[發(fā)明專利]光學(xué)膜片及其制作方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710143072.1 | 申請日： | 2007-08-22 |
| 公開（公告）號： | CN101373221A | 公開（公告）日： | 2009-02-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陸勤偉;黃巧寧 | 申請（專利權(quán)）人： | 遠(yuǎn)東紡織股份有限公司 |
| 主分類號： | G02B1/00 | 分類號： | G02B1/00;B32B7/02 |
| 代理公司： | 中國商標(biāo)專利事務(wù)所有限公司 | 代理人： | 萬學(xué)堂 |
| 地址： | 臺灣省臺北市*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學(xué) 膜片 及其 制作方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種光學(xué)膜片的制作方法，其特征在于：是先提供一具有一粗糙表面的透明基底，再于該粗糙表面上形成一功能性涂層，該粗糙表面是借涂布一可溶解該透明基底的溶劑于該透明基底的一表面，使該溶劑侵蝕該表面以將該表面粗糙化；該透明基底是由選自于三醋酸纖維素、聚對苯二甲酸乙二醇酯，或聚碳酸酯的聚合物所制成；該溶劑是選自于丁酮、丙酮、環(huán)戊酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、三氯甲烷、二氯甲烷、1，4-環(huán)氧己烷或二丙酮醇。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜片的制作方法，其特征在于：借由控制涂布該溶劑所形成的濕膜厚度、使該溶劑干燥的條件及該溶劑的種類，以調(diào)控該粗糙表面的表面平均粗糙度，該表面平均粗糙度是介于40nm至120nm之間。
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