[發(fā)明專利]等離子體顯示面板及其制造方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710102977.4 | 申請(qǐng)日： | 2007-04-27 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN101154546A | 公開（公告）日： | 2008-04-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 吉永隆史;川崎龍彥 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 富士通日立等離子顯示器股份有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H01J17/49 | 分類號(hào)： | H01J17/49;H01J17/02;H01J9/00 |
| 代理公司： | 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 龍淳 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 等離子體 顯示 面板 及其 制造 方法 | ||
1.一種等離子體顯示面板，其特征在于：
將放電氣體封入到前面?zhèn)然搴捅趁鎮(zhèn)然宓南鄬?duì)間隙中，在單方的基板的內(nèi)面上配置有將氣體封入空間劃分成放電單元排列的隔離壁，其特征在于：
所述隔離壁由上層隔離壁和下層隔離壁構(gòu)成，由對(duì)刻蝕的耐性相互不同的隔離壁材料構(gòu)成上層隔離壁和下層隔離壁。
2.如權(quán)利要求1所述的等離子體顯示面板，其特征在于：
所述上層隔離壁由對(duì)于形成所述下層隔離壁的刻蝕具有耐性的隔離壁材料構(gòu)成。
3.如權(quán)利要求2所述的等離子體顯示面板，其特征在于：
所述上層隔離壁是光透過層，所述下層隔離壁是光反射層。
4.如權(quán)利要求3所述的等離子體顯示面板，其特征在于：
所述上層隔離壁由低熔點(diǎn)玻璃構(gòu)成，所述下層隔離壁由鋁或銅構(gòu)成。
5.如權(quán)利要求3所述的等離子體顯示面板，其特征在于：
在所述前面?zhèn)然宓膬?nèi)面上設(shè)置有，發(fā)生面放電的多個(gè)電極、和覆蓋它的第1電介質(zhì)層，在所述背面?zhèn)然迳显O(shè)置有，在與所述面放電用的電極相交的方向上排列并發(fā)生地址放電的多個(gè)地址電極、和覆蓋它的具有光反射性的第2電介質(zhì)層，所述隔離壁設(shè)置在所述第2電介質(zhì)層上。
6.如權(quán)利要求2所述的等離子體顯示面板，其特征在于：
在所述前面?zhèn)然宓膬?nèi)面上設(shè)置有，發(fā)生面放電的多個(gè)電極、和覆蓋它的第1電介質(zhì)層，在所述背面?zhèn)然迳显O(shè)置有，在與所述面放電用的電極相交的方向上排列并發(fā)生地址放電的多個(gè)地址電極、和覆蓋它的第2電介質(zhì)層，所述隔離壁設(shè)置在所述第2電介質(zhì)層上。
7.如權(quán)利要求6所述的等離子體顯示面板，其特征在于：
所述第2電介質(zhì)層具有光反射性。
8.如權(quán)利要求1所述的等離子體顯示面板，其特征在于：
通過噴砂形成所述上層隔離壁，通過化學(xué)刻蝕形成所述下層隔離壁。
9.如權(quán)利要求1所述的等離子體顯示面板，其特征在于：
所述上層隔離壁是光透過層，所述下層隔離壁是光反射層。
10.如權(quán)利要求9所述的等離子體顯示面板，其特征在于：
所述上層隔離壁由低熔點(diǎn)玻璃構(gòu)成，所述下層隔離壁由鋁或銅構(gòu)成。
11.如權(quán)利要求9所述的等離子體顯示面板，其特征在于：
在所述前面?zhèn)然宓膬?nèi)面上設(shè)置有，發(fā)生面放電的多個(gè)電極、和覆蓋它的第1電介質(zhì)層，在所述背面?zhèn)然迳显O(shè)置有，在與所述面放電用的電極相交的方向上排列并發(fā)生地址放電的多個(gè)地址電極、和覆蓋它的具有光反射性的第2電介質(zhì)層，所述隔離壁設(shè)置在所述第2電介質(zhì)層上。
12.如權(quán)利要求1所述的等離子體顯示面板，其特征在于：
在所述前面?zhèn)然宓膬?nèi)面上設(shè)置有，發(fā)生面放電的多個(gè)電極、和覆蓋它的第1電介質(zhì)層，在所述背面?zhèn)然迳显O(shè)置有，在與所述面放電用的電極相交的方向上排列并發(fā)生地址放電的多個(gè)地址電極、和覆蓋它的第2電介質(zhì)層，所述隔離壁設(shè)置在所述第2電介質(zhì)層上。
13.如權(quán)利要求12所述的等離子體顯示面板，其特征在于：
所述第2電介質(zhì)層具有光反射性。
14.一種等離子體顯示面板的制造方法，是將放電氣體封入到前面側(cè)基板和背面?zhèn)然宓南鄬?duì)間隙中，在單方的基板的內(nèi)面上配置有將氣體封入空間劃分成放電單元排列的隔離壁的等離子體顯示面板的制造方法，其特征在于：
在形成所述隔離壁時(shí)，包含，
在形成于所述單方的基板的內(nèi)面上的電介質(zhì)層上，形成對(duì)于第1刻蝕具有耐性的第1隔離壁材料膜的工序；
在所述第1隔離壁材料膜上，形成對(duì)于第2刻蝕具有耐性的第2隔離壁材料膜的工序；
在所述第2隔離壁材料膜上，形成抗蝕劑圖案的工序；
將所述抗蝕劑圖案作為掩模，利用第1刻蝕對(duì)所述第2隔離壁材料膜進(jìn)行加工，并形成隔離壁的上層的工序；和
利用第2刻蝕對(duì)所述第1隔離壁材料膜進(jìn)行加工，并形成隔離壁的下層的工序。
15.如權(quán)利要求14所述的等離子體顯示面板的制造方法，其特征在于：
所述第1刻蝕是噴砂，所述第2刻蝕是化學(xué)刻蝕。
16.如權(quán)利要求14所述的等離子體顯示面板的制造方法，其特征在于：
所述第1和第2刻蝕均是化學(xué)刻蝕。
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