于，所述校準裝置(28)為氣壓、液壓和/或壓電的校準裝置(34)。

6.如前面任意一項權利要求所述的接觸裝置，其特征在于，所述校準裝置(28)為本質上能夠徑向移動的楔形裝置和/或階梯裝置(35)。

7.如前面任意一項權利要求所述的接觸裝置，其特征在于，所述校準裝置(28)做成取出設備形式，其中通過取出所述的校準裝置(28)而減小所述導向元件(2，3，4，5)之間的軸向間距。

8.如前面任意一項權利要求所述的接觸裝置，其特征在于，所述導向元件(2，3，4，5)的軸向間距能夠利用至少一個設置于所述導向元件(2，3，4，5)之間的間距保持器(29)進行校準。

9.如前面任意一項權利要求所述的接觸裝置，其特征在于，所述間距保持器(29)在厚度上可變。

10.如前面任意一項權利要求所述的接觸裝置，其特征在于，所述間距保持器(29)在厚度上可以利用所述校準裝置(28)，和/或所述校準螺紋裝置(31)，和/或氣壓、液壓和/或壓電校準裝置(34)，和/或楔形裝置和/或階梯裝置(35)，和/或取出裝置進行校準。

11.如前面任意一項權利要求所述的接觸裝置，其特征在于，所述軸向間距能夠利用至少一個可取出的和/或本質上可徑向移動的間距保持器(29)進行校準。

12.如前面任意一項權利要求所述的接觸裝置，其特征在于，所述可取出的間距保持器(29)做成框架形式或者由框架部件(30)裝配而成。

13.如前面任意一項權利要求所述的接觸裝置，其特征在于，所述框架形式的結構做成至少在一面開放的框架結構。

14.如前面任意一項權利要求所述的接觸裝置，其特征在于，所述框架形式的結構利用U形框架部件(30)構成。

15.如前面任意一項權利要求所述的接觸裝置，其特征在于，設有若干個，尤其是互相疊加的間距保持器(29)，所述間距保持器(29)能夠單個被取出。

16.如前面任意一項權利要求所述的接觸裝置，其特征在于，所述尤其互相疊加的間距保持器(29)圍繞沿軸向的軸(M)互相旋轉設置。

17.一種用于接觸待檢測的檢測件(25)，尤其是是設有鍍錫觸點的檢測件(25)的方法，優選采用如前面任意一項或幾項權利要求所述的接觸裝置(1)，利用本質上沿軸向延伸的、穿過至少兩個導向元件(2，3，4，5)延伸的接觸元件(20)，其中所述接觸元件(20)在分配的導向元件(5)移向所述檢測件(25)的面上從該面突出以接觸所述檢測件(25)，其中所述導向元件(2，3，4，5)的軸向間距或者移向所述檢測件(25)的導向元件(5)的軸向位置能夠被校準以適應突出長度(H)。