[發明專利]注射泵、基板處理裝置以及基板處理方法有效
| 申請號: | 200710088631.3 | 申請日: | 2007-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN101053861A | 公開(公告)日: | 2007-10-17 |
| 發明(設計)人: | 福地毅;高木善則 | 申請(專利權)人: | 大日本網目版制造株式會社 |
| 主分類號: | B05C11/10 | 分類號: | B05C11/10;B05B9/04 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產權代理有限公司 | 代理人: | 徐恕 |
| 地址: | 日本京都*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 注射 處理 裝置 以及 方法 | ||
技術領域
本發明涉及用于輸送并供給光致抗蝕液等處理液的注射泵、通過該注射泵輸送供給處理液并向基板的表面涂布處理液的基板處理裝置、以及基板處理方法。
背景技術
一直以來,公知有這樣的基板處理裝置:在液晶顯示裝置用玻璃基板、半導體晶片、薄膜液晶用柔性基板、光掩模用基板、彩色過濾器用基板等各種基板的制造工序中,在基板的表面上供給光致抗蝕液等處理液。這種基板處理裝置具有用于輸送并供給處理液的泵。作為泵,雖然使用注射泵(活塞泵)、波紋管泵(bellows?pump)、齒輪泵、隔膜泵、或者管式泵等,其中,注射泵的噴出響應性和恒流量性優越,所以在基板處理裝置中使用較多。
關于具有注射泵的現有的基板處理裝置,例如公開在專利文獻1中。
專利文獻1:JP特開2005-246201號公報。
如專利文獻1記載的那樣,注射泵具有缸體和活塞,通過在缸體內使活塞進退來將缸體內的處理液向下游側輸送。但是,在這種注射泵中,存在這樣的情況:在使活塞后退(拉)時,附著在活塞側面的處理液與活塞一起露在缸體的外部而固化。并且,還存在這樣的情況:再次使活塞前進(推)時,由于處理液的固化而產生的顆粒混入到缸體內的處理液中。雖然在缸體和活塞的滑動接觸部分設置有密封部件,但是,很難完全防止附著在活塞側面的處理液與活塞一起露到外部。
此外,在注射泵中,為了在缸體內順暢地進行活塞的進退運動,并且,為了防止在缸體和活塞之間設置的密封部件磨損惡化,要求總是保持著活塞和密封部件之間的潤滑性。
發明內容
本法明是鑒于這種問題而提出的,其目的在于提供一種注射泵、使用了注射泵的基板處理裝置、以及基板處理方法,除去附著在活塞側面的處理液和顆粒,并且能夠保持活塞和密封部件之間的潤滑性。
為了解決上述課題,第一發明是一種用于輸送處理液的注射泵,其特征在于,具有:中空的缸體,其具有吸引所述處理液的吸引孔和噴出所述處理液的噴出孔;隔離部件,其將所述缸體的內部空間隔成第一室和第二室,并且具有在所述缸體的前后方向上貫通的第一貫通孔,其中,該第一室與所述吸引孔和所述噴出孔相連通,該第二室相比所述第一室而形成在所述缸體的后部側;后端部件,其配置在所述缸體的后端部,構成所述第二室的外壁的一部分,并具有在所述缸體的前后方向上貫通的第二貫通孔;活塞,其插入到所述第一貫通孔以及所述第二貫通孔中,活塞的前端部配置在所述第一室的內部,并且,其后端部相比所述缸體的后端部而配置在所述缸體的外側;驅動部,其使所述活塞在所述缸體的前后方向上進行進退;第一密封部件,其將所述第一貫通孔的內側面和所述活塞的側面之間密封,并使所述第一貫通孔的內側面和所述活塞的側面之間自由滑動接觸;第二密封部件,其將所述第二貫通孔的內側面和所述活塞的側面之間密封,并使所述第二貫通孔的內側面和所述活塞的側面之間自由滑動接觸;液體供給裝置,其在所述第二室的內部向所述活塞的側面供給規定的液體;液體排出裝置,其從所述第二室排出所述規定的液體。
第二發明是如第一發明所述的注射泵,其特征在于,所述活塞不與所述缸體的內側面滑動接觸而在所述缸體的前后方向上進行進退,通過使所述第一室的體積發生變化,從而使所述處理液從所述噴出孔噴出。
第三發明是如第二發明的注射泵,其特征在于,所述液體供給裝置,通過在所述第二室內貯存所述規定的液體,來向所述活塞的側面供給所述規定的液體。
第四發明是如第二發明所述的注射泵,其特征在于,所述液體供給裝置,朝向在所述第二室內配置的所述活塞的側面噴出所述規定的液體。
第五發明是如第三或第四發明所述的注射泵,其特征在于,所述規定的液體是所述處理液的溶媒或者所述處理液。
第六發明是如第三或第四發明所述的注射泵,其特征在于,還具有:氣體供給裝置,其在所述第二室內向被供給了所述規定的液體的所述活塞的側面供給規定的氣體;氣體排出裝置,其從所述第二室排出所述規定的氣體。
第七發明是如第三或第四發明所述的注射泵,其特征在于,在所述活塞的側面中,至少與所述第一密封部件以及所述第二密封部件滑動接觸的部分為高原構造表面。
第八發明是如第七發明所述的注射泵,其特征在于,所述高原構造表面的輪廓的支承長度率Rmr(c),在輪廓的最大高度Rz的50%的斷面高度c下,為Rmr(c)≥70%,其中,該輪廓的支承長度率Rmr(c)是在與國際標準ISO4287對應的JISB0601中規定的輪廓的支承長度率Rmr(c)。
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