[發明專利]氟化氣體消除裝置及消除方法

無效

• 申請號: 200710090415.2
• 申請日: 2007-04-06
• 公開（公告）號: CN101279187A
• 公開（公告）日: 2008-10-08
• 發明（設計）人: 嚴桓燮
• 申請（專利權）人: 嚴桓燮
• 主分類號: B01D53/70
• 分類號: B01D53/70;B01D53/74;H05H1/00;B01J19/12;F23G7/06
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司
• 代理人: 顧晉偉;劉繼富

1.?氟化氣體消除裝置，包含：

從電源供應部接受電力而發振電磁波的電磁管；

傳送從上述電磁管發振的電磁波，吸收往電磁波反射的反射波的循環器；

監控通過上述循環器傳送的電磁波強度為入射波和反射波的方向性結合器；

對從上述方向性結合器流入的電磁波，調節入射波和反射波強度來符合電阻的短線調節器；

從上述短線調節器傳送的電磁波流入的導波管；

貫通上述導波管來相結合，被通過上述導波管輸入的電磁波及從外部注入的渦流氣體來產生等離子體氣體的放電管；

連接在上述放電管一端，往上述放電管提供渦流氣體的供應部；

布置在放電管內，為了在上述放電管內產生等離子體而提供初期電子的點火部；及

與上述放電管另一端相連接，向在上述放電管內生成的等離子體提供燃料及廢氣體的燃料及廢氣供應部。

2.?根據權利要求1的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述放電管為從導波管終端相隔電磁波波長1/8～1/2距離，垂直貫通導波管。

3.?根據權利要求1的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述氣體供應部連接在上述放電管一端，在上述放電管內提供連續空間的第1模塊；及包括貫通上述第1塊，在第1塊內部形成的空間提供注入渦流氣體的路徑的注入口至少一個。

4.?根據權利要求1的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述渦流氣體為空氣、氧氣、氮氣、氬其中的任何一個或者是兩個以上氣體。

5.?根據權利要求1的氟化氣體消除裝置，其特征在于，包含：上述燃料及廢氣體供應部與上述放電管的另一端相連，向上述放電管的內部提供連續性空間的第2模塊；貫通上述第2模塊而形成，向上述第2模塊內部供應燃料及廢氣體通路的氣體注入口至少一個；連接在上述氣體注入口混合燃料及廢氣體的氣體混合裝置。

6.?根據權利要求5的氟化氣體消除裝置，其特征在于，包含：具有一定長度管的上述氣體混合裝置；布置在上述管內混合上述燃料及廢氣體的混合材料。

7.?根據權利要求6的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述混合材料為網或者是珠子。

8.?根據權利要求7的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述混合材料由鐵或者是鎢構成。

9.?根據權利要求5的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述第2模塊由金屬組成。

10.?根據權利要求5的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述第2模塊是包含著由金屬或者是金屬合金構成的被覆層。

11.?根據權利要求5的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述燃料及廢氣體供應部為供應液態或氣態氫氣或者是碳化氫燃料。

12.?根據權利要求5的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述氣體注入口為從第2模塊外側越往內側，往上述放電管方向傾斜設置。

13.?根據權利要求5的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述氣體注入口為對上述第2模塊圓柱方向以相互等角度間距，設置多數個氣體注入口。

14.?根據權利要求5的氟化氣體消除裝置，其特征在于，對上述第2模塊長度方向，在相異位置設置有多數個氣體注入口。

15.?根據權利要求1的氟化氣體消除裝置，其特征在于，還具備著，連接在上述燃料及廢氣體供應部，把在半導體制造工程中生成的廢氣體，往上述燃料及廢氣體供應部供應的真空泵。

16.?根據權利要求15的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述真空泵每分鐘排放5～60升氮氣體。

17.?根據權利要求1的氟化氣體消除裝置，其特征在于，利用等離子體中心溫度為4500～6500℃的高溫等離子體火焰。

18.?根據權利要求1的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述磁電管產生10MHz～10GHz電磁波。

19.?根據權利要求18的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述磁電管產生2.45GHz電磁波。