[發(fā)明專利]曝光裝置及曝光方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710097997.7
• 申請(qǐng)日: 2007-04-29
• 公開（公告）號(hào): CN101105635A
• 公開（公告）日: 2008-01-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 厚見辰則;近藤俊之;中村剛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 日本精工株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;G03B27/14
• 代理公司: 北京泛誠知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 楊本良;文琦

1.一種曝光裝置，具有：

保持作為被曝光件的基板的工件裝載臺(tái)；

與所述基板相對(duì)配置并保持掩模的掩模裝載臺(tái)；

將圖案曝光用的光通過所述掩模照射到所述基板的照射單元；

使所述工件裝載臺(tái)和所述掩模裝載臺(tái)中的一個(gè)相對(duì)另一個(gè)沿水平方向及垂直方向相對(duì)移動(dòng)、以使所述掩模的掩模圖案與所述基板上的多個(gè)規(guī)定位置相對(duì)的輸送機(jī)構(gòu)；及

控制所述輸送機(jī)構(gòu)的控制裝置，

其特征在于，所述控制裝置控制所述輸送機(jī)構(gòu)，以使所述輸送機(jī)構(gòu)的所述水平方向的相對(duì)移動(dòng)和所述垂直方向的相對(duì)移動(dòng)同步。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述輸送機(jī)構(gòu)具有沿水平方向移動(dòng)所述工件裝載臺(tái)用的馬達(dá)；

在水平方向的相對(duì)移動(dòng)中，所述控制裝置根據(jù)所述馬達(dá)的狀態(tài)信號(hào)控制所述輸送機(jī)構(gòu)，以開始所述掩模和所述基板相互接近的所述垂直方向的相對(duì)移動(dòng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光裝置，其特征在于，

在所述水平方向的相對(duì)移動(dòng)中，當(dāng)所述馬達(dá)的旋轉(zhuǎn)速度減速到規(guī)定速度以下時(shí)，所述控制裝置控制所述輸送機(jī)構(gòu)，以開始所述掩模和所述基板相互接近的所述垂直方向的相對(duì)移動(dòng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，

所述控制裝置控制所述輸送機(jī)構(gòu)，以在到比曝光時(shí)的所述掩模和所述基板間的曝光間隙大的第一間隙之前，使所述水平方向的相對(duì)移動(dòng)與所述掩模和所述基板相互接近的所述垂直方向的相對(duì)移動(dòng)同步，而且，從所述第一間隙到所述曝光間隙，僅進(jìn)行所述掩模和所述基板相互進(jìn)一步接近的所述垂直方向的相對(duì)移動(dòng)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，

所述控制裝置控制所述輸送機(jī)構(gòu)，以從曝光時(shí)的所述掩模和所述基板間的曝光間隙到比該曝光間隙大的第二間隙，僅進(jìn)行所述掩模和所述基板相互遠(yuǎn)離的所述垂直方向的相對(duì)移動(dòng)，而且，越過所述第二間隙之后，使所述水平方向的相對(duì)移動(dòng)與所述掩模和基板相互進(jìn)一步遠(yuǎn)離的所述垂直方向的相對(duì)移動(dòng)同步。

6.一種使用權(quán)利要求1～3所述的曝光裝置的曝光方法，其特征在于，所述輸送機(jī)構(gòu)使所述水平方向的相對(duì)移動(dòng)和所述垂直方向的相對(duì)移動(dòng)同步地進(jìn)行。