[發明專利]洗滌裝置和洗滌方法

有效

• 申請號: 200710147767.7
• 申請日: 2007-08-28
• 公開（公告）號: CN101134203A
• 公開（公告）日: 2008-03-05
• 發明（設計）人: 守屋剛
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00;B08B7/04
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司
• 代理人: 龍淳

1.一種洗滌裝置，其特征在于，

在除去附著在結構物上的附著物從而洗滌該結構物的洗滌裝置中，具備：

噴出部，將混合有氣體狀態的物質以及液體和固體中的任何一種狀態的與所述物質相同的物質的混合體，向著所述附著物噴出；和

吸引部，吸引該噴出的混合體和被噴射了該混合體的所述附著物。

2.如權利要求1所述的洗滌裝置，其特征在于，

所述噴出部的噴出口在所述吸引部的吸引口內開口。

3.如權利要求2所述的洗滌裝置，其特征在于，

還具有泵，同時連接所述噴出部和所述吸引部；

所述泵具有與所述噴出部對應的第一葉輪和與所述吸引部對應的第二葉輪；

所述第一葉輪與所述第二葉輪同軸配置，所述第一葉輪的各葉片的傾斜角與所述第二葉輪的各葉片的傾斜角相反。

4.如權利要求1所述的洗滌裝置，其特征在于，

所述吸引部的吸引口配置在所述噴出部的噴出口附近。

5.如權利要求1～4中任何一項所述的洗滌裝置，其特征在于，

所述噴出部由筒狀構件構成，

該噴出部在噴出口附近有縮頸形狀。

6.如權利要求1～5中任何一項所述的洗滌裝置，其特征在于，

所述噴出部還具有加熱氣體噴出部，將加熱的氣體噴出至所述附著物上；

所述吸引部吸引該噴出的加熱的氣體和被噴射了該加熱的氣體的所述附著物。

7.如權利要求1～6中任何一項所述的洗滌裝置，其特征在于，

所述噴出部還具有賦予振動的氣體噴出部，將振動賦予氣體而噴出至所述附著物上；

所述吸引部吸引該噴出的賦予振動的氣體和被噴射了該賦予振動的氣體的所述附著物。

8.如權利要求1～7中任何一項所述的洗滌裝置，其特征在于，

所述噴出部還具有單極離子噴出部，將單極離子噴出至所述附著物上；

所述吸引部還具有反電場發生部，在吸引口中產生與所述單極離子的極相反的極的電場；并且所述吸引部吸引所述噴出的單極離子和被噴射了該單極離子的所述附著物。

9.如權利要求1～8中任何一項所述的洗滌裝置，其特征在于，

所述噴出部還具有等離子體噴出部，將等離子體噴出至所述附著物上；

所述吸引部吸引該噴出的等離子體和被噴射了該等離子體的所述附著物。

10.如權利要求1～9中任何一項所述的洗滌裝置，其特征在于，

所述噴出部還具有刷子部，擦去所述附著物，

所述吸引部吸引由該刷子部擦去的所述附著物。

11.如權利要求1～10中任何一項所述的洗滌裝置，其特征在于，

所述噴出部還具有對所述結構物進行除菌的除菌裝置。

12.一種洗滌方法，其特征在于，

是除去附著在結構物上的附著物而洗滌該結構物的洗滌方法，所述洗滌方法具有：

噴出步驟，將混合有氣體狀態的物質以及液體和固體中的任何一種狀態的與所述物質相同的物質的混合體，向著所述附著物噴出；和

吸引步驟，吸引該噴出的混合體和被噴射了該混合體的所述附著物。

13.如權利要求12所述的洗滌方法，其特征在于，

還具有加熱氣體噴出步驟，將加熱的氣體噴出至所述附著物上；

所述吸引步驟吸引該噴出的加熱的氣體和被噴射了該加熱的氣體的所述附著物。

14.如權利要求12或13所述的洗滌方法，其特征在于，

還具有賦予振動的氣體噴出步驟，將振動賦予氣體而噴出至所述附著物上；

所述吸引步驟吸引該噴出的賦予振動的氣體和被噴射了該賦予振動的氣體的所述附著物。

15.如權利要求12～14中任何一項所述的洗滌方法，其特征在于，

還具有：單極離子噴出步驟，將單極離子噴出至所述附著物上；以及反電場發生步驟，產生與所述單極離子的極相反的極的電場；

所述吸引步驟吸引所述噴出的單極離子和被噴射了該單極離子的所述附著物。