[發(fā)明專利]清除氣體供應(yīng)系統(tǒng)及氣體清除方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710161973.3
• 申請(qǐng)日: 2007-09-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101398127A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-04-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 何照銘;魏涌洲
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 力晶半導(dǎo)體股份有限公司
• 主分類號(hào): F17D1/04
• 分類號(hào): F17D1/04;B08B9/032
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所
• 代理人: 陶鳳波

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種流體供應(yīng)系統(tǒng)及清除方法，且特別地，涉及一種清除氣體(purge?gas)供應(yīng)系統(tǒng)及氣體清除方法。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體工藝中，幾乎每一種工藝設(shè)備都需要各種不同的氣體來(lái)參與工藝的進(jìn)行。所以，半導(dǎo)體的工藝設(shè)備都需要個(gè)別的氣體輸送處理系統(tǒng)來(lái)傳輸所需要的工藝氣體(processing?gas)。而氣體輸送系統(tǒng)的規(guī)劃，也隨著各種不同氣體間的特性，而有簡(jiǎn)單到非常復(fù)雜的設(shè)計(jì)。

一般而言，氣體輸送系統(tǒng)是用來(lái)將設(shè)備所需的工藝氣體透過(guò)管線及各種配件，而供應(yīng)到設(shè)備中。而半導(dǎo)體工藝所需要的各種工藝氣體，通常是由存放在氣體儲(chǔ)柜里的氣體鋼瓶(gas?cylinder)所供應(yīng)。在更換氣體儲(chǔ)柜中的氣體鋼瓶時(shí)，若連接氣體鋼瓶的管線內(nèi)還殘留有工藝氣體，容易造成殘留的工藝氣體流入工作環(huán)境內(nèi)。因此，在更換氣體鋼瓶之前，通常會(huì)使用清除氮?dú)?purge?nitrogen)來(lái)清潔工藝氣體的輸送管線，以將管線內(nèi)的工藝氣體排除。

然而，在一般常溫(約介于20℃至24℃之間)狀態(tài)下的清除氮?dú)猓瑢?duì)于如溴化氫(HBr)或氯氣(Cl₂)等黏滯性較高的工藝氣體的清除效果極有限。而在沒(méi)有完全清理干凈的管線中，殘存的工藝氣體或液滴容易與水氣發(fā)生反應(yīng)，生成氯化氫(HCl)等有害反應(yīng)物，而導(dǎo)致閥件腐蝕損壞且危害操作人員的安全。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種清除氣體供應(yīng)系統(tǒng)，能夠提供加熱的氮?dú)猓杂行宄芫€內(nèi)殘留的工藝氣體或液滴。

本發(fā)明還提供一種氣體清除方法，可有助于徹底清除管線內(nèi)的殘存物，以降低清除氣體的使用量。

本發(fā)明提出一種清除氣體供應(yīng)系統(tǒng)，適于連接至工藝氣體供應(yīng)系統(tǒng)。此清除氣體供應(yīng)系統(tǒng)包括氣體供應(yīng)源、緩沖槽、第一氣體輸送管線以及控制器。氣體供應(yīng)源用于提供清除氣體。緩沖槽連接氣體供應(yīng)源，用以改變通過(guò)緩沖槽的清除氣體的溫度。第一氣體輸送管線連接氣體供應(yīng)源與緩沖槽。控制器連接緩沖槽，用以調(diào)控緩沖槽的溫度。

在本發(fā)明一實(shí)施例中，上述緩沖槽包括加熱裝置，以加熱通過(guò)緩沖槽的清除氣體。

在本發(fā)明一實(shí)施例中，上述控制器例如連接加熱裝置。

在本發(fā)明一實(shí)施例中，上述清除氣體加熱后的溫度介于35℃至40℃之間。

在本發(fā)明一實(shí)施例中，還包括第二氣體輸送管線，連接緩沖槽與工藝氣體供應(yīng)系統(tǒng)，用以將清除氣體輸送至工藝氣體供應(yīng)系統(tǒng)。

在本發(fā)明一實(shí)施例中，上述清除氣體例如是氮?dú)狻?/p>

在本發(fā)明一實(shí)施例中，上述工藝氣體供應(yīng)系統(tǒng)所提供的氣體例如是高黏滯性氣體。

在本發(fā)明一實(shí)施例中，上述高黏滯性氣體例如是溴化氫。

在本發(fā)明一實(shí)施例中，上述高黏滯性氣體例如是氯氣。

本發(fā)明還提出一種氣體清除方法，適于清潔管線內(nèi)的高黏滯性工藝氣體。首先，加熱清除氣體。接著，將經(jīng)加熱的清除氣體輸送至管線中。之后，排出清除氣體。

在本發(fā)明一實(shí)施例中，上述加熱清除氣體，使清除氣體的溫度介于35℃至40℃之間。

在本發(fā)明一實(shí)施例中，上述清除氣體例如是惰性氣體(inert?gas)。

在本發(fā)明一實(shí)施例中，上述清除氣體例如是氮?dú)狻?/p>

在本發(fā)明一實(shí)施例中，上述高黏滯性工藝氣體例如是溴化氫。

在本發(fā)明一實(shí)施例中，上述高黏滯性工藝氣體例如是氯氣。

本發(fā)明清除氣體供應(yīng)系統(tǒng)因配置可加熱的緩沖槽及調(diào)控緩沖槽溫度的控制器，因此，管線內(nèi)水氣和殘存的工藝氣體或液滴可以容易地被清除，進(jìn)而增加閥件的使用壽命并提高操作人員的安全性。

此外，本發(fā)明的氣體清除方法可以有效地清除管線內(nèi)高黏滯性氣體的殘存物，因此能夠減少清除管線的次數(shù)，降低清除氣體的使用量，避免工藝成本的增加。

為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉較佳實(shí)施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說(shuō)明如下。

附圖說(shuō)明

圖1是依照本發(fā)明一實(shí)施例的清除氣體供應(yīng)系統(tǒng)的配置示意圖。

圖2為依照本發(fā)明一實(shí)施例的氣體清除方法的步驟流程圖。

【主要附圖標(biāo)記說(shuō)明】

100：清除氣體供應(yīng)系統(tǒng)

110、210：氣體供應(yīng)源

120：緩沖槽

130：控制器

140、142、240a、240b、240c、240d、240e：氣體輸送管線

144、146、242a、242b、242c、242d：閥件

200：工藝氣體供應(yīng)系統(tǒng)

220：使用端

230：抽氣裝置

244：管線