[發明專利]具有用于傳輸平板襯底的傳輸輥的真空涂覆設備

無效

• 申請號: 200710106786.5
• 申請日: 2007-06-22
• 公開（公告）號: CN101092686A
• 公開（公告）日: 2007-12-26
• 發明（設計）人: 尤爾根·亨利奇;安德里亞斯·紹爾;哈羅德·伍斯特;埃德加·哈勃科恩
• 申請（專利權）人: 應用材料合資有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;H01L21/677
• 代理公司: 北京東方億思知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 趙飛

1.一種真空涂覆設備(1)，包括

真空涂覆室(2)，

數個可旋轉傳輸輥(6-9、99-101)，其平行地布置在所述真空涂覆室(2)內，用于平板襯底(11)的傳輸，

其特征在于：

驅動裝置(10、30-33)，其布置在所述真空涂覆室(2)的外部，至少一個磁耦合裝置(45、46、70)，其位于所述驅動裝置和至少一個傳輸輥(6)之間。

2.一種真空涂覆設備(1)，包括：

真空涂覆室(2)，

數個可旋轉圓筒(6-9、99-101)，其平行地布置在所述真空涂覆室(2)內，用于平板襯底(11)的傳輸，

其特征在于：

驅動裝置(10、30-33)，其布置在所述真空涂覆室(2)內，

至少一個磁耦合裝置(45、46、70)，其位于所述驅動裝置和至少一個傳輸輥(6)之間。

3.根據權利要求1或2所述的真空涂覆設備(1)，其特征在于所述至少一個傳輸輥(6)經由帶(34-38)與其他傳輸輥(7-9)耦合。

4.根據權利要求1或2所述的真空涂覆設備(1)，其特征在于每個圓筒(6-9)經由其各自的磁耦合裝置(45、46、70)與其各自的驅動裝置耦合。

5.根據權利要求1所述的真空涂覆設備(1)，其特征在于杯形頂結構(47)嵌入在真空涂覆室(2)的一個壁(4)中，所述杯形頂結構(47)包括非磁性并不可磁化的材料，并將位于真空涂覆室(2)中的至少一個磁體(46)與位于真空涂覆室(2)外部的至少一個磁體(47)分離開。

6.根據權利要求1或2所述的真空涂覆設備(1)，其特征在于所述圓筒(6-9、99-101)至少部分地由橡膠型彈性材料(12-20、102-105)圍繞。

7.根據權利要求1或2所述的真空涂覆設備(1)，其特征在于濺射電極布置在所述圓筒(6-9、99-101)之間。

8.根據權利要求2所述的真空涂覆設備(1)，其特征在于所述圓筒(6-9、99-101)和所述至少一個磁耦合裝置(45、46、70)是能夠滑入和滑出所述真空涂覆室(2)的滑入元件(E-E)的一部分。

9.根據權利要求1所述的真空涂覆設備(1)，其特征在于所述圓筒(6-9、99-101)是能夠滑入和滑出所述真空涂覆室(2)的滑入元件(E-E)的一部分，用于所述圓筒(6-9、99-101)的所述驅動裝置(10)保留在所述真空涂覆室(2)的外部。

10.根據權利要求7、8或9所述的真空涂覆設備(1)，其特征在于所述濺射電極(49)是所述滑入元件(E-E)的一部分。

11.根據權利要求1或2所述的真空涂覆設備(1)，其特征在于所述圓筒(6-9、99-101)經由軸(40-43)與所述磁耦合裝置(30-33)連接，其中所述磁耦合裝置(30-33)與所述驅動裝置建立連接。

12.根據權利要求11所述的真空涂覆設備(1)，其特征在于所述磁耦合裝置設置在所述軸(40-43)與所述圓筒(6-9、99-101)之間。

13.根據權利要求8或9所述的真空涂覆設備(1)，其特征在于所述滑入元件(E-E)包括能夠通過叉形提升支架而被提升的框架(68、69)。

14.根據權利要求8或9所述的真空涂覆設備(1)，其特征在于包括用于濺射陰極(49)的驅動裝置的室(50)是所述滑入元件(E-E)的一部分。