[發明專利]基板固定盤清洗單元、清洗裝置及清洗方法

無效

• 申請號: 200710103859.5
• 申請日: 2007-05-17
• 公開（公告）號: CN101081396A
• 公開（公告）日: 2007-12-05
• 發明（設計）人: 權晟
• 申請（專利權）人: K.C.科技股份有限公司
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司
• 代理人: 韓明星;劉奕晴

技術領域

本發明涉及一種基板固定盤的清洗單元、清洗裝置及清洗方法，尤其涉及用于清除基板固定盤上表面的雜質的基板固定盤清洗單元、清洗裝置及清洗方法，該基板固定盤用于固定基板以進行在基板上涂敷光刻膠等多種基板處理作業。

背景技術

通常，在基板上涂敷光刻膠的方法包含：將光刻膠承載于圓柱形滾子的外部之后在基板上沿一定方向滾動所述滾子而涂敷光刻膠的滾涂方法；在圓板支撐體上放置基板并向所述基板的中央滴落光刻膠之后進行旋轉，由此根據離心力在基板上涂敷光刻膠的旋涂方法；通過狹縫形態的噴嘴將光刻膠噴到基板，同時沿一定方向掃過基板而進行涂敷的狹縫涂敷方法。

在上述涂敷方法中，由于滾動式涂敷方法難以精密控制光刻膠膜的均勻性及膜厚度，因此形成高精密圖案時使用旋涂方法。但是，旋涂方法適合在芯片等大小較小的基板上涂敷感光物質時使用，而不適用于液晶顯示面板用玻璃基板等大小和重量都大的平板顯示裝置用基板。這是因為基板越大越重就越難以高速旋轉基板，而且進行高速旋轉時基板越容易損壞而且能量消耗也越大。基于這些理由，在大型玻璃基板上涂敷光刻膠時主要使用狹縫涂敷方法。

圖1為一般的狹縫涂敷機的結構示意圖，圖2為從圖1所示的狹縫涂敷機的基板固定盤上清除雜質的狀態剖面圖。

如圖1所示，一般的狹縫涂敷機100包含：用于固定裝載基板GS的基板固定盤102；將光刻膠PR涂敷在基板GS上的狹縫噴嘴110；支撐所述狹縫噴嘴110兩側使狹縫噴嘴110沿縱向前進的一對噴嘴移送單元120；貼附在所述噴嘴移送單元一側的光刻膠供應部115；從所述光刻膠供應部115向所述狹縫噴嘴110移送光刻膠PR的第一光刻膠供應管116；向所述光刻膠供應部115供應光刻膠PR的第二光刻膠供應管117。

所述狹縫噴嘴110是長條狀噴嘴，與基板GS相對的狹縫噴嘴的下端中央形成微細的狹縫形狀的噴出口，通過所述噴出口將一定量的光刻膠PR噴到基板上。所述光刻膠供應部115是向所述狹縫噴嘴110供應光刻膠PR并向所供應的光刻膠PR施加預定壓力而噴出光刻膠PR的單元。通常，所述光刻膠供應部115包含泵，從而向狹縫噴嘴110施加一定壓力，并根據該壓力將儲藏在狹縫噴嘴中的光刻膠PR噴到基板上。

如上所述的狹縫涂敷機的所述狹縫噴嘴110，在從基板一端以一定速度沿縱向前進的同時向基板GS噴出光刻膠PR，從而在基板GS上均勻涂敷光刻膠PR。

此時，所述基板固定盤102利用真空對所述基板GS進行固定裝載。為此，所述基板固定盤102的表面形成由多個槽構成的微雕圖案103。所述微雕圖案103通過多個沿橫向及縱向形成的直線槽大致呈格子形狀(附圖中為了明確表示所述微雕圖案103的形狀而多少進行夸張顯示)。所述橫向及縱向直線槽交叉的交點分別形成垂直真空孔103h。所述垂直真空孔103h的下端連接于真空泵(未圖示)，從而在所述微雕圖案103的直線槽內形成真空而固定基板。

如此，由于用于固定裝載基板GS的基板固定盤102上將頻繁地裝載及卸載基板，而且所述微雕圖案的槽內形成真空，因此基板固定盤102的上表面及微雕圖案103的槽內容易殘留雜質。這些雜質需要定期進行清理。

為此，以往由工作人員利用基板固定盤清洗用抹布(wiper)30以手工方式直接清洗基板固定盤102上表面，因此非常繁瑣。尤其，隨著基板越來越大型化基板固定盤的大小也變得大型化，因此通過手工方法進行所述清洗作業變得沒有效率。

特別是，當所述微雕圖案103的槽內有雜質時，利用所述清洗用抹布30進行清除存在局限性。尤其，所述微雕圖案103的上部棱線部分，即基板固定盤102的上表面與微雕圖案103的槽相交的部分形成角度，因此如果該部分與所述清洗用抹布30發生摩擦，則可能因所述清洗用抹布30被磨損而產生更多雜質。

發明內容

本發明是為了解決如上所述的問題而提出的，其目的在于提供一種基板固定盤清洗單元、清洗裝置及清洗方法，從而在清除基板固定盤上的雜質時省略手動作業并進行精密的清洗作業，而且在大型基板固定盤上也可以進行有效的清洗作業。

為了實現上述目的，本發明實施方式所提供的基板固定盤清洗單元，包含：主體；形成在所述主體并向所述基板固定盤噴射清洗劑的噴射孔，以用于分離所述基板固定盤上的雜質；從所述噴射孔分開預定距離的吸入孔，以用于吸入由所述清洗劑分離的雜質。

并且，所述吸入孔最好圍繞所述噴射孔形成為多個。

并且，所述清洗劑可以包含非反應氣體或升華性固體粒子。此時，所述升華性固體粒子最好包含干冰。