[發(fā)明專(zhuān)利]光學(xué)膜片及其制作方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710143072.1
• 申請(qǐng)日: 2007-08-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101373221A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-02-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陸勤偉;黃巧寧
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 遠(yuǎn)東紡織股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G02B1/00
• 分類(lèi)號(hào): G02B1/00;B32B7/02
• 代理公司: 中國(guó)商標(biāo)專(zhuān)利事務(wù)所有限公司
• 代理人: 萬(wàn)學(xué)堂

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種光學(xué)膜片及其制造方法，特別是涉及一種具有不平整界面的光學(xué)膜片及其制造方法。?

背景技術(shù)

目前顯示器屏幕上常設(shè)一光學(xué)膜片以加強(qiáng)顯示器的影像品質(zhì)，光學(xué)膜片通常包括一透明基底及一種以上的形成于該透明基底上的功能性涂層，例如硬化膜、硬化抗靜電膜、抗眩膜、抗反射膜等。?

然而，由于光線通過(guò)具有不同折射率的介質(zhì)時(shí)，部分光線會(huì)在界面產(chǎn)生反射光，當(dāng)功能性涂層的厚度大于1微米(μm)時(shí)，容易造成外部入射光線在不同界面發(fā)生的反射光因光程差而產(chǎn)生干涉現(xiàn)象。以圖1所示為例，當(dāng)一入射光2由外部射入功能性涂層12時(shí)，在空氣(圖未標(biāo)號(hào))與功能性涂層12的界面121會(huì)產(chǎn)生第一反射光21，而在功能性涂層12與透明基底11的界面111產(chǎn)生第二反射光22，第一、第二反射光21、22遵循反射定律形成在實(shí)質(zhì)相同的方向上，又因功能性涂層12的厚度約為可見(jiàn)光波長(zhǎng)(400nm～700nm)的數(shù)倍，使得第一、第二反射光21、22容易因光程差發(fā)生干涉，導(dǎo)致干涉條紋的產(chǎn)生，反而降低顯示器的影像品質(zhì)。?

現(xiàn)有針對(duì)光學(xué)膜片改善干涉現(xiàn)象的方式，可舉例如，利用降低功能性涂層與透明基底的折射率差以減少干涉現(xiàn)象的方法，但是降低折射率差的同時(shí)卻也造成后續(xù)再施加低折射率涂層時(shí)抗反射功能的損失?；蛘?，例如中國(guó)臺(tái)灣專(zhuān)利公開(kāi)號(hào)第200626368號(hào)揭露一種光學(xué)層合體，包括一光透過(guò)性基材及依序形成于該基材上的防靜電層及硬涂膜層，特征在于其中的硬涂膜層是使用含有樹(shù)脂及浸透性溶劑的組成物，該浸透性溶劑浸透到該防靜電層及該光透過(guò)性基材中。利用該浸透性溶劑使包含于該防靜電層中的防靜電劑分散于該防靜電層或該光透過(guò)性基材中，可實(shí)質(zhì)上消除該光透過(guò)性基材與該防靜電層的界面，以減少干涉現(xiàn)象。由于前述光學(xué)層合體必須依序涂布防靜電層及含有浸透性溶劑的硬涂膜層，并使浸透性溶劑浸透到該防靜電層及該光透過(guò)性基材中，所以在制程上需分別調(diào)制防靜電層用涂料及硬涂膜層用涂料，再依序涂布于基材上，不僅制程較為繁復(fù)，也不容易監(jiān)控浸透性溶劑在該防?靜電層及該光透過(guò)性基材中滲透情形，而且在膜層材料的使用上也受到較多限制。據(jù)上所述，如何以較為簡(jiǎn)便且有效的方式改善功能性涂層所產(chǎn)生的干涉現(xiàn)象，仍為一待解決的課題。?

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明人等經(jīng)由多方研究與實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，若將透明基底與功能性涂層的界面粗糙化，可利用該粗糙界面作為折射率緩沖層，當(dāng)入射光入射到該粗糙界面時(shí)會(huì)產(chǎn)生散射及破壞性干涉，而不易在特定方向產(chǎn)生反射光，因此無(wú)法與在功能性涂層與空氣的界面所形成的反射光產(chǎn)生干涉，所以能有效消除干涉條紋。再者，發(fā)明人等利用可溶解透明基底的溶劑侵蝕透明基底表面，使透明基底表面具有納米級(jí)的表面平均粗糙度，不僅能有效消除干涉條紋，且能避免表面粗糙度過(guò)大，而導(dǎo)致光學(xué)膜片的霧度值過(guò)高。又，此方式僅需使透明基底的一表面粗糙化即可，可適用于多種不同材質(zhì)的功能性涂層，所以具有制程簡(jiǎn)便及應(yīng)用范圍廣的優(yōu)點(diǎn)。?

因此，本發(fā)明的課題即在于提供一種可以避免反射光發(fā)生干涉以防止干涉條紋產(chǎn)生的光學(xué)膜片。?

此外，本發(fā)明也提供一種可以利用簡(jiǎn)便的制程制作光學(xué)膜片的方法。?

本發(fā)明的光學(xué)膜片包括一透明基底及一形成于該透明基底上的功能性涂層，特征在于：該透明基底的一與該功能性涂層接觸的面為一粗糙表面。?

該粗糙表面的表面平均粗糙度(Ra)以介于40～120nm為較佳。若表面平均粗糙度小于40nm，消除干涉紋的效果較差；若表面粗糙度大于120nm，則伴隨表面粗糙度變大而上升的光學(xué)膜片的霧度值(Haze)會(huì)超過(guò)1.5％，使得應(yīng)用范圍較為受限。?

適用于制作本發(fā)明的透明基底的材質(zhì)以可撓性塑料為宜，具體例如三醋酸纖維素(TAC)、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)，及聚碳酸酯(PC)等。?

另外，本發(fā)明的功能性涂層可視使用需求而為單層膜或多層膜，其中多層膜因可符合多功能需求而為較常見(jiàn)的形式，例如該功能性涂層可包括一形成于該透明基底上的硬化抗靜電膜及一形成于該硬化抗靜電膜上的抗反射膜。硬化抗靜電膜可兼具抗靜電(anti-statistic)以及抗刮傷(scratch?resistance)性質(zhì)，其厚度至少需為μm等級(jí)以上。抗反射膜具有較硬化抗靜電膜為小的折射率，厚度約為100nm。?

本發(fā)明的光學(xué)膜片的制作方法是先提供一具有一粗糙表面的透明基底，再于該粗糙表面上形成一功能性涂層，以形成一可借該粗糙表面產(chǎn)生光散射及破壞性干涉作用而減少干涉現(xiàn)象的光學(xué)膜片。?