[發明專利]使用等離子體處理基材的設備

有效

• 申請號: 200710143413.5
• 申請日: 2007-07-31
• 公開（公告）號: CN101304629A
• 公開（公告）日: 2008-11-12
• 發明（設計）人: 申泰浩
• 申請（專利權）人: 細美事有限公司
• 主分類號: H05H1/46
• 分類號: H05H1/46
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 梁興龍;武玉琴

1.一種等離子體處理設備，其包括：

殼體，其中設置有用于容納基材的空間；

氣體供應件，用于將氣體供應進所述殼體中；

等離子體源，用于從供應進所述殼體中的氣體產生等離子體；以及

磁場形成件，用于在所述殼體內部產生等離子體的區域中提供磁場，

其中所述磁場形成件包括：

第一磁體單元，所述第一磁體單元包括配置成包圍所述殼體并彼此 隔開的多個第一磁體；以及

與所述第一磁體單元分層隔開的第二磁體單元，所述第二磁體單元 包括配置成包圍所述殼體并彼此隔開的多個第二磁體，

其中所述第一磁體單元和所述第二磁體單元相對于所述第一磁體單 元與所述第二磁體單元之間的水平面以從它們彼此垂直對齊的位置旋轉 預定角度的狀態設置。

2.如權利要求1所述的等離子體處理設備，其中每個所述第一磁體 和所述第二磁體是電磁體。

3.如權利要求2所述的等離子體處理設備，其中所述第一磁體單元 配置在所述第二磁體單元上方，以及

其中每個所述第二磁體配置在相鄰第一磁體之間的部分的下方。

4.如權利要求3所述的等離子體處理設備，其中各個所述第一磁體 和各個所述第二磁體具有相同形狀，所述第一磁體的數量等于所述第二 磁體的數量，以及

其中每個所述第二磁體配置在相鄰第一磁體之間的中間位置的垂直 下方。

5.如權利要求4所述的等離子體處理設備，其中每個所述第一磁體 和所述第二磁體配置成呈中空矩形狀。

6.如權利要求5所述的等離子體處理設備，其中每個所述第一磁體 和所述第二磁體具有面對所述殼體的平面。

7.如權利要求4所述的等離子體處理設備，其中所述第一磁體的數 量是偶數，并且所述第二磁體的數量是偶數。

8.如權利要求7所述的等離子體處理設備，其中所述第一磁體的數 量至少為四個，并且所述第二磁體的數量至少為四個。

9.如權利要求2所述的等離子體處理設備，其中所述第一磁體單元 配置成使得當從上側觀察時，所述第一磁體單元呈正多邊形形狀，并且 所述第二磁體單元配置成使得當從上側觀察時，所述第二磁體單元呈正 多邊形形狀，以及

其中所述第二磁體單元配置成相對于所述第一磁體單元以除了所述 正多邊形內角倍數之外的角度繞所述第二磁體單元的軸線旋轉。

10.如權利要求2所述的等離子體處理設備，其中所述磁場形成件 還包括第三磁體單元，所述第三磁體單元包括彼此隔開的多個第三磁體， 所述第三磁體單元配置在所述殼體周圍并與所述第一磁體單元和所述第 二磁體單元分層隔開。

11.如權利要求2所述的等離子體處理設備，還包括：

旋轉件，用于使所述磁場形成件繞其軸線旋轉。

12.如權利要求2所述的等離子體處理設備，還包括：

第一旋轉單元，用于旋轉所述第一磁體單元；以及

第二旋轉單元，用于獨立于所述第一磁體單元旋轉所述第二磁體單 元。

13.一種等離子體處理設備，其包括：

在其中進行等離子體處理的殼體；

置于所述殼體中的等離子體源，用于從供應進所述殼體中的氣體產 生等離子體；以及

配置成包圍所述殼體的圓周并分層隔開的至少兩個磁體單元，

其中每個所述磁體單元包括配置成呈包圍所述殼體側部的形狀并彼 此隔開的多個電磁體，以及

其中在相鄰層中設置的所述電磁體相對于相鄰磁體單元之間的面以 從所述電磁體彼此垂直對齊的位置旋轉預定角度的狀態布置。

14.如權利要求13所述的等離子體處理設備，其中在下面的磁體單 元中設置的電磁體配置在上面的磁體單元的相鄰電磁體之間。

15.如權利要求13所述的等離子體處理設備，其中當從上側觀察時， 每個所述磁體單元配置成呈多邊形形狀。