[發明專利]為使光罩保持潔凈的系統無效
| 申請號: | 200710143553.2 | 申請日: | 2007-08-09 |
| 公開(公告)號: | CN101364040A | 公開(公告)日: | 2009-02-11 |
| 發明(設計)人: | 廖莉雯 | 申請(專利權)人: | 廖莉雯 |
| 主分類號: | G03F1/00 | 分類號: | G03F1/00;B08B5/00 |
| 代理公司: | 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 | 代理人: | 壽寧;張華輝 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 使光罩 保持 潔凈 系統 | ||
1.一種為使光罩保持潔凈的系統,其特征在于其包含:
至少一移轉容器,其具有一可選擇性啟閉的容置空間,該容置空間可供設置一光罩,且移轉容器上設有至少一連通容置空間與外部的進氣單元,移轉容器上另設有至少一連通容置空間與外部的出氣單元,其中進氣單元與出氣單元具有可防止移轉容器閉合時容置空間內氣體溢出的選擇性氣密功能;
至少一裝置,其具有至少一可承載前述移轉容器的容置結構,容置結構具有至少一對應移轉容器進氣單元的充氣單元,且容置結構并具有至少一對應移轉容器出氣單元的排氣單元;
使得移轉容器與光罩相鄰容置空間環境內的氣體形成一種循環流動,讓干凈氣體可不斷的注入該與光罩相鄰的容置空間、并且不斷的排出,令該與光罩相鄰的容置空間形成正壓,可防止外部有害物質進入前述的容置空間內,同時帶走前述容置空間內的有害物質,進一步得控制該容置空間的環境條件。
2.根據權利要求1所述的為使光罩保持潔凈的系統,其特征在于所述的移轉容器是選自供容置、移動、儲存光罩的塑膠盒或金屬盒。
3.根據權利要求1所述的為使光罩保持潔凈的系統,其特征在于所述的裝置是選自光罩儲存柜、光罩充氣柜、光罩運輸設備、以及制程設備的光罩進、出單元其中之一。
4.根據權利要求1所述的為使光罩保持潔凈的系統,其特征在于所述的裝置的充氣單元具有選擇性啟閉的功能。
5.根據權利要求1或4所述的為使光罩保持潔凈的系統,其特征在于所述的裝置的充氣單元是選自單向閥件。
6.根據權利要求1所述的為使光罩保持潔凈的系統,其特征在于所述的移轉容器的進氣單元是選自單向閥件。
7.根據權利要求1所述的為使光罩保持潔凈的系統,其特征在于所述的移轉容器的出氣單元是選自單向閥件。
8.根據權利要求1所述的為使光罩保持潔凈的系統,其特征在于所述的移轉容器上設有可儲存內部光罩資訊的儲存元件,而裝置具有可對應讀取儲存元件資訊的讀取元件。
9.根據權利要求8所述的為使光罩保持潔凈的系統,其特征在于所述的移轉容器的儲存元件與該裝置的讀取元件是選自無線射頻識別系統。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于廖莉雯,未經廖莉雯許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200710143553.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





