[發(fā)明專利]光電轉(zhuǎn)換器件和具有光電轉(zhuǎn)換器件的攝像系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710128400.0 | 申請日: | 2007-07-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101106149A | 公開(公告)日: | 2008-01-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 浦賢一郎;福元嘉彥;片岡有三 | 申請(專利權(quán))人: | 佳能株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01L27/146 | 分類號(hào): | H01L27/146;H04N5/225;H04N5/335 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 秦晨 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光電 轉(zhuǎn)換 器件 具有 攝像 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種光電轉(zhuǎn)換器件以及一種制造光電轉(zhuǎn)換器件和具有該光電轉(zhuǎn)換器件的攝像系統(tǒng)的方法。
背景技術(shù)
[0002]在圖像輸入設(shè)備例如數(shù)字照相機(jī)、攝影機(jī)和圖像閱讀器以及用于其中的焦點(diǎn)檢測設(shè)備中,使用包括光電轉(zhuǎn)換元件的多個(gè)像素排列于其中的光電轉(zhuǎn)換器件。這里光電轉(zhuǎn)換器件包括例如所謂CCD型、雙極晶體管型、電場效應(yīng)晶體管型以及MOS型的光電轉(zhuǎn)換器件。這里光電轉(zhuǎn)換器件易于增加像素。隨著像素面積減小,光電轉(zhuǎn)換元件的面積趨向于減小。因此,處理更小電荷的必要性已經(jīng)出現(xiàn)并且減小噪聲的必要性已經(jīng)出現(xiàn)。
[0003]日本專利申請公開2003-258229和2005-142503包括關(guān)于MOS型光電轉(zhuǎn)換器件中的噪聲的公開內(nèi)容。日本專利申請公開2003-258229包括關(guān)于因MOS型光電轉(zhuǎn)換器件的通道停止區(qū)中少數(shù)載流子的增加而產(chǎn)生的噪聲的公開內(nèi)容。
[0004]另外,日本專利申請公開2005-142503包括關(guān)于因通道停止區(qū)中少數(shù)載流子的增加而在相鄰FD區(qū)之間產(chǎn)生的電場引起的漏電流的公開內(nèi)容。這里,日本專利申請公開2005-142503使用通道停止區(qū)和浮動(dòng)擴(kuò)散區(qū)(在下文稱作FD區(qū))的排列設(shè)計(jì)噪聲的減小。
[0005]另外,日本專利申請公開2001-230409包括關(guān)于用于保持一般半導(dǎo)體器件的隔離區(qū)中耐壓的MOS晶體管結(jié)構(gòu)的公開內(nèi)容。
[0006]但是,因像素的進(jìn)一步增加而引起的像素面積的減小伴隨有元件排列的更低自由度。而且,隔離區(qū)中的細(xì)度偶爾也在除了通道停止區(qū)與FD區(qū)之間的區(qū)域之外的地點(diǎn)引起漏電流。另外,這里漏電流流到光電轉(zhuǎn)換元件和FD區(qū)中以引起信號(hào)噪聲比的退化。
[0007]因此,考慮到上述問題,本發(fā)明的目的在于獲得一種減小在隔離區(qū)中產(chǎn)生的漏電流且信號(hào)噪聲比提高的光電轉(zhuǎn)換器件和攝像系統(tǒng)。
發(fā)明內(nèi)容
[0008]本發(fā)明的光電轉(zhuǎn)換器件是包括下列的光電轉(zhuǎn)換器件:第一導(dǎo)電類型的第一半導(dǎo)體區(qū);與第一半導(dǎo)體區(qū)的一部分一起形成光電轉(zhuǎn)換元件的第二導(dǎo)電類型的第二半導(dǎo)體區(qū);將在光電轉(zhuǎn)換元件中產(chǎn)生的電荷轉(zhuǎn)移到第二導(dǎo)電類型的第三半導(dǎo)體區(qū)的柵電極;將第二半導(dǎo)體區(qū)與同第二半導(dǎo)體區(qū)相鄰的第二導(dǎo)電類型的第四半導(dǎo)體區(qū)電隔離的隔離區(qū);以及布置在隔離區(qū)上用于將電壓施加到柵電極的布線;其中,雜質(zhì)濃度低于第四半導(dǎo)體區(qū)的第二導(dǎo)電類型的第五半導(dǎo)體區(qū)位于第四半導(dǎo)體區(qū)和隔離區(qū)之間。
[0009]本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將從下面結(jié)合附隨附圖進(jìn)行的描述中顯然,其中類似的參考字符遍及所有附圖指定相同或相似的部分。
[0010]包含于說明書中并構(gòu)成說明書一部分的附隨附圖說明本發(fā)明的實(shí)施方案,并且與描述一起,用來說明本發(fā)明的原理。
[0011]本發(fā)明的更多特征將參考附加附圖從下面實(shí)例實(shí)施方案的描述中變得明白。
附圖說明
[0012]圖1是第一實(shí)施方案中的光電轉(zhuǎn)換器件的示意剖面。
[0013]圖2A是第二實(shí)施方案中的光電轉(zhuǎn)換器件的示意剖面。
[0014]圖2B是第二實(shí)施方案中的光電轉(zhuǎn)換器件的示意剖面。
[0015]圖2C是第二實(shí)施方案中的光電轉(zhuǎn)換器件的示意剖面。
[0016]圖2D是第二實(shí)施方案中的光電轉(zhuǎn)換器件的示意剖面。
[0017]圖3是光電轉(zhuǎn)換器件的像素的一部分的示意平面圖。
[0018]圖4A舉例說明光電轉(zhuǎn)換器件的像素電路。
[0019]圖4B舉例說明圖4A中說明的光電轉(zhuǎn)換器件的驅(qū)動(dòng)脈沖。
[0020]圖5說明攝像系統(tǒng)的實(shí)例。
具體實(shí)施方式
[0021]本發(fā)明的光電轉(zhuǎn)換器件以半導(dǎo)體區(qū)(晶體管的源極或漏極區(qū))與光電轉(zhuǎn)換元件相鄰且隔離區(qū)位于其間的結(jié)構(gòu)為特征。連接到傳輸晶體管的柵電極的布線布置在該隔離區(qū)上。這種結(jié)構(gòu)以這里半導(dǎo)體區(qū)的隔離區(qū)一側(cè)上具有低濃度的半導(dǎo)體區(qū)為特征。
[0022]本發(fā)明的構(gòu)造可以減輕在隔離區(qū)的較低部中第一導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū)與同光電轉(zhuǎn)換元件相鄰的第二導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū)之間存在的電場,因此可以減小漏電流。因此,可以提供噪聲減小且信號(hào)噪聲比提高的光電轉(zhuǎn)換器件。
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
- 圖像轉(zhuǎn)換設(shè)備、圖像轉(zhuǎn)換電路及圖像轉(zhuǎn)換方法
- 數(shù)模轉(zhuǎn)換電路及轉(zhuǎn)換方法
- 轉(zhuǎn)換設(shè)備和轉(zhuǎn)換方法
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- 熱電轉(zhuǎn)換材料、熱電轉(zhuǎn)換元件和熱電轉(zhuǎn)換模塊
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