[發(fā)明專利]基板固定盤清洗單元、清洗裝置及清洗方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710103859.5 | 申請日： | 2007-05-17 |
| 公開（公告）號： | CN101081396A | 公開（公告）日： | 2007-12-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 權(quán)晟 | 申請（專利權(quán)）人： | K.C.科技股份有限公司 |
| 主分類號： | B08B7/00 | 分類號： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 韓明星;劉奕晴 |
| 地址： | 韓國京畿*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 固定 清洗 單元 裝置 方法 | ||
1、一種基板固定盤清洗單元，其特征在于包含：
主體；
形成在所述主體并向所述基板固定盤噴射清洗劑的噴射孔，以用于分離所述基板固定盤上的雜質(zhì)；
從所述噴射孔分開預定距離的吸入孔，以用于吸入由所述清洗劑分離的雜質(zhì)。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗單元，其特征在于所述吸入孔圍繞所述噴射孔形成為多個。
3、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的清洗單元，其特征在于所述清洗劑包含非反應氣體或升華性固體粒子。
4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的清洗單元，其特征在于所述升華性固體粒子包含干冰。
5、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的清洗單元，其特征在于所述主體的形成噴射孔及吸入孔的面包含從所述噴射孔朝吸入孔方向向下傾斜的傾斜面。
6、一種清洗裝置，其特征在于包含：
根據(jù)權(quán)利要求1或2所提供的清洗單元；
設(shè)置所述清洗單元并相對于基板固定盤沿某一方向移動的支撐部件。
7、根據(jù)權(quán)利要求6所述的清洗裝置，其特征在于所述清洗單元布置為多個并以兩列以上形成鋸齒形狀。
8、根據(jù)權(quán)利要求6所述的清洗裝置，其特征在于所述清洗單元設(shè)在支撐部件上并可以沿垂直方向移動。
9、根據(jù)權(quán)利要求6所述的清洗裝置，其特征在于所述清洗單元設(shè)在所述支撐部件上，并可以沿著與所述某一方向相垂直的方向移動。
10、一種清洗方法，用于清洗基板固定盤，其特征在于包含步驟：
為清除所述基板固定盤上的雜質(zhì)而向所述基板固定盤噴射清洗劑；
吸入由所述清洗劑清除的雜質(zhì)。
11、根據(jù)權(quán)利要求10所述的清洗方法，其特征在于還包含通過形成在所述基板固定盤上的真空孔噴射氣體的步驟。
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