[發(fā)明專利]氟化氣體消除裝置及消除方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710090415.2
• 申請(qǐng)日: 2007-04-06
• 公開（公告）號(hào): CN101279187A
• 公開（公告）日: 2008-10-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 嚴(yán)桓燮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 嚴(yán)桓燮
• 主分類號(hào): B01D53/70
• 分類號(hào): B01D53/70;B01D53/74;H05H1/00;B01J19/12;F23G7/06
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 顧晉偉;劉繼富

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明是有關(guān)利用高溫等離子體火焰，對(duì)半導(dǎo)體洗滌廢氣體的處理裝置的技術(shù)。

背景技術(shù)

地球溫暖化主犯中的一個(gè)是在尖端產(chǎn)業(yè)中所使用的產(chǎn)業(yè)氣體。其代表性的氣體就是氟化系列氣體。比如，這些氣體一旦排放到大氣中，就會(huì)長(zhǎng)期存在于大氣中，阻斷應(yīng)該從地表面上排放的紅外線，起著提高地表大氣溫度的溫室氣體的效果。

所以，國(guó)際上正強(qiáng)化對(duì)產(chǎn)業(yè)中使用的氟化系列氣體在排放到大氣之前應(yīng)完全被破壞的國(guó)際規(guī)制。隨著京都議定書從2005年2月16日開始發(fā)效，減少溫室氣體不僅僅是環(huán)境規(guī)制，也可以說是經(jīng)濟(jì)規(guī)制，對(duì)國(guó)家經(jīng)濟(jì)有很大的影響。

在這樣的背景下，在很多方面對(duì)消除氟化系列氣體進(jìn)行著研究。其中一個(gè)研究就是利用等離子體，把分子離子化生成另一種無害分子所排放。

以有的技術(shù)是利用RF?Source除去真空中的這些分子。如果在真空中除去這些分子，即使是一個(gè)成功的方法也是，因?yàn)楦街谡婵罩袑?shí)施的半導(dǎo)體流程線，所以存在著這些RF裝備可能會(huì)導(dǎo)致阻礙其他半導(dǎo)體工程裝備的順利進(jìn)行或者完全癱瘓等問題。

以至于，要求與半導(dǎo)體工程流程線無關(guān)可在真空外的大氣中消除操作的裝置。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要達(dá)到的技術(shù)性課題是提供氟化氣體消除裝置，是用電磁波供應(yīng)能量產(chǎn)生等離子體后，給所產(chǎn)生的電磁波等離子體供應(yīng)氣態(tài)或是液態(tài)氫氣，或者是碳化氫燃料，利用所產(chǎn)生的高溫等離子體火焰消除產(chǎn)業(yè)體中排放的氟化氣體。

并且，本發(fā)明的另一個(gè)目的在于，制作高溫等離子體火焰，利用其火焰把電腦或者是半導(dǎo)體等尖端產(chǎn)業(yè)中使用的氟化氣體破壞的消除方法的提供。

為了達(dá)到如上述目的，為消除已有技術(shù)的缺點(diǎn)而進(jìn)行的本發(fā)明中提供的氟化氣體消除裝置包括有，從電源供應(yīng)部得到電力而產(chǎn)生電磁波的磁電管，傳送從上述磁電管發(fā)生的電磁波和吸收反射到磁電管的反射波的循環(huán)機(jī)，把從被上述循環(huán)機(jī)傳送的電磁波的強(qiáng)度監(jiān)測(cè)為入射波和反射波的方向性結(jié)合器，

對(duì)于從上述方向性結(jié)合器引入的電磁波，調(diào)節(jié)入射波和反射波的強(qiáng)度，調(diào)整電阻的短線調(diào)節(jié)器；從上述短線調(diào)節(jié)器傳送的電磁波被輸入的導(dǎo)波管；

串通導(dǎo)波管而結(jié)合，并通過上述導(dǎo)波管輸入的電磁波及從外部輸入的渦流氣體產(chǎn)生等離子體的放電管；連接在上述放電管一端，往上述放電管供應(yīng)渦流氣體的渦流氣體供應(yīng)部；布置在上述放電管內(nèi)部，為在上述放電管內(nèi)產(chǎn)生等離子體而供應(yīng)初期電子的點(diǎn)火部；連接在上述放電管另一端，往上述放電管內(nèi)形成的等離子體，供應(yīng)燃料及廢氣體的燃料及廢氣體供應(yīng)部。

并且本發(fā)明，對(duì)含有氟化氣體的廢氣體處理方法上，提供的廢氣體處理的方法特征包含有，把廢氣體倒入放電管內(nèi)，暴露在從電磁管中產(chǎn)生的電磁波的階段；利用上述電磁波在放電管形成等離子體火把，把上述廢氣體暴露在電磁波火把中氧化形成副產(chǎn)物的階段。

附圖說明

圖1是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施的氟化氣體消除裝置構(gòu)成的示意圖。

圖2是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施的氟化氣體消除裝置的一部分結(jié)構(gòu)正斷面示意圖。

圖3是在圖2中所示的廢氣體及燃料注入口的排列結(jié)構(gòu)的正斷面示意圖。

圖4及圖5是在圖2中所示廢氣體及燃料注入口的另一個(gè)排列結(jié)構(gòu)的正斷面示意圖

圖6是，根據(jù)發(fā)明實(shí)施例，利用紅外線分光分析器(FTIR)測(cè)定通過氟化氣體處理裝置前三氟化氮(NF₃)的濃度變化的分析結(jié)果波普示意圖

圖7是，根據(jù)發(fā)明實(shí)施例，利用紅外線分光分析器(FTIR)測(cè)定通過氟化氣體處理裝置后的濃度變化三氟化氮(NF₃)的分析結(jié)果波普示意圖

圖8是，根據(jù)發(fā)明實(shí)施例，通過氟化氣體處理裝置前六氟化磺(SF₆)的濃度變化的FTIR波普示意圖

圖9是，根據(jù)發(fā)明實(shí)施例，通過氟化氣體處理裝置后六氟化磺(SF₆)的濃度變化的FTIR波普示意圖

圖10是，根據(jù)氮含量的SF₆的分解效率示意圖表

圖11是，根據(jù)發(fā)明實(shí)施例，通過氟化氣體處理裝置前四氟化碳(CF4)的濃度變化的FTIR波普示意圖

圖12是，根據(jù)發(fā)明實(shí)施例，通過氟化氣體處理裝置后四氟化碳(CF4)的濃度變化的FTIR波普示意圖

圖13是，根據(jù)氮含量的四氟化碳(CF₄)的分解效率示意圖表。

具體實(shí)施方式