[發明專利]熒光X射線分析設備

有效

• 申請號: 200710104555.0
• 申請日: 2007-05-25
• 公開（公告）號: CN101078696A
• 公開（公告）日: 2007-11-28
• 發明（設計）人: 深井隆行;的場吉毅;高橋正則
• 申請（專利權）人: 精工電子納米科技有限公司
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223;G21K1/02
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 原紹輝;黃力行

1.一種熒光X射線分析設備，其包括：

用于容納固體樣品或液體樣品的樣品密封構件，其由X射線傳輸 通過的材料制成；

用于產生初級X射線的X射線源，初級X射線以放射狀的方式從 樣品密封構件的側壁進入，以便用X射線照射樣品；及

檢測器，其與樣品密封構件的底面相對設置，并具有在樣品的方 向內從入射點延伸至檢測元件的入射立體角，用于檢測從給予初級X 射線的樣品產生的熒光X射線；

其中熒光X射線分析設備從檢測的熒光X射線的譜進行樣品的元 素的分析；

樣品密封構件具有向著檢測器逐漸變細的錐形形狀，且錐形形狀 從樣品密封構件的底面朝著檢測器設置的側面相對的方向隨著檢測 器的視場的延伸而延伸。

2.根據權利要求1所述的熒光X射線分析設備，

其中產生初級X射線的X射線源與樣品密封構件的側壁相對設 置。

3.根據權利要求1所述的熒光X射線分析設備，

其中初級X射線布置為能夠照射檢測器相對的樣品密封構件的 底面。

4.根據權利要求1所述的熒光X射線分析設備，

其中樣品密封構件為可以自由地接附和分開的樣品外殼。

5.根據權利要求1所述的熒光X射線分析設備，

其中通過插入初級濾光器用于選擇性地僅激發X射線源和樣品 密封構件的側壁之間的聚焦元素，當檢測器觀察聚焦元素時，改進聚 焦元素在譜上的峰-背比例。

6.根據權利要求1所述的熒光X射線分析設備，

其中通過在樣品密封構件的側壁上設置用于產生最適于激發聚 焦元素的熒光X射線的金屬壁，當從檢測器觀察時，改進聚焦元素在 譜上的峰-背比例。

7.根據權利要求1所述的熒光X射線分析設備，

其中通過在樣品和檢測器之間具有用于僅允許聚焦元素的熒光X 射線選擇性地傳輸通過的次級濾光器，當從檢測器觀察時，改進聚焦 元素在譜上的峰-背比例。

8.根據權利要求1所述的熒光X射線分析設備，

在樣品密封構件的初級X射線入射表面上，具有不少于一件允許 用于激發聚焦元素的X射線有選擇性地傳輸通過的初級濾光器；

其中通過旋轉樣品密封構件，初級濾光器可以改變。

9.根據權利要求1所述的熒光X射線分析設備，

在樣品密封構件的檢測器的底面上，包括至少一件允許聚焦元素 的熒光X射線有選擇性地傳輸通過的次級濾光器；

其中通過旋轉樣品密封構件，次級濾光器可以改變。

10.根據權利要求1所述的熒光X射線分析設備，

其中通過在樣品密封構件的側壁上設置至少一個用于產生最適 于激發聚焦元素的熒光X射線的金屬構件，通過旋轉樣品密封構件， 金屬構件可以改變。