[發(fā)明專利]傳送式濕處理裝置及基板處理方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710090864.7
• 申請日: 2007-04-10
• 公開（公告）號: CN101055831A
• 公開（公告）日: 2007-10-17
• 發(fā)明（設計）人: 李德興;林嘉尉;詹德寶;周頌宜;楊名顯
• 申請（專利權）人: 統(tǒng)寶光電股份有限公司
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;H01L21/30;H01L21/306;H01L21/67;H01L21/677
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 陶鳳波

1、一種傳送式濕處理裝置，用來處理基板，該傳送式濕處理裝置包括：

傳送式清洗系統(tǒng)；以及

旋轉式濕處理單元，連接到該傳送式清洗系統(tǒng)。

2、如權利要求1所述的傳送式濕處理裝置，還包括：

載臺，用來儲存基板；以及

機器手，安裝于該載臺中，其中該機器手把基板從該載臺傳遞到該傳送式清洗系統(tǒng)。

3、如權利要求2所述的傳送式濕處理裝置，該傳送式清洗系統(tǒng)包括：

前期清洗單元，配置于該載臺與該旋轉式濕處理單元之間；

后期清洗單元，連接到該旋轉式濕處理單元；以及

傳送帶，配置于該前期清洗單元與該后期清洗單元中，其中該傳送帶把基板從該前期清洗單元依次傳遞到該旋轉式濕處理單元和該后期清洗單元。

4、如權利要求3所述的傳送式濕處理裝置，該前期清洗單元包括準分子紫外線清洗單元。

5、如權利要求3所述的傳送式濕處理裝置，該后期清洗單元包括刷洗單元、濕傳送帶、空穴射流單元、超聲波單元、或者其組合。

6、一種傳送式濕處理裝置，用來處理基板，該傳送式濕處理裝置包括：

載臺，用來儲存基板；

旋轉式濕處理單元；

傳送式清洗系統(tǒng)，連接到該旋轉式濕處理單元，其中該傳送式清洗系統(tǒng)的特征在于其包括：

前期清洗單元，配置于該載臺與該旋轉式濕處理單元之間；

后期清洗單元，連接到該旋轉式濕處理單元；以及

干燥單元，連接到該后期清洗單元；

傳送帶，配置于該前期清洗單元、該后期清洗單元、以及該干燥單元中，其中該傳送帶把基板從該前期清洗單元依次傳遞到該旋轉式濕處理單元、該后期清洗單元、以及該干燥單元；以及

機器手，安裝于該載臺內(nèi)，其中該機器手把基板從該載臺傳遞到該傳送式清洗系統(tǒng)。

7、如權利要求6所述的傳送式濕處理裝置，該前期清洗單元包括準分子紫外線清洗單元。

8、如權利要求6所述的傳送式濕處理裝置，該后期清洗單元包括刷洗單元、濕傳送帶、空穴射流單元、超聲波單元、或者其組合。

9、如權利要求6所述的傳送式濕處理裝置，該干燥單元包括氣刀。

10、如權利要求1所述的傳送式濕處理裝置，該旋轉式濕處理單元包括蝕刻機、剝離機、或者顯影機。

11、一種基板處理方法，包括：

用傳送式清洗系統(tǒng)對基板執(zhí)行清洗處理；以及

用連接到該傳送式清洗系統(tǒng)的旋轉式濕處理單元對基板執(zhí)行濕處理。

12、如權利要求11所述的基板處理方法，該清洗處理包括：

用前期清洗單元對基板執(zhí)行前期清洗處理；

執(zhí)行完該濕處理之后用后期清洗單元對基板執(zhí)行后期清洗處理；以及

用連接到該后期清洗單元的干燥單元對基板執(zhí)行干燥處理。

13、如權利要求11所述的基板處理方法，該濕處理包括微蝕刻處理、濕蝕刻處理、剝離處理或者顯影處理。