[發明專利]基板的顯影處理方法及基板的顯影處理裝置

無效

• 申請號: 200710161229.3
• 申請日: 2007-09-25
• 公開（公告）號: CN101158820A
• 公開（公告）日: 2008-04-09
• 發明（設計）人: 春本將彥;山口晃;久井章博
• 申請（專利權）人: 株式會社迅動
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30;G03F7/40;H01L21/027
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司
• 代理人: 高龍鑫

1.一種基板的顯影處理方法，其包括，

顯影工序，該顯影工序在使基板以水平姿勢繞鉛直軸周圍旋轉的同時，向形成于基板表面上的曝光后的抗蝕膜上供給顯影液以對抗蝕膜進行顯影處理；

清洗工序，該清洗工序在使基板以水平姿勢繞鉛直軸周圍旋轉的同時，向形成于基板表面上的顯影處理后的抗蝕膜上供給清洗液以進行清洗處理；及

干燥工序，該干燥工序使基板以水平姿勢繞鉛直軸周圍旋轉，使形成于基板表面上的清洗處理后的抗蝕膜干燥，其特征在于，

在上述顯影工序后，具有繼續使基板以水平姿勢繞鉛直軸周圍旋轉，通過離心力使基板表面上的顯影液飛散而除去的顯影液除去工序，在該顯影液除去工序后進行上述清洗工序。

2.如權利要求1所述的基板的顯影處理方法，其特征在于，在上述顯影工序中，使顯影液的供給位置從基板的中心部到周緣部進行掃描。

3.如權利要求1或2所述的基板的顯影處理方法，其特征在于，在上述顯影液除去工序中，向旋轉的基板的中心部供給干燥用氣體。

4.如權利要求1或2所述的基板的顯影處理方法，其特征在于，在上述顯影液除去工序中，向旋轉的基板的中心部供給干燥用氣體，使干燥用氣體的供給位置從基板的中心部到周緣部進行掃描。

5.一種基板的顯影處理裝置，其具有，

基板保持裝置，該基板保持裝置將基板保持在水平姿勢；

基板旋轉裝置，該基板旋轉裝置使通過該基板保持裝置保持的基板繞鉛直軸周圍旋轉；

顯影液噴出噴嘴，該顯影液噴出噴嘴向曝光后的抗蝕膜上噴出顯影液，該曝光后的抗蝕膜形成于通過上述基板保持裝置保持的基板的表面上；

清洗液噴出噴嘴，該清洗液噴出噴嘴向形成于基板表面上的顯影處理后的抗蝕膜上噴出清洗液，其特征在于，

具有分別控制上述基板旋轉裝置、上述顯影液噴出噴嘴、以及上述清洗液噴出噴嘴的控制裝置，從而達到：通過上述基板旋轉裝置使基板旋轉的同時，從上述顯影液噴出噴嘴向形成于基板表面上的曝光后的抗蝕膜上噴出顯影液以對抗蝕膜進行顯影處理，其后，繼續使基板旋轉，通過離心力使基板表面上的顯影液飛散而除去，接下來，從上述清洗液噴出噴嘴向形成于基板表面上的顯影處理后的抗蝕膜上噴出清洗液進行清洗處理。

6.如權利要求5所述的基板的顯影處理裝置，其特征在于，上述顯影液噴出噴嘴，在從其噴出口向基板表面上噴出顯影液的同時，從噴出口與基板中心相向的位置到與基板周緣相向的位置進行掃描。

7.如權利要求5或6所述的基板的顯影處理裝置，其特征在于，還具有向形成于基板表面上的顯影處理后的抗蝕膜上噴出干燥用氣體的氣體噴出噴嘴。

8.如權利要求7所述的基板的顯影處理裝置，其特征在于，上述氣體噴出噴嘴，在從其噴出口向基板表面上噴出干燥用氣體的同時，從其噴出口與基板中心相向的位置到與基板周緣相向的位置進行掃描。