[發明專利]用于制造平板顯示器的設備

有效

• 申請號: 200710138189.0
• 申請日: 2005-09-30
• 公開（公告）號: CN101101862A
• 公開（公告）日: 2008-01-09
• 發明（設計）人: 李榮鐘;崔浚泳;曺生賢;安賢煥;孫石民;安成一
• 申請（專利權）人: 愛德牌工程有限公司
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;H01L21/67;G02F1/1333;H01J9/00;G09F9/00;B01J3/00;B01J3/03
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司
• 代理人: 蔡洪貴

本申請是2005年9月30日提交的200510107980.6號、名稱為“用于制造平板顯示器的設備”中國發明專利申請的分案申請。

技術領域

本發明涉及用于制造平板顯示器的設備(FPD)，其能夠在其中建立真空氣氛之后對FPD基板執行所需的處理，并且更具體地涉及FPD制造設備，其中真空室被分成室體以及上蓋，從而所述上蓋能夠容易地打開和關閉。

背景技術

平板顯示器(FPD)制造設備被設計為饋送FPD基板到其中并且通過使用等離子體等對所述FPD基板執行所需的處理，如蝕刻處理。FPD的實例包括LCD、PDP、OLED等。在這樣的FPD制造設備中，通常的真空處理設備包括三個真空室，包括負載鎖定室(load?lock?chamber)、傳送室以及處理室。

所述負載鎖定室被用來從用于加載基板的外部站來接收將在所述FPD制造設備中處理的基板，或者用來使在用于卸載所述基板的FPD制造設備中被處理的基板完全放電。所述傳送室被提供有機器人，用于在各室之間饋送基板，以便其將待處理的所述基板從所述負載鎖定室運送到所述處理室，或者將被完全處理的所述基板從所述處理室運送到所述負載鎖定室。所述處理室被用于通過在真空氣氛下使用等離子體或者熱能來對基板執行膜沉積處理或者蝕刻處理。

由于該事實即多種氣體或者等離子體在所述處理室中使用，如果重復大量的處理，則提供在處理室中的裝備可能被損壞或者被污染，并且因此有必要周期性地更換或者修理所述裝備。因此，如圖1中所示，由參考號1指示的所述處理室通常包括室體10和上蓋20，如此所述處理室1的所述上蓋20能夠被打開和關閉，以便所述室內部的維護和修理。傳統地，為了打開和關閉所述上蓋20，升降機(crane)已經被安裝到其中提供處理室1的潔凈室的頂部，使得通過使用所述升降機所述上蓋20被打開和關閉。可替換地，所述處理室被裝備有開/閉裝置以打開和關閉所述上蓋。

參見圖2，用于所述上蓋20的傳統的開/閉裝置的實例被示出。如圖2中所示，所述上蓋開/閉裝置50被提供在所述處理室1的外側以打開和關閉所述上蓋20。所述開/閉裝置50包括：垂直驅動單元，以垂直地提升所述上蓋20；水平移動單元，以水平地移動所述上蓋20；以及旋轉單元，以旋轉所述上蓋20。另外，所述開/閉裝置50被提供有水平移動導引60以提供所述水平驅動單元的移動路徑。

下文中，將解釋由具有上面配置的所述開/閉裝置50所執行的上蓋20的開/閉過程。首先，通過使用包括在所述開/閉裝置50中的所述垂直驅動單元，所述上蓋20被垂直地提升預定的高度。接下來，所述上蓋20在被提升的狀態沿著所述水平移動導引被水平地移動。在完成了這樣的水平移動之后，通過使用所述旋轉單元所述上蓋20被旋轉180°。結果，所述處理室1的所述室體10和所述上蓋20兩者都被打開，以使所述處理室1中所提供的各個裝備能夠更換或修理。

但是，要由所述FDP制造設備處理的基板的尺寸最近已經被增加，并且因此，包括在所述FDP制造設備中的真空室的尺寸正迅速地增加。例如，在當前可用的真空室的情況下，其上蓋不僅具有3乘4米的大尺寸，而且具有大于3到4噸的重量。因此，為了垂直地提升所述真空室的所述大尺寸的重的上蓋，有必要提供具有極高容量的氣缸的垂直驅動單元。另外，當被垂直提升時所述龐大的上蓋表現出缺乏穩定性方面的增加，不利地影響所述真空室內部的維護和修理。

發明內容

因此，本發明是考慮到上述問題而完成的，并且本發明的目的是提供能夠容易地開/閉上蓋的FPD制造設備。

根據本發明的第一方面，以上和其他目的可以通過提供FPD制造設備來實現，所述FPD制造設備包括：真空室，包括室體和位于所述室體的上側以面對所述室體的上蓋，所述室體被與所述室體以預定的距離間隔開；密封裝置，可分離地地耦合到所述上蓋以密封所述室體和所述上蓋的邊沿；旋轉單元對，耦合到所述上蓋的相對側表面(lateralsurface)的對應位置，并且適于旋轉所述上蓋；水平驅動單元對，分別耦合到所述旋轉單元，并且適于支持耦合到所述旋轉單元的上蓋并且水平地移動所述上蓋；軌道單元，分別耦合到所述水平驅動單元以提供所述水平驅動單元的移動路徑；以及一個或者多個處理器單元，提供在所述真空室中以對加載于所述真空室中的對象執行所需的處理。