[發(fā)明專利]研磨墊及其應(yīng)用與制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710152300.1 | 申請日: | 2007-09-21 |
| 公開(公告)號: | CN101314216A | 公開(公告)日: | 2008-12-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 馮崇智;姚伊蓬;王良光;洪永璋;宋坤政 | 申請(專利權(quán))人: | 三芳化學(xué)工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號: | B24B37/04 | 分類號: | B24B37/04;B24D13/00;B24D18/00;H01L21/304 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 邢好路 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 研磨 及其 應(yīng)用 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種用于化學(xué)機械研磨的研磨墊。
背景技術(shù)
化學(xué)機械研磨(CMP)是用于使用研磨墊平坦化襯底表面的程序。CMP一般應(yīng)用于研磨透鏡、鏡子、液晶顯示器的襯底、硅晶片以及硅晶片上的氧化和/或金屬層。
以硅晶片作為實例,首先將單晶硅結(jié)晶塊切片。通常對所述晶片進行磨光,以使其變平坦以隨后進行化學(xué)蝕刻。在蝕刻過程之后需要研磨過程。在研磨過程期間,研磨墊連同漿液一起與晶片表面上的硅原子進行化學(xué)反應(yīng),以使得經(jīng)反應(yīng)的表面比下伏硅柔軟。此外,不斷擦去經(jīng)反應(yīng)的表面,從而導(dǎo)致新鮮硅暴露于漿液和研磨墊。
常規(guī)研磨墊包含基底材料,所述基底材料包括纖維。還在所述基底材料上或所述基底材料中提供包含多孔彈性體(例如聚氨酯)的研磨層。通過使用感壓粘合劑(PSA),將所述常規(guī)研磨墊緊固到研磨機的研磨平板或研磨頭。所述感壓粘合劑包含載體膜,所述載體膜包括(例如)聚酯,且在載體膜的上側(cè)和下側(cè)上具有具低流動性的粘合劑。此類粘合劑已知為雙面粘合劑。載體膜上側(cè)上的粘合劑經(jīng)配置以耦合研磨墊的基底材料,且載體膜下側(cè)上的粘合劑將耦合研磨機的研磨平板或研磨頭。
因為研磨墊的基底材料包含纖維,所以基底材料的內(nèi)含物未均勻分布,容易觀測到基底材料的厚度變化。另外,基底材料的表面不是平坦的,且通常是粗糙且起伏的。此類特征使得基底材料難以牢固地并完全地附著到PSA的承載膜上。另一方面,研磨機的研磨平板或研磨頭通常具有平坦表面。從而,基底材料與載體膜之間的粘合強度比載體膜與研磨機的研磨平板或研磨頭之間的粘合強度弱。因此,研磨墊易于與研磨機分離。另外,當更換研磨墊時,易于將PSA的殘余物遺留在研磨平板或研磨頭上,且需要移除PSA的殘余物并加長了更換研磨墊所需的時間。另外,約0.1mm的載體膜厚度太薄,且容易出現(xiàn)折疊線。另一方面,常規(guī)粘合劑的耐酸堿性不是令人滿意的。因而,CMP的作用和效率均降低。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個目的在于提供一種研磨墊,所述研磨墊包含:
基底材料,包含纖維;
具有低滲透性的薄膜,所述薄膜具有上表面和下表面;
二液型糊劑,其形成在所述具有低滲透性的薄膜的上表面上,用于將基底材料粘合到所述具有低滲透性的薄膜;以及
聚氨酯糊劑,其形成在所述具有低滲透性的薄膜的下表面上。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種研磨襯底的方法,所述方法包含使用如上文描述的研磨墊來研磨襯底表面。
本發(fā)明的又一目的在于提供一種用于制造如上文提及的研磨墊的方法,所述方法包含以下步驟:
(a)在所述具有低滲透性的薄膜的下表面上施加二液型糊劑;
(b)將基底材料粘合到所述二液型糊劑;以及
(c)將聚氨酯糊劑施加到所述具有低滲透性的薄膜的下表面。
如上文提及的研磨墊可防止研磨墊與研磨平板或研磨頭分離,并易于更換所述研磨墊而不會在研磨平板或研磨頭上遺留殘余物。
附圖說明
無
具體實施方式
本發(fā)明在于提供一種研磨墊,所述研磨墊包含:
基底材料,包含纖維;
具有低滲透性的薄膜,所述薄膜具有上表面和下表面;
二液型糊劑,其形成在所述具有低滲透性的薄膜的所述上表面上,以用于將所述基底材料粘合到所述具有低滲透性的薄膜;和
聚氨酯糊劑,其形成在所述具有低滲透性的薄膜的所述下表面上。
根據(jù)本發(fā)明,任何包含纖維的基底材料可應(yīng)用于本發(fā)明。優(yōu)選地,基底材料包含不織布,且更優(yōu)選地,基底材料包含滾壓不織布。可利用連續(xù)滾壓(roll-to-roll)方式使用所述滾壓不織布,與包含模制或鑄造的生產(chǎn)單個研磨墊的常規(guī)方法相比,所述連續(xù)滾壓方式改進了批次均勻性。
如本文使用,“不織布”指的是通過摩擦力、和/或內(nèi)聚力和/或粘合力接合的有方向地或隨機地定向纖維的制造片、網(wǎng)或氈,不包括紙和經(jīng)編織、針織、簇生、縫編而并入有接結(jié)線或細絲或由濕式碾磨進行粘結(jié)(無論是否經(jīng)額外針縫)的產(chǎn)品。所述纖維可具有天然或人造來源。其可為定長或連續(xù)細絲,或可原位形成。取決于形成網(wǎng)的方法,不織布通常包含合成不織布、針刺不織布、熔噴不織布、紡粘不織布、干式成網(wǎng)不織布、濕式成網(wǎng)不織布、縫編不織布或水刺不織布。與織布相比,不織布具有較好的材料特性。
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