[發明專利]多階單元存儲器的編程方法有效
| 申請號: | 200710138320.3 | 申請日: | 2007-07-27 |
| 公開(公告)號: | CN101354919A | 公開(公告)日: | 2009-01-28 |
| 發明(設計)人: | 何信義;鄒年凱;黃怡仁;林永豐 | 申請(專利權)人: | 旺宏電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G11C16/10 | 分類號: | G11C16/10 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人: | 葛寶成;黃小臨 |
| 地址: | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 單元 存儲器 編程 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種多階單元(multi-level?cell;MLC)存儲器的編程方法,且特別是核計一種可在讀取操作中獲得較狹窄化(tightened)編程分布(program?distribution)的MLC存儲器編程方法。
背景技術
圖1A至圖1D示出了傳統MLC存儲器的編程過程中編程位達到預定編程狀態的閾值電壓(threshold?voltage;Vt)分布示意圖。如圖1A所示,存儲器起初具有抹除態(erase-state)的Vt分布,而且存儲器的每一位編程至一預定編程狀態(targeted?program?state)。預定編程狀態的Vt分布具有一編程驗證(program?Verify;PV)值(下限值)。為了使編程位具有較狹窄的Vt分布,傳統上是另外設定一預編程驗證(Pre-PV)值,其值小于上述的PV值,而且執行下列的兩階段式編程操作。
第一次粗略(rough)編程操作中,經過幾次編程射擊(shot)后,存儲器的位會被編程達到如圖1B所示的Vt分布A。圖1B中位于虛線區域的位是具有Vt值不低于預定編程狀態的Pre-PV值。此時,存儲器記錄通過Pre-PV值(亦即具有Vt值不低于Pre-PV值)的位。然后,在Vt分布A中具有Vt值低于Pre-PV值的位又進一步編程至通過Pre-PV值,以產生如圖1C所示的Vt分布B。
Vt分布B中所示的位是完全通過Pre-PV值,且存儲器記錄圖1C中虛線區域所示通過PV值的位。然后,在第二次細微(fine)編程操作中,Vt分布B中具有Vt值低于PV值的位更進一步被編程而通過PV值,以產生如圖1D所示的預定編程分布C,并完成整個編程流程。
然而,如圖1C所示,在第一次編程操作后,一些Vt值接近而稍低于PV值的編程較快速位(以虛線區域F表示)會在第二次編程操作中再次被編程達到較高的Vt值,因而造成預定編程狀態的Vt分布變得非常寬,進而增加位錯誤率。
發明內容
本發明是有關于一種MLC存儲器的編程方法。在每次編程操作中,當至少一編程位通過預定編程狀態的PV值時,位線(bit?line)偏壓BL即降低一固定值,而當沒有任何編程位通過預定編程狀態的PV值時,在下一次編程操作中將BL值增加一固定值。藉由判斷是否至少一個新位通過PV值,可狹窄化編程分布并增加編程速度。
根據本發明,提出一種MLC存儲器的編程方法。MLC存儲器包括多個位。每一位具有多個編程狀態,且每一編程狀態具有一編程驗證值PV。本方法包括:(a)使用一位線偏壓BL來編程該存儲器中具有閾值電壓值Vt小于一預定編程狀態的編程驗證值PV的位,以成為編程位,其中,位線偏壓BL值大于0;(b)當存儲器中所有位的閾值電壓值Vt皆不低于預定編程狀態的編程驗證值PV時,結束本方法,否則繼續下一步驟(c);以及(c)當所有編程位的閾值電壓值Vt皆低于編程驗證值PV時,設定BL=BL+K1并重復該步驟(a),而當至少一編程位的閾值電壓值Vt不低于編程驗證值PV時,設定BL=BL-K2并重復該步驟(a),其中K1及K2為固定的正值。
為讓本發明的上述內容能更明顯易懂,下文特舉一較佳實施例,并配合附圖,作詳細說明如下。
附圖說明
圖1A至圖1D示出了傳統MLC存儲器的編程過程中編程位達到預定編程狀態的Vt分布示意圖。
圖2示出了依照本發明一較佳實施例的一種MLC存儲器編程方法流程圖。
圖3示出了依照本發明較佳實施例字符線偏壓操作的示意圖。
圖4示出了依照本發明較佳實施例位線偏壓操作的示意圖。
具體實施方式
本發明提供一種MLC存儲器的編程方法。未通過預定編程狀態PV值的存儲器位是利用位線偏壓BL來加以編程。當至少一個編程位通過PV值時,偏壓值BL降低一固定值,而當沒有任何編程位通過PV值時,偏壓值BL則增加一固定值。然后,再使用新的偏壓值BL來編程未通過PV值的位。因此,可增加編程速度并狹窄化編程分布,以降低存儲器的位錯誤率。
請參照圖2,其示出了依照本發明一較佳實施例的一種MLC存儲器編程方法流程圖。MLC存儲器,例如是一種具有氧化層-氮化層-氧化層(oxide-nitride-oxide;ONO)結構,且為電荷捕獲(charge?trapped)的閃存。
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