[發(fā)明專(zhuān)利]等離子體顯示面板及其制造方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710102977.4
• 申請(qǐng)日: 2007-04-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101154546A
• 公開(kāi)（公告）日: 2008-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吉永隆史;川崎龍彥
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 富士通日立等離子顯示器股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01J17/49
• 分類(lèi)號(hào): H01J17/49;H01J17/02;H01J9/00
• 代理公司: 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 龍淳

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及等離子體顯示面板及其制造方法。

背景技術(shù)

作為平面型的顯示裝置，正在使具有等離子體顯示面板(PDP：Plasma?Display?Panel)的等離子體顯示裝置實(shí)用化，與顯示數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)地使畫(huà)面上的像素發(fā)光。在面放電型的等離子體顯示面板中，在前面玻璃基板的內(nèi)面上形成多個(gè)面放電用電極，該面放電用電極被電介質(zhì)層和保護(hù)層覆蓋。在背面玻璃基板的內(nèi)面上形成隔離壁，并且形成在隔離壁之間涂敷有作為3原色的紅色(R)、綠色(G)和藍(lán)色(B)的熒光體的熒光體層。面放電型的等離子體顯示面板形成將該前面玻璃基板和背面玻璃基板密封起來(lái)，在其內(nèi)部封入稀有氣體的構(gòu)造。面放電型的等離子體顯示面板，通過(guò)當(dāng)在面放電用電極之間加上規(guī)定電壓時(shí)在由隔離壁形成的放電單元內(nèi)引起面放電，由因此發(fā)生的紫外線激發(fā)各熒光體使其發(fā)光，進(jìn)行彩色圖像顯示。

作為提高等離子體顯示面板中的發(fā)光效率的方法，存在擴(kuò)大放電空間的方法。為了維持圖像分辨率等的圖像品質(zhì)同時(shí)擴(kuò)大放電空間，必須增加隔離壁的高度，但是當(dāng)單純地增加隔離壁的高度時(shí)，存在發(fā)生形狀不均勻和隔離壁缺口、隔離壁倒塌等的強(qiáng)度問(wèn)題。

作為增加隔離壁高度的方法，可以考慮使隔離壁具有2層構(gòu)造。當(dāng)使隔離壁具有2層構(gòu)造時(shí)，在用噴砂法形成隔離壁的過(guò)程中，用切削速率大的材料構(gòu)成2層構(gòu)造的隔離壁的上層部分，用切削速率小的材料構(gòu)成下層部分，防止隔離壁的破損(請(qǐng)參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。另外，由光透過(guò)層構(gòu)成2層構(gòu)造的隔離壁的上層，由光反射層構(gòu)成下層，達(dá)到提高發(fā)光效率的目的(請(qǐng)參照專(zhuān)利文獻(xiàn)2)。

[專(zhuān)利文獻(xiàn)1]日本特開(kāi)2002-63849號(hào)專(zhuān)利公報(bào)

[專(zhuān)利文獻(xiàn)2]日本特開(kāi)2002-298743號(hào)專(zhuān)利公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

但是，在上述專(zhuān)利文獻(xiàn)1記載的方法中，因?yàn)橛们邢魉俾蚀蟮牟牧蠘?gòu)成上層部分，當(dāng)用噴砂法加工用切削速率小的材料構(gòu)成下層部分時(shí)，存在著上層部分也被切削而變薄那樣的問(wèn)題。在只用現(xiàn)在的噴砂法進(jìn)行的加工中，對(duì)能夠形成的隔離壁高度存在界限。

本發(fā)明的目的是增加隔離壁的高度，擴(kuò)大放電空間，提高等離子體顯示面板的發(fā)光效率。

本發(fā)明的等離子體顯示面板是將放電氣體封入到前面?zhèn)然搴捅趁鎮(zhèn)然宓南鄬?duì)間隙中，在單方的基板的內(nèi)面上配置有將氣體封入空間劃分成放電單元排列的隔離壁的等離子體顯示面板，其特征是上述隔離壁由上層隔離壁和下層隔離壁構(gòu)成，由對(duì)刻蝕的耐性相互不同的隔離壁材料構(gòu)成上層隔離壁和下層隔離壁。

本發(fā)明的等離子體顯示面板的制造方法是將放電氣體封入到前面?zhèn)然搴捅趁鎮(zhèn)然宓南鄬?duì)間隙中，在單方的基板的內(nèi)面上配置有將氣體封入空間劃分成放電單元排列的隔離壁的等離子體顯示面板的制造方法，其特征是當(dāng)形成上述隔離壁時(shí)，包含在形成于上述單方的基板的內(nèi)面上形成的電介質(zhì)層上，形成對(duì)于第1刻蝕具有耐性的第1隔離壁材料膜的工序；在上述第1隔離壁材料膜上形成對(duì)第2刻蝕具有耐性的第2隔離壁材料膜的工序；在上述第2隔離壁材料膜上形成抗蝕劑圖案的工序；將上述抗蝕劑圖案作為掩模，利用第1刻蝕對(duì)上述第2隔離壁材料膜進(jìn)行加工，并形成隔離壁的上層的工序；和利用用第2刻蝕對(duì)上述第1隔離壁材料膜進(jìn)行加工，并形成隔離壁的下層的工序。

如果根據(jù)本發(fā)明，則因?yàn)闃?gòu)成上層隔離壁和下層隔離壁的隔離壁材料對(duì)刻蝕的耐性不同，所以當(dāng)形成下層隔離壁時(shí)能夠?qū)ι蠈痈綦x壁不施加影響地形成品質(zhì)良好的高的隔離壁，擴(kuò)大放電空間。因此，能夠提高等離子體顯示面板的發(fā)光效率。

附圖說(shuō)明

圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施方式中的等離子體顯示面板的構(gòu)成例的分解立體圖。

圖2是以工序的順序表示本實(shí)施方式中的等離子體顯示面板的制造方法的概略剖面圖。

圖3是用于說(shuō)明本實(shí)施方式中的等離子體顯示面板的顯示光的圖。

圖4是表示本實(shí)施方式中的等離子體顯示裝置的構(gòu)成例的圖。

圖5是表示本實(shí)施方式中的等離子體顯示裝置的灰度等級(jí)驅(qū)動(dòng)順序的一個(gè)例子的圖。

標(biāo)號(hào)說(shuō)明

1等離子體顯示面板

2X驅(qū)動(dòng)電路

3掃描驅(qū)動(dòng)器

4Y驅(qū)動(dòng)電路

5地址驅(qū)動(dòng)電路

6控制電路

10前面玻璃基板

11維持電極(X電極)

12掃描電極(Y電極)

13、17電介質(zhì)層

14保護(hù)層

15背面玻璃基板

16R、16G、16B??地址電極

18隔離壁

18a下層隔離壁

18b上層隔離壁

19R、19G、19B??熒光體層

具體實(shí)施方式