[發明專利]半導體晶片的結晶方位指示標記檢測機構有效
| 申請號: | 200710109910.3 | 申請日: | 2007-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN101086975A | 公開(公告)日: | 2007-12-12 |
| 發明(設計)人: | 關家一馬 | 申請(專利權)人: | 株式會社迪斯科 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66;H01L23/544 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 溫大鵬 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 晶片 結晶 方位 指示 標記 檢測 機構 | ||
1.一種半導體晶片的結晶方位指示標記檢測機構,所述半導體晶片在器件區域的周圍具有圓形的外周剩余區域,所述器件區域將多個器件形成在或者預定形成在正面上,在上述外周剩余區域的外周邊緣部的面加工部的區域內,使用形成為與該半導體晶片的面方向正交的平坦面作為表示該半導體晶片的結晶方位的標記,其特征在于,
包括:具有與該半導體晶片的面方向平行的光軸的光學式傳感器、和保持該半導體晶片的能夠旋轉的保持臺,
所述平坦面在所述面加工部的區域內以平面狀延伸而形成,
利用所述光學式傳感器來測定來自隨所述保持臺旋轉的所述半導體晶片的所述面加工部的反射光的光量,
檢測所述反射光的光量的變化,在所述反射光的光量最大時檢測所述平坦面,從而得到所述平坦面的檢測時的所述保持臺的方位。
2.如權利要求1所述的半導體晶片的結晶方位指示標記檢測機構,其特征在于,在上述保持臺的旋轉軸上具備編碼器,并且包括:存儲機構,對上述光學式傳感器對反射光有反應的位置上的旋轉軸的編碼器值進行存儲;和旋轉機構,使該保持臺旋轉,并與根據該有反應的位置預先指定的位置相吻合地停止。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





