[發明專利]用于制造光盤母盤的方法和裝置,用于制造光盤的方法

無效

• 申請號: 200710096532.X
• 申請日: 2007-04-11
• 公開（公告）號: CN101055742A
• 公開（公告）日: 2007-10-17
• 發明（設計）人: 白鷺俊彥
• 申請（專利權）人: 索尼株式會社
• 主分類號: G11B7/26
• 分類號: G11B7/26
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 杜娟

相關申請的交叉引用?

本發明包含與2006年4月11日在日本專利局提交的日本專利申請JP2006-108843有關的主題，其全部內容在此引入以供參考。?

技術領域

本發明涉及用于制造將用于制造光盤的光盤母盤(optical?diskmaster)的方法，用于制造光盤的方法以及用于制造光盤母盤的裝置。?

背景技術

為生成僅重放的光盤(其中，由所謂的壓印凹坑(emboss?pit)形成凹坑串)，在其生成過程中，首先，制備具有對應于凹坑串的不平(uneven)圖案的光盤母盤。接著，由該光盤母盤形成壓模(stamper)，以及通過使用該壓模，批量制造光盤。?

在允許通過相變記錄系統或染料改變記錄系統記錄和重放用戶數據的可記錄光盤(所謂可重寫盤或一次寫入盤)中，設置了構成記錄軌道的凹槽(groove)。為生成這種光盤，在其生成過程中，首先，制備具有對應于凹槽的不平圖案的光盤母盤。接著，由光盤母盤形成壓模，以及通過使用壓模，批量制造光盤(參見國際專利申請WO2004/047096小冊子)。?

發明內容

關于用于生成光盤母盤的過程、即所謂的母盤制造過程(mastering?process)，近年來，已知通過使用無機抗蝕劑的、稱為相變母盤制造(PTM，phase?transition?mastering)的母盤制造技術。

在PTM中，將來自半導體激光器的激光應用于涂有無機抗蝕劑(resist)的母盤形成基片，由此，通過熱感記錄(thermal?recording)來執行曝光。?

在通過使用無機抗蝕劑的母盤制造過程中，各個母盤(具有無機抗蝕劑層的母盤形成基片)在記錄靈敏度方面有變化(variation)。因此，采用通過使用除實際用于母盤制造記錄以外的區域、例如在母盤形成基片上的曝光圖案記錄區外部或內部的區域執行測試寫入，來確定最佳記錄激光功率的技術，以便處理各個母盤形成基片的記錄靈敏度的變化。?

然而，具有無機抗蝕劑層的母盤形成基片不僅具有個體變化，而且例如在從內周到外周上，在甚至一個母盤形成基片上，在平面內的記錄靈敏度方面也有變化。?

在抗蝕劑膜是無機熱感記錄材料的情況下，通常，通過例如濺射方法形成薄膜。根據目標材料的材料屬性(混合比、組成材料的濺射率以及制造方法)和濺射裝置的特性，例如腔室形狀、排氣性能(屬性)、TS距離(目標和基片間的距離)、磁體形狀、磁場強度分布、真空度、Ar氣流速以及薄膜形成壓力，產生內周和外周間的抗蝕劑膜的薄膜質量的差異。即使當薄膜厚度均勻時，也難以保持薄膜質量的面內均勻性(in-plane?uniformity)。?

根據所使用的目標材料的用量(電功率的積分量)，也細微地改變記錄靈敏度以及靈敏度的面內均勻性。?

在高密度盤、例如藍光盤(注冊商標，由Sony?Corporation生產)的母盤制造中，面內記錄靈敏度的上述變化對其記錄特性(凹坑和凹槽的精度)產生影響并導致問題。?

即使當考慮面內變化，以及通過在曝光圖案記錄區外執行測試寫入(測試記錄)來檢驗記錄靈敏度時，可以粗略地估計將用于記錄的整個區域的靈敏度。因此，當目標壽命或無機抗蝕劑母盤間發生變化時，可能改變靈敏度的面內均勻性(內周和外周間的差異)以及可能改變待曝光和記錄的信號特性。

即，當具有無機抗蝕劑層的母盤形成基片的內周到外圍的記錄靈敏度不均勻時，如果在整個信號區上，利用通過在內周部分或外周部分使用測試寫入來檢驗記錄靈敏度而獲得的恒定功率執行記錄，在內周和外周間會產生記錄信號特性差異。?

因此，期望根據具有無機抗蝕劑層的母盤形成基片的內周到外周的記錄靈敏度的變化，通過適當的激光功率執行母盤制造記錄(mastering?recording)。?

根據本發明的實施例的用于制造光盤母盤的方法包括步驟：作為反射率測量步驟，通過將激光施加到具有無機抗蝕劑層的光盤母盤形成基片的多個半徑位置的每一個，測量激光的反射率，該激光具有小于無機抗蝕劑層的記錄靈敏度的非記錄激光功率；作為控制數據生成步驟，通過使用在多個半徑位置測量的反射率，生成根據光盤母盤形成基片的半徑位置指示記錄激光功率的記錄功率控制數據；作為記錄步驟，通過將激光施加到光盤母盤形成基片，同時基于記錄功率控制數據，根據半徑位置改變記錄功率，在無機抗蝕劑層上形成曝光圖案；以及作為顯影步驟，顯影具有記錄步驟中的曝光圖案的無機抗蝕劑層，以便制備不平圖案。?