[發明專利]熒光X射線分析設備

有效

• 申請號: 200710104555.0
• 申請日: 2007-05-25
• 公開（公告）號: CN101078696A
• 公開（公告）日: 2007-11-28
• 發明（設計）人: 深井隆行;的場吉毅;高橋正則
• 申請（專利權）人: 精工電子納米科技有限公司
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223;G21K1/02
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 原紹輝;黃力行

技術領域

本發明涉及熒光X射線分析設備，其通過在測量樣品上照射初級X射線，從測量樣品誘發熒光X射線，并測量該熒光X射線的能量和X射線的強度，進行測量樣品的元素分析和成分分析。?

背景技術

參考圖10描述常規通常的熒光X射線分析設備。跨過水平的測量樣品基座1003，測量樣品1005布置在測量樣品基座1003的上方，X射線源1001，初級濾光器1002，和檢測器1007布置在測量樣品基座1003的下面。參考數字1004指示從X射線源1001照射的初級X射線，參考數字1006指示當測量樣品1005由初級X射線1004激發時產生的熒光X射線。這樣，常規地，測量樣品的表面上的初級X射線的照射表面和測量樣品的表面上的與檢測器相對的表面在相同平面上。?

另外，通常通過讓檢測器和X射線源盡可能地接近測量樣品改進來自聚焦元素的熒光X射線的檢測效率。?

另外，提供了具有初級濾光器的設備，以便改進聚焦元素的熒光X射線的峰強度和主要基于散射X射線等的背景強度之間的比例(此后，稱為峰-背比例)；使用次級靶的設備；以及使用使X射線成為單色并聚焦X射線的光學裝置的設備，然而，所有這些設備具有使得檢測器與初級X射線照射的點相對的結構(例如，參考專利文獻1)。?

專利文獻1：JP-A-2004-150990(第3頁和圖1)?

在常規的熒光X射線分析中，通常當確定包含在由C，O和H等組成的輕元素主要組分中，諸如鎘之類的痕量重金屬的存在和它的密度時，使用初級濾光器改進鋒-背比例。本方法非常有用，然而，通過插入初級濾光器，削弱了初級X射線，結果，由測量樣品激發的痕量重金屬的熒光X射線進入檢測器的強度較低。?

因此，為了使得進入檢測器的X射線的強度更強，使用讓檢測器和X射線源接近測量樣品的結構。然而，因為檢測器和X射線源都布置為與測量樣品的表面上的相同平面相對，當讓它們接近測量樣品時，由于兩個結構物體的干擾，接近的距離有限度。因此，通常當測量輕元素中的痕量重金屬時，在幾百秒的測量中，檢測限度是幾個wtppm。?

為了改進痕量重金屬的檢測限度，峰-背比例是重要的因素，然而，可獲得的X射線的強度的數量，即，它的靈敏度也是重要的因素。此后，描述了檢測限度的通常的公式。當X射線的強度增加時，與此成比例，背景強度和靈敏度增加。換句話說，從下面的公式，檢測限度反比于獲得的X射線強度的根改進(降低)。?

[公式1]?

DL=3σS]]>

σ=nBGTLF,]]>S=nP-nBGCi]]>

此處，DL指示檢測限度，n_p指示峰強度，n_BG指示背景強度，T_LF指示壽命，C_i指示聚焦元素的密度。?

發明內容

考慮上述問題創造了本發明，本發明的目的為提供熒光X射線分析設備，該設備有效地激發聚焦元素的熒光X射線，以便防止通過檢測器獲得的X射線的強度降低，有效地改進峰-背比例，并改進檢測限度。?

為了獲得上面描述的目的，考慮增加來自聚焦元素的X射線的熒光強度，并減小變成噪聲的背景。?