[發(fā)明專利]基板檢查裝置無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710149251.6 | 申請(qǐng)日: | 2007-09-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101144920A | 公開(公告)日: | 2008-03-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 藤森洋志 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 奧林巴斯株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G02F1/13 | 分類號(hào): | G02F1/13;B23Q1/25;H01L21/677;H01L21/67;B65G49/06 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 黨曉林 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢查 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及基板檢查裝置。例如涉及水平搬運(yùn)液晶玻璃基板等那樣的薄板狀基板并檢查表面缺陷的基板檢查裝置。
本申請(qǐng)要求2006年9月11日申請(qǐng)的日本專利申請(qǐng)第2006-245739號(hào)的優(yōu)先權(quán),并在此引用其內(nèi)容。
背景技術(shù)
近些年伴隨液晶顯示器的大型化,液晶玻璃基板也變得大型。因而,檢查這種薄板狀基板的表面缺陷的基板檢查裝置大多將處于制造工序中的基板移載到氣體浮起臺(tái)等搬運(yùn)臺(tái)上,對(duì)基板的端部進(jìn)行例如吸附保持等,將其搬運(yùn)到檢查部,通過在檢查部水平移動(dòng)基板,來進(jìn)行基板表面的檢查。由此減少了用于基板移動(dòng)的時(shí)間、能量損失和搬運(yùn)對(duì)基板造成的破壞。
例如在日本特開2004-279335號(hào)公報(bào)中,記載了一種基板搬運(yùn)裝置,該基板搬運(yùn)裝置具有向上吹出空氣使基板浮起的浮起塊,和吸附保持在浮起塊上浮起的基板的兩端并向一個(gè)方向搬運(yùn)基板的基板搬運(yùn)部(參照日本特開2004-279335號(hào)公報(bào)圖1)。
另外,在日本特開2000-9661號(hào)公報(bào)中,記載了一種平板檢查裝置,該平板檢查裝置在輥?zhàn)影徇\(yùn)部的單側(cè)沿著搬運(yùn)方向設(shè)置有Y載物臺(tái),通過把持機(jī)構(gòu)在厚度方向上把持基板的單側(cè)進(jìn)行搬運(yùn)(參照日本特開2000-9661號(hào)公報(bào)圖1~3)。
但上述那樣的現(xiàn)有的基板檢查裝置存在如下問題。
在日本特開2004-279335號(hào)公報(bào)所述的技術(shù)中,通過沿基板搬運(yùn)路徑的兩側(cè)平行配置基板搬運(yùn)部來吸附保持基板的兩端進(jìn)行搬運(yùn)。因此,由于基板的兩側(cè)被一對(duì)基板搬運(yùn)部約束,因此,因基板搬運(yùn)部的平行度的失調(diào)等,薄板上的玻璃基板被從兩側(cè)按壓而容易變形,由于基板歪斜,會(huì)影響檢查精度。
并且在日本特開2004-279335號(hào)公報(bào)所述的基板檢查裝置中,雖然相對(duì)于浮起塊設(shè)置了共同的基板搬運(yùn)部。但是,在平板的制造線上,根據(jù)搬運(yùn)路徑的布局和檢查部的數(shù)量等,排列多個(gè)浮起塊來形成長(zhǎng)大的搬運(yùn)路徑。在該搬運(yùn)路徑中配置有多個(gè)制造裝置或檢查裝置。在這樣的情況下,要在多個(gè)浮起塊和各裝置設(shè)置共同的兩端保持的基板搬運(yùn)部,需要使彼此的配置精度為高精度,因此會(huì)增加基板檢查裝置的設(shè)置工作和組裝成本。特別是為了切斷來自外部的振動(dòng),基板檢查裝置放置在除振臺(tái)上。在為這樣放置在除振臺(tái)上的裝置的情況下,伴隨著基板的移動(dòng),放置在除振臺(tái)上的浮起塊的上表面會(huì)傾斜,或是由于來自外部的振動(dòng)而進(jìn)行復(fù)雜的運(yùn)動(dòng),因而無法設(shè)置共同的基板搬運(yùn)部。
為了避免后一個(gè)問題,可以考慮按照浮起塊來分割設(shè)置基板搬運(yùn)部,但這需要用于從上游側(cè)的基板搬運(yùn)部換載到下游側(cè)的基板搬運(yùn)部的搬運(yùn)機(jī)械手等,這使裝置結(jié)構(gòu)變得復(fù)雜。
另外在日本特開2000-9661號(hào)公報(bào)所述的技術(shù)中,在將基板交接給下游側(cè)的搬運(yùn)部的情況下,需要放開基板一次。此時(shí),由于基板在水平方向上不被約束,因而會(huì)有損定位在基準(zhǔn)位置上的基板的定位狀態(tài)。所以存在在交接之后必須再次進(jìn)行定位調(diào)整的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問題而完成的,其目的在于提供一種即使搬運(yùn)路徑長(zhǎng),也不會(huì)使基板發(fā)生變形,而且能以良好的精度搬運(yùn)基板的基板檢查裝置。
為了解決上述課題,本發(fā)明基板檢查裝置具有:用于搬運(yùn)作為被檢體的薄板狀的基板的搬運(yùn)臺(tái);以及多個(gè)單側(cè)搬運(yùn)部,它們配置在搬運(yùn)臺(tái)的、與搬運(yùn)方向正交的方向中的任意側(cè),它們保持基板的端部,并對(duì)基板施加搬運(yùn)力,該基板檢查裝置通過在多個(gè)單側(cè)搬運(yùn)部之間依次交接基板,來進(jìn)行基板的搬運(yùn)。
根據(jù)本發(fā)明的基板檢查裝置,由于在多個(gè)單側(cè)搬運(yùn)部之間交接基板進(jìn)行搬運(yùn),所以即使搬運(yùn)路徑長(zhǎng),也不會(huì)使基板發(fā)生變形,而且能以良好的精度搬運(yùn)基板。
附圖說明
圖1是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的基板檢查裝置的概要結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖2A是圖1中的A部的局部放大圖。
圖2B是向圖2A中的箭頭B方向觀察的正視圖。
圖3是說明本發(fā)明的第一實(shí)施方式的基板檢查裝置的動(dòng)作的俯視圖。
圖4是說明本發(fā)明的第一實(shí)施方式的基板檢查裝置的動(dòng)作的俯視圖。
圖5是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的變形例的基板檢查裝置的概要結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖6是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的基板檢查裝置的概要結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖7是表示本發(fā)明的第三實(shí)施方式的基板檢查裝置的概要結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖8是表示本發(fā)明的第四實(shí)施方式的基板檢查裝置的概要結(jié)構(gòu)的俯視圖。
具體實(shí)施方式
下面參照附圖說明本發(fā)明的實(shí)施方式。在所有附圖中,即使在實(shí)施方式不同的情況下,對(duì)于相同或者相當(dāng)?shù)牟考矘?biāo)以相同的標(biāo)號(hào),并省略共同的說明。
[第一實(shí)施方式]
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





