[發明專利]光刻設備和裝置制造方法

有效

• 申請號: 200710102532.6
• 申請日: 2007-05-14
• 公開（公告）號: CN101075097A
• 公開（公告）日: 2007-11-21
• 發明（設計）人: E·R·盧普斯特拉;J·J·奧坦斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 劉杰;王小衡

技術領域

本發明涉及一種物品支架，構造成支持針對光刻工藝目的尤其針對浸漬光刻工藝目的的物品。

背景技術

光刻設備是一種把預期圖案應用到襯底，通常是襯底目標部分的機器。光刻設備可以用于制作例如集成電路(IC)。在這種示例中，可以使用備選地稱為掩模或分劃板的構圖裝置，以產生將在IC單個層上形成的電路圖案。這個圖案可以被傳遞到襯底(例如硅晶片)的目標部分(例如包含部分、一個或多個管芯)。該圖案的傳遞通常是通過成像到設置于襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。通常，單個襯底會包括連續圖案化的相鄰目標部分的網絡。已知的光刻設備包括所謂的步進機(stepper)，其中將整個圖案曝光到目標部分一次以輻射各個目標部分，以及所謂的掃描器(scanner)，其中通過輻射束沿特定方向(“掃描”方向)掃描圖案，同時平行或反平行于這個方向同步掃描襯底，從而輻射各個目標部分。還可以通過將圖案壓印到襯底上而將圖案從構圖裝置傳遞到襯底。

在最近發展中，由于對成像分辨率越來越苛刻的要求，特別是在浸漬光刻的新領域，出現了日益增長的提供熱穩定物品例如將接收圖案化射束的襯底或分劃板的問題。這里，由于浸漬液體通過轉變到氣相而會導致熱學冷卻，因此難以實現熱穩定。因此，在需要穩定的物品內會形成相當大的局部熱梯度。另外或備選地，在物品的光刻處理過程中，由于對目標部分的隨后照射，該物品趨于被不均勻地加熱。這種不均勻可能形成導致物品局部變形的熱梯度。對于納米投影精度，這會形成導致聚焦和/或交疊誤差的問題。也就是說，由于熱變形，襯底和/或分劃板的表面彎曲偏離理想的投影平面，這會導致焦距喪失或者至少像平面有效側移，從而出現交疊問題。

發明內容

例如期望提供一種光刻設備，其中一個或多個這些熱問題得到解決并提供物品的改進熱穩定性。

根據本發明一個方面，提供了一種物品支架，其構造成支持針對光刻工藝目的的物品，所述物品支架包括布置成引導所述物品支架內的熱穩定介質從而為所述物品提供熱穩定的通道配置，其中所述通道配置包括輸入通道結構和輸出通道結構，所述輸入和輸出通道結構布置成巢狀配置并通過設置于所述物品支架表面上或附近的精細柵格結構而相互連接。

根據本發明一方面，提供了一種光刻設備，包括：

照明系統，配置成調整輻射束；

投影系統，配置成把構圖裝置圖案化的所述輻射束投影到襯底的目標部分；以及

物品支架，構造成支持所述構圖裝置、所述襯底或二者，所述物品支架包括布置成引導所述物品支架內的熱穩定介質從而為所述構圖裝置、所述襯底或二者提供熱穩定的通道配置，其中所述通道配置包括輸入通道結構和輸出通道結構，所述輸入和輸出通道結構布置成巢狀配置并通過設置于所述物品支架表面上或附近的精細柵格結構而相互連接。

根據本發明的一個方面，提供了一種浸漬光刻設備，包括：

照明系統，配置成調整輻射束；

投影系統，配置成把構圖裝置圖案化的所述輻射束投影到襯底的目標部分；

液體供給系統，配置成將液體供給到所述襯底和所述投影系統之間；以及

物品支架，構造成支持所述構圖裝置、所述襯底或二者，所述物品支架包括布置成引導所述物品支架內的熱穩定介質從而為所述構圖裝置、所述襯底或二者提供熱穩定的通道配置，其中所述通道配置包括輸入通道結構和輸出通道結構，所述輸入和輸出通道結構布置成巢狀配置并通過設置于所述物品支架表面上或附近的精細柵格結構而相互連接。

附圖說明

現在將僅以示例的方式參考所附示意性圖示描述本發明的實施例，附圖中相應的參考符號表示相應的部分，附圖中：

圖1描述了根據本發明一個實施例的光刻設備；

圖2描述了熱穩定物品的通道布置的第一配置；

圖3描述了熱穩定物品的通道布置的備選配置；

圖4示出了根據本發明一個實施例的襯底平臺的第一通道配置；

圖5示出了根據本發明一個實施例的襯底平臺的第二通道配置；

圖6和7示出了特別是圖4和5的通道結構的示意性剖面視圖；

具體實施方式

圖1示意性描述了根據本發明一個實施例的光刻設備。該設備包括：

照明系統(照明器)IL，配置成用于調整輻射束B(例如UV輻射)；

支架結構(例如掩模平臺)MT，配置成用于支持構圖裝置(例如掩模)MA，并連接到第一定位器PM以根據特定參數精確地定位構圖裝置；